用于CVD反应器的基座的加热装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于加热CVD反应器(10)的基座的装置(1)，所述装置具有至少三个基本上相同尺寸的、围绕中心(Z)布置的加热面(2)。所述加热面(2)由在平面中在构成并排地延伸的边腿(4)的情况下蜿蜒地延伸的加热元件(3)构成。重要的是，所述边腿(4)具有边腿区段(5)，所述边腿区段平行于边界线(a、b、c)延伸，所述边界线沿着在径向上在加热面(2)之间延伸的边界延伸。这样构造的加热装置由圆弧形的第二加热装置包围。置包围。置包围。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于CVD反应器的基座的加热装置


[0001]本专利技术涉及一种用于加热CVD反应器的基座的装置，所述装置具有至少三个优选相同地设计的、导电的加热元件，所述加热元件分别布置在共同的平面中、在平面中在构成并排地延伸的边腿的情况下蜿蜒地延伸、分别限定在优选尺寸相同并且规则地围绕中心分布的并且由径向的边界线彼此分隔的加热面上、分别在第一端部上具有第一连接触头并且在第二端部上具有第二连接触头、通过所述第一和第二连接触头与导电的电流分配元件连接。
[0002]本专利技术还涉及一种具有这种加热元件的CVD反应器以及一种用于加热装置的加热元件。

技术介绍

[0003]专利文献WO 2006/060134 A2描述了这种装置。在那里描述了具有多个导电的、布置在平面中的加热元件的加热装置。所述加热元件构成在径向上外于位部的区域和在径向上位于内部的区域。弧形地延伸的外部的加热元件包围内部的区域，具有多个弧形的边腿的加热元件在所述内部的区域中延伸。边腿通过180度的弧形区段相互连接，从而所述边腿在平面中并排地延伸。
[0004]在专利文献US 5,7本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于加热CVD反应器的基座的装置，所述装置具有至少三个基本上相同尺寸的、规则地围绕中心(Z)分布并且由径向的边界线(a、b、c)相互分隔的加热面(2)，所述加热面分别具有导电的加热元件(3)，所述加热元件在平面中在构成并排地延伸的边腿(4)的情况下蜿蜒地延伸、分别在第一端部(3
′
)上具有第一连接触头(6)并且在第二端部(3")上具有第二连接触头(7)、通过所述第一和第二连接触头(6、7)与导电的电流分配元件(15、15
′
、16)连接，其特征在于，所述边腿(4)由平行于所述边界线(a、b、c)延伸的边腿区段(5)构成。2.一种用于加热CVD反应器(10)的基座的装置，所述装置的形式为在由边界线(a、b、c)限定的加热面(2)中延伸的、导电的、在平面中在构成并排地延伸的边腿(4)的情况下蜿蜒地延伸的、在第一端部(3
′
)上具有第一连接触头(6)并且在第二端部(3")上具有第二连接触头(7)的加热元件(3)，其特征在于，所述边腿(4)由平行于所述边界线(a、b、c)延伸的边腿区段(5)构成。3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，每个边腿(4)具有两个边腿区段(5)，所述边腿区段分别平行于彼此成角度地间隔的边界线(a、b、c)其中的一条边界线延伸。4.根据前述权利要求中至少一项所述的装置，其特征在于，所述第一和第二连接触头(6、7)位于所述加热面(2)的径向最外部的区域中和/或所述加热面(2)的径向最外部的区域具有两个相叠地布置的元件。5.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于，两个并排地平行地延伸的边腿区段(5)通过所述加热元件(3)的180度的弧形区段(8)相互连接。6.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于，所述边腿区段(5)分别在弧形区段(8)和角区段(9)之间延伸。7.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于，所述加热元件(3)由扁平的坯件、尤其是石墨或者金属件切割而成。8.根据前述权利要求之一所述的装置，其特征在于，所述第一连接触头(6)对应配属于所述边腿(4)其中最短的...

【专利技术属性】
技术研发人员：H蒋，FMA克劳利，
申请(专利权)人：艾克斯特朗欧洲公司，
类型：发明
国别省市：