本实用新型专利技术涉及硅片加工技术领域，且公开了一种用于硅片清洗过后的烘干装置，包括座台，所述座台的顶部固定连接有滑架，所述座台的底部固定连接有伺服电机，所述滑架的内部设有驱动螺杆。该用于硅片清洗过后的烘干装置，通过设置滑架、伺服电机、驱动螺杆、限位滑杆、下压板、推臂、连接座、导向杆、第一弹簧、滑板、连接臂、转辊、吸水棉、烘干机和放置槽，将待烘干的硅片放置在放置槽中，第二弹簧被压缩，硅片被两个夹板夹持，启动伺服电机使得驱动螺杆转动，下压板下移并通过推臂推动连接臂左移，转辊带动吸水棉滚动并且对硅片表面的水珠水滴进行擦干，同时烘干机伴随着转辊同时左移，解决了当前硅片烘干耗时过长的问题。解决了当前硅片烘干耗时过长的问题。解决了当前硅片烘干耗时过长的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种用于硅片清洗过后的烘干装置
[0001]本技术涉及硅片加工
，具体为一种用于硅片清洗过后的烘干装置。
技术介绍
[0002]半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。
[0003]当前的硅片在清洗完毕后，需要进行烘干处理，由于清洗过后的硅片残留有水珠和水滴，且烘干设备中各个硅片间的间距过小，使得硅片的表面难以变干，受到空间以及距离烘干机出风口距离的影响，各个硅片表面的烘干时长不一，需要耗费较长的时间。
技术实现思路
[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本技术提供了一种用于硅片清洗过后的烘干装置，具备可快速，有效地对硅片表面的水珠与水滴进行清理，加快单个硅片烘干的优点，解决了当前硅片烘干耗时过长的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现上述可快速，有效地对硅片表面的水珠与水滴进行清理，加快单个硅片烘干的目的，本技术提供如下技术方案：一种用于硅片清洗过后的烘干装置，包括座台，所述座台的顶部固定连接有滑架，所述座台的底部固定连接有伺服电机，所述滑架的内部设有驱动螺杆，所述驱动螺杆的顶端与滑架的内顶壁转动连接，所述驱动螺杆与滑架的内底壁转动连接，所述驱动螺杆与座台转动连接，所述驱动螺杆的底端与伺服电机的输出端固定连接，所述滑架的内部固定连接有限位滑杆，所述限位滑杆的顶端与滑架的内顶壁固定连接，所述限位滑杆的底端与滑架的内底壁固定连接，所述驱动螺杆上传动连接有下压板，所述下压板与限位滑杆滑动连接。
[0008]所述座台的顶部开设有放置槽，所述放置槽的内底壁开设有卸料槽，所述放置槽的内底壁开设有底滑槽，所述底滑槽的数量为两个，两个所述底滑槽分别位于卸料槽的左右两侧，所述底滑槽的内部固定连接有横杆，所述横杆的侧表面活动套接有第二弹簧，所述横杆的侧表面滑动连接有夹板，所述夹板与第二弹簧抵持，所述下压板的正面和背面均铰接有推臂，两个所述推臂远离下压板的一端设有连接座，所述连接座的内顶壁固定连接有导向杆，所述导向杆的数量为两个，两个所述导向杆的底端与连接座的内底壁固定连接，所述导向杆的侧表面滑动连接有滑板，所述滑板的顶部设有第一弹簧，所述第一弹簧的数量为两个，两个所述第一弹簧分别与两个所述导向杆活动套接，所述滑板的左侧固定连接有连接臂，所述连接臂的数量为两个，两个所述连接臂之间转动连接有转辊，所述转辊的侧表面设有吸水棉，所述连接座的底部固定连接有烘干机，所述座台的底部固定连接有支撑底座，所述支撑底座的数量为两个，两个所述支撑底座之间固定连接有横梁，所述横梁的顶部
固定连接有气缸，所述气缸的输出端固定连接有推板。
[0009]优选的，所述底滑槽的内底壁开设有出水孔，所述出水孔的底端与座台的底部连通。
[0010]优选的，所述转辊的侧表面开设有凹槽，所述吸水棉活动套接有转辊的凹槽中。
[0011]优选的，所述推板的侧表面固定连接有边缘落板，所述边缘落板的四周倾斜设置。
[0012]优选的，两个所述支撑底座之间固定连接有接水筐，所述接水筐的底部连通有阀门。
[0013]与现有技术相比，本技术提供了一种用于硅片清洗过后的烘干装置，具备以下有益效果：
[0014]1、该用于硅片清洗过后的烘干装置，通过设置滑架、伺服电机、驱动螺杆、限位滑杆、下压板、推臂、连接座、导向杆、第一弹簧、滑板、连接臂、转辊、吸水棉、烘干机和放置槽，将待烘干的硅片放置在放置槽中，第二弹簧被压缩，硅片被两个夹板夹持，启动伺服电机使得驱动螺杆转动，下压板下移并通过推臂推动连接臂左移，转辊带动吸水棉滚动并且对硅片表面的水珠水滴进行擦干，同时烘干机伴随着转辊同时左移，对擦拭过后的硅片表面进行烘干，可使硅片的一面快速变干，再将硅片翻面，通过擦拭布将放置槽中沾染的水滴擦干，避免水沾染到已经烘干的面，重复操作，即可快速烘干一块硅片，解决了当前硅片烘干耗时过长的问题。
