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本发明涉及一种用于加热CVD反应器(10)的基座的装置(1)，所述装置具有至少三个基本上相同尺寸的、围绕中心(Z)布置的加热面(2)。所述加热面(2)由在平面中在构成并排地延伸的边腿(4)的情况下蜿蜒地延伸的加热元件(3)构成。重要的是，所...
该专利属于艾克斯特朗欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克斯特朗欧洲公司授权不得商用。

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