本申请公开了一种校准片。校准片包括本体，在本体上设置有至少两个校准区域，至少两个校准区域用于校准光学测量系统的对焦位置、校准光学测量系统的反射率检测精度、校准光学测量系统检测的光斑、校准光学测量系统的关键尺寸、校准光学测量系统的台阶检测精度、校准光学测量系统的膜厚检测精度、及校准光学测量系统的偏差检测精度中的至少两个。本申请实施方式的校准片由于本体设置了至少两个校准区域，以使校准片能够校准光学测量系统的对焦位置、反射率检测精度、检测的光斑、关键尺寸、台阶检测精度、膜厚检测精度及偏差检测精度中的至少两个，从而减少了在对光学测量系统进行校准工作时，需要校准片的数量，以降低校准光学测量系统的成本。测量系统的成本。测量系统的成本。
【技术实现步骤摘要】
校准片
[0001]本申请涉及晶圆校准
，更具体而言，涉及一种校准片。
技术介绍
[0002]随着半导体制程工艺的不断发展，量测设备在其中扮演的角色越来越重要，保证半导体量测的准确性同样极为重要，而保证量测的准确性需要依赖于标准片对设备进行定期校准。现有的技术中，对于量测设备不同的检测功能，往往需要对应使用多片校准片分别进行校准，导致校准片的成本较高。
技术实现思路
[0003]本申请实施方式提供一种校准片。
[0004]本申请实施方式的校准片包括本体，在所述本体上设置有至少两个校准区域，至少两个所述校准区域用于校准光学测量系统的对焦位置、校准所述光学测量系统的反射率检测精度、校准所述光学测量系统检测的光斑、校准所述光学测量系统的关键尺寸、校准所述光学测量系统的台阶检测精度、校准所述光学测量系统的膜厚检测精度、及校准所述光学测量系统的偏差检测精度中的至少两个。
[0005]在某些实施方式中，所述校准区域包括第一校准区域，所述第一校准区域用于校准所述对焦位置，所述第一校准区域的中心与所述本体的中心重合，所述第一校准区域内设置有两个第一矩阵及两个第二矩阵，所述第一矩阵和所述第二矩阵中的图形不同，所述第一校准区域为矩形，两个所述第一矩阵和两个所述第二矩阵分别位于所述第一校准区域内两条对角线上。
[0006]在某些实施方式中，所述第一矩阵包括多个正方形，多个所述正方形等间距排布；所述第二矩阵分别由多个最小重复单元组成，所述最小重复单元包括多个长方形，沿所述长方形的宽度方向，所述长方形的宽度逐渐减小。
[0007]在某些实施方式中，两个所述第二矩阵的所述最小重复单元中的所述长方形的长边垂直。
[0008]在某些实施方式中，所述校准区域包括第二校准区域，所述第二校准区域用于校准所述反射率检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第二校准区域位于所述第三区，所述第二校准区域包括第一凹槽，所述第一凹槽的底部的反射率为预定反射率。
[0009]在某些实施方式中，所述校准区域包括第三校准区域，所述第三校准区域用于校准光斑，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第三校准区域位于所述第一区、所述第二区和所述第三区，所述第三校准区域包括多个第二凹槽，多个所述第二凹槽分别设置在所述第一区、所述第二区和所述第三区。
[0010]在某些实施方式中，所述第二凹槽包括第一部和第二部，所述第一部沿第一方向延伸，所述第二部沿所述第二方向延伸，所述第一方向平行所述第一区和所述第二区的连接线，所述第二方向平行所述第二区和所述第三区的连接线。
[0011]在某些实施方式中，所述校准区域包括第四校准区域，所述第四校准区域用于校准所述关键尺寸，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第四校准区域的中心位于所述第一区和所述第四区的连接线上，所述第四校准区域内设置有第三矩阵，所述第三矩阵包括多个矩形，多个矩形等间距排列。
[0012]在某些实施方式中，所述校准区域包括第五校准区域，所述第五校准区域用于校准所述台阶检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第五校准区域位于所述第三区和所述第四区的连接线上，所述第五校准区域包括多个第一凸台，多个所述第一凸台依次设置在所述第三区和所述第四区的连接线上，所述第一凸台关于所述第三区和所述第四区的连接线轴对称。
[0013]在某些实施方式中，所述第一凸台的高度为预定高度，所述第一凸台包括相背的第一顶面和第一底面，所述第一底面设置在所述本体与所述第一凸台相对的表面，所述第一凸台的高度为所述第一顶面和所述第一底面之间的距离。
[0014]在某些实施方式中，所述校准区域包括第六校准区域，所述第六校准区域用于校准所述膜厚检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第六校准区域位于所述第二区和所述第四区，所述第六校准区域包括多个第二凸台，多个所述第二凸台分别设置在所述第二区和所述第四区，相对的两个所述第二凸台关于所述本体的中心呈中心对称。
[0015]在某些实施方式中，所述第二凸台的厚度为预定厚度，所述第二凸台包括相背的第二顶面和第二底面，所述第二底面设置在所述本体与所述第二凸台相对的表面，所述第二凸台的厚度为所述第二顶面和所述第二底面之间的距离。