[0015]2、该用于硅片清洗过后的烘干装置，通过设置横梁、气缸、推板和边缘落板，启动气缸，气缸可通过推板将放置槽中的硅片顶起，便于人们对硅片进行翻面，且边缘落板的设置可避免水滴滴落在气缸23上。
附图说明
[0016]图1为本技术主视结构示意图；
[0017]图2为本技术图1中A的局部结构放大图；
[0018]图3为本技术图1中B的局部结构放大图。
[0019]其中：1、座台；2、滑架；3、伺服电机；4、驱动螺杆；5、限位滑杆；6、下压板；7、推臂；8、连接座；9、导向杆；10、第一弹簧；11、滑板；12、连接臂；13、转辊；14、吸水棉；15、烘干机；16、放置槽；17、底滑槽；18、横杆；19、第二弹簧；20、夹板；21、出水孔；22、横梁；23、气缸；24、推板；25、边缘落板；26、接水筐；27、阀门；28、支撑底座。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
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3，本技术提供了一种用于硅片清洗过后的烘干装置，包括座台1，座台1的顶部固定连接有滑架2，座台1的底部固定连接有伺服电机3，滑架2的内部设有驱动螺杆4，驱动螺杆4的顶端与滑架2的内顶壁转动连接，驱动螺杆4的底端依次贯穿滑架2的内底壁和座台1的顶部，并延伸出座台1，驱动螺杆4与滑架2的内底壁转动连接，驱动螺杆4与
座台1转动连接，驱动螺杆4的底端与伺服电机3的输出端固定连接，滑架2的内部固定连接有限位滑杆5，限位滑杆5的顶端与滑架2的内顶壁固定连接，限位滑杆5的底端与滑架2的内底壁固定连接，驱动螺杆4上传动连接有下压板6，下压板6与限位滑杆5滑动连接；
[0022]座台1的顶部开设有放置槽16，放置槽16的内底壁开设有卸料槽，放置槽16的内底壁开设有底滑槽17，底滑槽17的数量为两个，两个底滑槽17分别位于卸料槽的左右两侧，底滑槽17的内底壁开设有出水孔21，出水孔21的底端与座台1的底部连通，出水孔21可防止水珠在底滑槽17中聚集，可排出水滴，底滑槽17的内部固定连接有横杆18，横杆18的侧表面活动套接有第二弹簧19，横杆18的侧表面滑动连接有夹板20，夹板20与第二弹簧19抵持，将待烘干的硅片放置在放置槽16中，第二弹簧19被压缩，硅片被两个夹板20夹持，可防止硅片在烘干以及擦拭时发生位移，下压板6的正面和背面均铰接有推臂7，两个推臂7远离下压板6的一端设有连接座8，连接座8的正面和背面分别与两个推臂7铰接，连接座8的内顶壁固定连接有导向杆9，导向杆9的数量本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于硅片清洗过后的烘干装置，包括座台(1)，其特征在于：所述座台(1)的顶部固定连接有滑架(2)，所述座台(1)的底部固定连接有伺服电机(3)，所述滑架(2)的内部设有驱动螺杆(4)，所述驱动螺杆(4)的顶端与滑架(2)的内顶壁转动连接，所述驱动螺杆(4)与滑架(2)的内底壁转动连接，所述驱动螺杆(4)与座台(1)转动连接，所述驱动螺杆(4)的底端与伺服电机(3)的输出端固定连接，所述滑架(2)的内部固定连接有限位滑杆(5)，所述限位滑杆(5)的顶端与滑架(2)的内顶壁固定连接，所述限位滑杆(5)的底端与滑架(2)的内底壁固定连接，所述驱动螺杆(4)上传动连接有下压板(6)，所述下压板(6)与限位滑杆(5)滑动连接；所述座台(1)的顶部开设有放置槽(16)，所述放置槽(16)的内底壁开设有卸料槽，所述放置槽(16)的内底壁开设有底滑槽(17)，所述底滑槽(17)的数量为两个，两个所述底滑槽(17)分别位于卸料槽的左右两侧，所述底滑槽(17)的内部固定连接有横杆(18)，所述横杆(18)的侧表面活动套接有第二弹簧(19)，所述横杆(18)的侧表面滑动连接有夹板(20)，所述夹板(20)与第二弹簧(19)抵持，所述下压板(6)的正面和背面均铰接有推臂(7)，两个所述推臂(7)远离下压板(6)的一端设有连接座(8)，所述连接座(8)的内顶壁固定连接有导向杆(9)，所述导向杆(9)的数量为两个，两个所述导向杆(9)的底端与连接座(8)的内底壁固定连接，所述导向...
【专利技术属性】
技术研发人员：祝凯，
申请(专利权)人：开化晶芯电子有限公司，
类型：新型
国别省市：
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