电晕处理设备制造技术

一种电晕处理设备，其为改善以往电浆表面处理设备成本过高、表面处理效果有限的问题；本发明专利技术解决是将一个高压电路系统设置在电源与正电极板之间，而该高压电路系统运用中点接地另设置一负电极板，运用正电极板与负电极板之间的稠密丝状电弧（跳动电子）产生较大范围的电晕放电，藉此，电晕放电会让待清理物的表面清理效果更佳、增进表面一致性，也由于操作电晕放电的气体温度接近于室温（属于冷电浆形式），故本发明专利技术设备成本较低，无需将能量用在气体温度的提升，更不会产生无线电频放射设备的电磁干涉问题。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术系提供一种电晕处理设备，具体而言，本专利技术设备是指一种具有高压电路系统、中点接地、绝缘室、正电极板与负电极板的电晕处理设备。
技术介绍
一般低压电浆表面处理都是采用高频电浆电力发射系统(例如就像无线电频RF)，如图1所示，包含了一组电极电源10、一待清理件14，以及另一组用于发射无线电频RF的电源11、发射盒12及交流电发电机13；由电极电源10产生的电浆电子，会利用气体分子将待清理件14上的金属原子溅射出来，当这些金属原子行经溅镀室中的气体时，则这些金属原子便再与气体产生大量碰撞，产生表面原子撞击、清理的效果；若在此同时，另外施与交流电发电机13的无线电频RF的震荡，则无线电频RF散发出独特的规律电子冲撞及震荡光热会加速这些金属与气体及电子间的碰撞，致使电子很容易与气体分子碰撞而将能量转移；上述符合常用的低压电浆表面处理会降低电浆处理的电源的需求量(操作时间缩短、温度降低)，并且防止过度加热，此种高频电浆电力发射系统是现今常见低压电浆表面处理方法之一，但是，其处理作业仍会产生下列问题其一，常用无线电频RF会有高成本的问题，由于无线电频RF的高频震动会使作业环境的温度过高，故习用设备中必须安装高成本的降温设备；其二，同样因为无线电频RF易产生高温的问题，作业环境高温会使待清理件14表面原子结成失败，而且，由于电浆电子分散并不均匀，该待清理件14表面处理的效果增益也十分有限；其三，习用无线电频RF在发射时又会产生电磁波，而电磁波则会干扰周侧的电子设备，使器材不准确、控制不易精确。因此，如何开发出一种具有更佳表面处理效果、不会产生过多缺陷的表面电晕处理设备，早已变成研发者与制造商最想克服的几个问题，而上述内容中所呈现的问题也是本专利技术的专利技术人研发的动机。针对以上缺陷，在求理想、实用与进步之今日，诚为一极待努力追求改善之目标；有鉴于斯，本案专利技术人乃经详思细索，并积多年从事各种电浆机构与相关电浆处理技术的贩售、研究与开发之经验，终而得以开发出一种电晕处理设备，其不但有益于表面处理作业，也能取代结成容易失败、会产生高温及电磁波的无线电频电浆设备。
技术实现思路
本专利技术的第一目的，在于提供一种电晕处理设备，其利用二个电极板之间产生稳定的扩散电晕放电进行表面清洁，不但稠密的丝状电弧会有效撞击清理表面，且电晕发射的光线也能提升表面处理时的结成力量(稳定处理表面的分子及冲击之中的电子)，加上本专利技术不会产生高频震荡及电磁波，故本专利技术会改善以往电浆表面处理设备成本过高、表面处理效果有限的问题。本专利技术的第二目的，在于提供一种有效产生电晕放电的电晕处理设备，本专利技术将一个高压电路系统设置在电源与正电极板之间，而该高压电路系统运用中点接地另设置一负电极板，运用正电极板与负电极板之间的稠密丝状电弧(跳动电子)产生较大范围的电晕放电，藉此，本专利技术能在塑料表面能产生有利表面的一致、低温电浆，无需进行额外加热。本专利技术的第三目的，在于提供一种电晕处理设备，其利用正电极板与负电极板之间的稠密丝状电弧产生电晕，由于电晕操作放电的气体温度接近于室温(属于冷电浆形式)，故本专利技术十分节省能源与设备成本，无需将能量用提升气体温度之上。