[0016]在某些实施方式中，所述校准区域包括第七校准区域，所述第七校准区域用于校准所述偏移检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第七校准区域位于所述第一区和所述第二区，所述第七校准区域内设置有多个第四矩阵，多个所述第四矩阵分别设置在所述第一区、所述第一区和所述第二区的连接线上，所述第一区和所述第二区的连接线上的所述第四矩阵关于所述第一区和所述第二区的连接线对称。
[0017]在某些实施方式中，所述第四矩阵包括多个第三凹槽，多个所述第三凹槽等间距分布，所述第三凹槽在平行所述本体的平面上的投影由第一圆和第二圆组成，所述第一圆的圆心与所述第二圆的圆心之间的圆心距为预定圆心距。
[0018]本申请实施方式校准片中，由于本体设置了至少两个校准区域，且至少两个校准区域能校准光学测量系统的对焦位置、反射率检测精度、检测的光斑、关键尺寸、台阶检测精度、膜厚检测精度及偏差检测精度中的至少两个，从而减少了在对光学测量系统进行校
准工作时，更换校准片的次数，一方面，以提高了校准光学测量系统的效率，另一方面，减少了校准片的数量，从而降低了校准光学测量系统的成本。
[0019]本申请的实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实施方式的实践了解到。
附图说明
[0020]本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0021]图1是本申请某些实施方式的校准片的平面示意图；
[0022]图2是本申请某些实施方式的校准片的第一校准区域的平面示意图；
[0023]图3是本申请某些实施方式的第三校准区域的第二凹槽的平面示意图；
[0024]图4是本申请某些实施方式的第四校准区域的放大示意图；
[0025]图5是本申请某些实施方式的第五校准区域的第一台阶的平面示意本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种校准片，其特征在于，包括本体，在所述本体上设置有至少两个校准区域，至少两个所述校准区域用于校准光学测量系统的对焦位置、校准所述光学测量系统的反射率检测精度、校准所述光学测量系统检测的光斑、校准所述光学测量系统的关键尺寸、校准所述光学测量系统的台阶检测精度、校准所述光学测量系统的膜厚检测精度、及校准所述光学测量系统的偏差检测精度中的至少两个。2.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第一校准区域，所述第一校准区域用于校准所述对焦位置，所述第一校准区域的中心与所述本体的中心重合，所述第一校准区域内设置有两个第一矩阵及两个第二矩阵，所述第一矩阵和所述第二矩阵中的图形不同，所述第一校准区域为矩形，两个所述第一矩阵和两个所述第二矩阵分别位于所述第一校准区域内两条对角线上。3.根据权利要求2所述的校准片，其特征在于，所述第一矩阵包括多个正方形，多个所述正方形等间距排布；所述第二矩阵分别由多个最小重复单元组成，所述最小重复单元包括多个长方形，沿所述长方形的宽度方向，所述长方形的宽度逐渐减小。4.根据权利要求3所述的校准片，其特征在于，两个所述第二矩阵的所述最小重复单元中的所述长方形的长边垂直。5.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第二校准区域，所述第二校准区域用于校准所述反射率检测精度，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第二校准区域位于所述第三区，所述第二校准区域包括第一凹槽，所述第一凹槽的底部的反射率为预定反射率。6.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第三校准区域，所述第三校准区域用于校准光斑，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连接，所述第三校准区域位于所述第一区、所述第二区和所述第三区，所述第三校准区域包括多个第二凹槽，多个所述第二凹槽分别设置在所述第一区、所述第二区和所述第三区。7.根据权利要求6所述的校准片，其特征在于，所述第二凹槽包括第一部和第二部，所述第一部沿第一方向延伸，所述第二部沿所述第二方向延伸，所述第一方向平行所述第一区和所述第二区的连接线，所述第二方向平行所述第二区和所述第三区的连接线。8.根据权利要求1所述的校准片，其特征在于，所述校准区域包括第四校准区域，所述第四校准区域用于校准所述关键尺寸，所述本体包括环绕所述本体的中心的第一区、第二区、第三区和第四区，所述第一区、所述第二区、所述第三区和所述第四区关于所述本体的中心呈中心对称并连...
【专利技术属性】
技术研发人员：张朝前，马砚忠，李少雷，谢煜华，白园园，陈鲁，张嵩，
申请(专利权)人：深圳中科飞测科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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