遮蔽屏、遮蔽屏原板制造技术

一种安装在布劳恩管上时不会引起异物脱落的遮蔽屏、遮蔽屏原板及遮蔽层的制造方法。遮蔽屏原板由遮蔽屏和外框部构成，其中，遮蔽屏通过蚀刻加工形成外周线，外框部用多个连结部保持该遮蔽屏，在连结部的遮蔽屏侧之外周线内侧形成半腐蚀过的被断裂部分。自该遮蔽屏原板上去除外框部而得到的遮蔽屏上的断裂部分凹入外周线内侧而形成。该遮蔽屏可容易地通过弯曲、拉伸及撕裂中的任一方式去除遮蔽屏原板之外框部而制造。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及布劳恩管用，更详细地说，涉及在将得到的遮蔽屏安装在布劳恩管上时不会引起异物脱落的遮蔽屏及这种遮蔽屏的制造方法。通常的遮蔽屏是如下得到的，首先，通过蚀刻加工形成由遮蔽屏和外框部构成的遮蔽屏原板，其中，遮蔽屏形成有贯通的外周线，外框部用多个连结部保持该遮蔽屏，然后，通过弯曲加工或拉伸加工自遮蔽屏原板去除外框部而得到。此时，遮蔽屏的外周线通过蚀刻加工而形成，多个连结部作为非贯通部断续形成，遮蔽屏由该连结部保持在遮蔽屏原板上。遮蔽屏通过向遮蔽屏原板的连结部施加弯曲应力或拉伸应力等而从外框部上去除。连结部通过弯曲加工等而断裂。这样得到的遮蔽屏之后经过各种工序被安装在布劳恩管内，发挥遮蔽屏的作用。另外，这里所说的外周线不涉及构成遮蔽屏最外周的蚀刻端部的形状，是指其端部的线。(下同)。这种将遮蔽屏自遮蔽屏原板上去除而进行制造的方法，公开于特公昭63-888号公报、特开平4-71138号公报、特开平8-31317号公报、特开平11-73876号公报等。在这些现有技术中，或对连结部进行半腐蚀使其容易断裂、或对自外框部去除的方法进行改进，主要是为了防止遮蔽屏有效部分的变形和使外框部的除去工序高效化。但是，由这些现有技术得到的遮蔽屏，在遮蔽屏的外周线外侧的位置都会留下一部分断裂的凸形的连结部，有可能会对其后的加工工序产生大的恶劣影响。例如，在将遮蔽屏冲压加工成装于布劳恩管上的形状的工序中，上述凸形部分就有可能与冲压模接触而作为异物(金属片)被剥离，若这种异物附着在遮蔽屏的蚀刻孔上而直接装在布劳恩管内，则会对完成后的布劳恩管的品质产生很大的影响。本专利技术是为了解决上述问题而开发的，其目的在于提供一种，使得在将得到的遮蔽屏安装在布劳恩管上时，不会出现异物脱落。首先，本专利技术第一方面的遮蔽屏是自遮蔽屏和外框部构成的遮蔽屏原板上去除所述外框部而得到的，其中，遮蔽屏通过蚀刻加工形成有外周线，外框部用多个连结部保持该遮蔽屏，去除所述外框部而形成的断裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周线内侧而形成。根据本专利技术，由于去除外框部而形成的断裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周线内侧而形成，所以在以后的遮蔽屏的加工工序，断裂部分不会被摩擦而作为异物脱落。本专利技术第二方面所述的遮蔽屏，在本专利技术第一方面所述的遮蔽屏中，所述断裂部分为被半腐蚀的部分。根据本专利技术，利用被半腐蚀的断裂部分选择性地去除外框部。通过减薄半腐蚀部的金属残留厚度，即使在弯曲断裂的情况下，断裂部分也不易发生因弯曲而产生的裂缝，不会引起以裂缝为起点的异物脱落。本专利技术第三方面所述的遮蔽屏，在本专利技术第一或第二方面所述的遮蔽屏中，所述断裂部分的方式是弯曲断裂、拉伸断裂及撕裂断裂中的任一种。根据本专利技术，无论断裂部分的方式是弯曲断裂、拉伸断裂及撕裂断裂中的哪一种，其断裂部分均凹入遮蔽屏的外周线内侧而形成，故可增加除去外框部的方法的自由度，可高效率地进行制造。本专利技术第四方面所述的遮蔽屏，在本专利技术第一至第三方面之任一方面所述的遮蔽屏中，所述断裂部分的端部自所述外周线凹入10～100μm而形成。根据本专利技术，由于断裂部分的端部自外周线向内侧凹入10～100μm而形成，故断裂部分不会触碰，不会产生金属片的脱落。本专利技术第五方面所述的遮蔽屏原板由遮蔽屏和外框部构成，其中，遮蔽屏通过蚀刻加工形成有外周线，外框部用多个连结部保持该遮蔽屏，在所述连结部的遮蔽屏侧之所述外周线的内侧位置形成有被断裂部分。根据本专利技术，在除去外框部时断裂的被断裂部分处于连结部的遮蔽屏侧之外周线的内侧位置，故断裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周线的内侧位置而形成。其结果，在其后的遮蔽屏的加工工序中，断裂部分不会被碰触，不会作为异物而脱落。本专利技术第六方面所述的遮蔽屏原板，在本专利技术第五方面所述的遮蔽屏原板中，所述被断裂部分形成与沿所述遮蔽屏外周线方向的所述连结部的长度相同的长度。根据本专利技术，由于被断裂部分形成与沿所述遮蔽屏外周线方向的连结部的长度相同的长度，故除去外框部时产生的断裂在连结部的紧内侧即遮蔽屏内侧部分有选择地产生。