一种衬底传送装置及衬底传送方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种衬底传送装置及衬底传送方法，定位底座、定位杆和抓取装置，其中，底座位于本装置的下部，定位杆的一端与定位底座连接，定位杆的另一端与抓取装置连接。本发明专利技术一种具有取片功能的取片装置，在薄膜沉积结束后，可直接用该工具取送晶圆托盘，不受设备腔内温度的影响，且该机构使用安全，省力，在操作过程中，工具操作可以提高人身安全，克服了托盘较重、较大的苦难，加快了取片速度提高生产能力，降低操作者劳动强度，该装置运行方式灵活，处理效果稳定，提高了工作效率，减轻工人劳动强度，具有极高的生产经济价值。具有极高的生产经济价值。具有极高的生产经济价值。

【技术实现步骤摘要】
一种衬底传送装置及衬底传送方法


[0001]本专利技术涉及半导体设备取片
，尤其涉及一种衬底传送装置及衬底传送方法。

技术介绍

[0002]对于小尺寸晶圆沉积，使用大型半导体真空腔制程设备，采用一次沉积多片的沉积方式，生产效率高，具有显著的经济成果。
[0003]但大型半导体真空腔的使用，操作者取片操作复杂并，劳动强度较大。因此，如何研发一种新型的半导体薄膜沉积设备，以解决上述问题，成为人们亟待解决的问题。

技术实现思路

[0004]为了解决上述问题，本专利技术提供了一种衬底传送装置及衬底传送方法。
[0005]一方面，本专利技术提供的技术方案是：一种衬底传送装置，包括：定位底座、定位杆和抓取装置；
[0006]其中，底座位于本装置的下部，定位杆的一端与定位底座连接，定位杆的另一端与抓取装置连接；
[0007]抓取装置的下部设有转盘，转盘上设有多个长条形抓取臂，抓取臂的前端均设有向下的抓钩，在转盘圆心处设有旋转轴，旋转轴上设有旋转限位块和旋转限位座，旋转限位座与旋转限位块之间设有旋转限位销，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底传送装置，其特征在于，包括：定位底座(1)、定位杆(2)和抓取装置(3)；其中，底座(1)位于本装置的下部，定位杆(2)的一端与定位底座(1)连接，定位杆(2)的另一端与抓取装置(3)连接；抓取装置(3)的下部设有转盘(301)，转盘(301)上设有多个长条形抓取臂(302)，抓取臂(302)的前端均设有向下的抓钩(303)，在转盘(301)圆心处设有旋转轴(304)，旋转轴(304)上设有旋转限位块(305)和旋转限位座(401)，旋转限位座(401)与旋转限位块(305)之间设有旋转限位销(306)，旋转限位座(401)位于两个定位底座(402)之间的横梁(403)上，所述旋转限位座(401)的下方横梁上(403)上，设有升降限位块(404)。旋转动作中，取盘时，旋转限位块(305)和旋转限位座(401)左侧接触完成限位，放盘时，旋转限位块(305)和旋转限位座(401)右侧接触完成限位；升降动作中，上位时，旋转限位座(401)和升降定位块(404)接触完成限位，下位时，旋转限位块(305)和旋转限位座(401)接触完成限位。2.根据权利要求1所述的一种衬底传送装置，其特征在于，所述旋转限位座(401)上设有固定孔，旋转时，旋转限位销(306)与旋转限位座(401)上的固定孔来固定调整旋转角度。3.根据权利要求1所述的一种衬底传送装置，其特征在于，所述转盘(301)上设有三条抓取臂(302...

【专利技术属性】
技术研发人员：王燚，吴凤丽，
申请(专利权)人：拓荆科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：