其结果，断裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周线的内侧位置而形成。本专利技术第七方面所述的遮蔽屏原板，在本专利技术第五或第六方面所述的遮蔽屏原板中，所述被断裂部分被半腐蚀过。根据本专利技术，由于所述被断裂部分被半腐蚀过，所以外框部在被半腐蚀过的被断裂部分被有选择地断裂去除。本专利技术第八方面所述的遮蔽屏原板，在本专利技术第七方面所述的遮蔽屏原板中，所述被半腐蚀过的部分的中心线在自所述外周线向内侧大于25μm小于100μm的范围内形成。根据本专利技术，由于被半腐蚀部分的中心线在自外周线向内侧大于25μm小于100μm的范围内形成，故外框部无论是用弯曲、拉伸或撕裂中的哪种方式去除，断裂部分的外端部均凹入得到的遮蔽屏之外周线的内侧位置而形成。最后，本专利技术第九方面所述的遮蔽屏的制造方法，是采用本专利技术第五方面至第八方面中的任一方面所述的遮蔽屏原板制造遮蔽屏的方法，所述遮蔽屏原板的外框部采用弯曲、拉伸及撕裂中的任一方式去除。根据本专利技术，由于遮蔽屏原板的外框部采用弯曲、拉伸或撕裂中的任一方式去除，故可容易地制造断裂部分不会被碰触而作为异物脱落的遮蔽屏。附图的简要说明如下图1是显示本专利技术遮蔽屏原板之一例的平面图；图2是显示图1的Ⅱ区域的放大平面图；图3是显示图2的Ⅲ-Ⅲ剖面的放大剖面图；图4A、图4B、图4C是例示本专利技术遮蔽屏的制造方法；图5A、图5B、图5C是显示得到的各断裂方式的一例的放大剖面图；图6是显示本专利技术遮蔽屏之一例的平面图；图7是显示图6的Ⅶ区域的放大平面图；图8是显示图7的Ⅷ-Ⅷ剖面的放大剖面图；图9是现有遮蔽屏原板的连结部(被断裂部分)的放大平面图；图10是现有遮蔽屏的断裂部分的放大平面图；图11是显示图10的Ⅺ区域的放大平面图。下面根据附图说明本专利技术的遮蔽屏原板。图1是显示本专利技术遮蔽屏原板1之一例的平面图；图2是显示图1的Ⅱ区域的放大平面图；图3是显示图2的Ⅲ-Ⅲ剖面的放大剖面图。另外，图中的交叉影线部分表示被断裂部分11、例如被半腐蚀的部分。如图1所示，遮蔽屏原板1是将遮蔽屏用金属薄板蚀刻加工而得到的，由遮蔽屏2和外框部3构成，其中遮蔽屏2形成有外周线4，外框部3由多个连结部5保持该遮蔽屏2。在遮蔽屏2的内侧形成有使电子射线通过的有孔部分6。遮蔽屏2通过去除这种遮蔽屏原板1的外框部3而得到。首先，说明遮蔽屏原板1的被断裂部分11。该被断裂部分11是在自遮蔽屏原板1去除外框部3而得到遮蔽屏2时形成遮蔽屏2的断裂部分21(参照图6及图7)的部分。在本专利技术中，如图2所示，被断裂部分11位于连结部5的遮蔽屏侧，且形成于外周线4的内侧位置。通过在这种位置形成被断裂部分11，去除外框部3时断裂的断裂部分21凹入遮蔽屏2的外周线4的内侧位置而形成。其结果，在其后的遮蔽屏2的加工工序中，不会碰触断裂部分21而使其作为异物(金属片)脱落。被断裂部分11可通过半腐蚀方法使板厚变薄、或设置多个各种形状的细孔而形成。这样加工成的被断裂部分11有选择地降低了强度，故去除外框部3时在该被断裂部分11有选择地产生断裂。尤其是，利用半腐蚀方法形成被断裂部分是理想的。利用半腐蚀形成的被断裂部分11如图3所示，形成其中央部分凹入的形状。因此，经过半腐蚀的被断裂部分11在遮蔽屏本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮蔽屏，是自遮蔽屏和外框部构成的遮蔽屏原板去除所述外框部而得到的，其中，所述遮蔽屏通过蚀刻加工形成有外周线，所述外框部用多个连结部保持该遮蔽屏，其特征在于，去除所述外框部而形成的断裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周线内侧而形成。

【技术特征摘要】
JP 1999-9-6 251950/991.一种遮蔽屏，是自遮蔽屏和外框部构成的遮蔽屏原板去除所述外框部而得到的，其中，所述遮蔽屏通过蚀刻加工形成有外周线，所述外框部用多个连结部保持该遮蔽屏，其特征在于，去除所述外框部而形成的断裂部分凹入得到的遮蔽屏的外周线内侧而形成。2.如权利要求1所述的遮蔽屏，其特征在于，所述断裂部分为被半腐蚀过的部分。3.如权利要求1或2所述的遮蔽屏，其特征在于，所述断裂部分的方式是弯曲断裂、拉伸断裂及撕裂断裂之任一种。4.如权利要求1至3任一项所述的遮蔽屏，其特征在于，所述断裂部分的端部自所述外周线向内侧凹入10～100μm而形成。5.一种遮蔽屏原板，由遮蔽屏和外框部...

【专利技术属性】
技术研发人员：小松隆泰，落合洋光，牧田明，秀岛启文，荻尾卓也，渡边俊武，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]