本专利技术的第四目的，在于提供一种电晕处理设备，本专利技术的电晕放电(具有光线的稠密丝状电弧)不会产生高频震动、高温及电磁波，故本专利技术的设备成本能够大幅降低，且不会受到电磁波干扰。为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下一种电晕处理设备，包括有一电源，系提供充足的电力；一高压电路系统，与该电源相连接，且会将电力提高至预设正电压，另在高压电路系统内装设有中点接地，利用该中点接地产生预设的负电压；一正电极板，与该高压电路系统相连接，且会将导引该高压电路系统上的预设正电压；一负电极板，与该高压电路系统相连接，且会将导引该高压电路系统上的预设负电压；一处理室，采绝缘材质制成，且提供一低压密闭空间，在该低压密闭空间内注入预设气体，且处理室会将该正电极板与负电极板密封于内；一待清理物，置放在该正电极板与负电极板间；藉此，该正电极板与负电极板间会产生电晕放电，并对待清理物表面进行清理。上述该处理室于低压密闭空间内注入氧气。使用本专利技术的有益效果在于在二个电极板之间产生稳定的扩散电晕放电，利用电晕放电可以增进表面处理效果与表面一致性；正电极板与负电极板让待清理物表面承受扩散的电晕放电(大量丝状电弧与发光现象)，电子撞击会产生一般性的表面清理，而大量丝状电晕则会增益表面清理的效果。附图说明图1为常用的处理装置示意简图。图2为本专利技术的电晕表面处理装置示意简图。图3为本专利技术的电晕放电示意图。电极电源(10)电源(11)发射盒(12) 交流电发电机(13)待清理件(14)无线电频(RF)电源(20)高压电路系统(21)中点接地(211) 正电极板(22)负电极板(23)处理室(24)空间(241) 待清理物(25)电晕放电(26)具体实施方式有关本专利技术为达成上述目的、所采用的技术，手段及其它功效，下面列举一较佳可实施例并配合图式详细说明如后，相信本专利技术的目的、特征及其它优点，当可由之得一深入而具体的了解；首先，如图2所示，为本专利技术简图，本专利技术包括有一个电源20、一高压电路系统21、一正电极板22、一负电极板23及一处理室24，其中该电源20，提供充足的电力；该高压电路系统21，与该电源20相连接，且会将电力提高至预设正电压，另在高压电路系统21内装设有中点接地211，利用该中点接地211产生预设的负电压；该正电极板22，与该高压电路系统21相连接，且会将导引该高压电路系统21上的预设正电压；该负电极板23，与该高压电路系统21相连接，且会将导引该高压电路系统21上的预设负电压；该处理室24，采绝缘材质制成，且提供一低压密闭空间241，在该低压密闭空间241内注入氧气，且处理室24会将该正电极板22与负电极板23密封于内；一待清理物25，置放在该正电极板22与负电极板23之间；藉由上述结构特征与其相互关系位置的巧妙安排，本专利技术会让待清理物25受到扩散的电晕放电处理，藉由稠密丝状电弧、电晕增进表面清理效果，也由于本专利技术的气体温度接近于室温(属于冷电浆形式)，让本专利技术设备成本降低。其次，再将本专利技术的动作原理配合图式详细说明如后，期使贵审查委员对本专利技术的构造、特征及其它优点能有更进一步体会与认识，为便于说明与彰显本专利技术确较传统结构为进步与实用的优点；如图3所示，本专利技术的电源20会将电力送入该高压电路系统21内，而该高压电路系统21会将电压提升至正7500伏特(预设的可行数据)，并将正7500伏特电力传送给该正电极板22，此时，该中点接地211会配合高压电路系统21产生负7500伏特(预设的可行数据)电压，并将负7500伏特电力传送给负电极板23，使正电极板22与负电极板23之间产生稠密丝状电弧(跳动电子)；另一方面，由于该处理室24采绝缘材质，且在该低压密闭空间241内充满氧气，故稠密丝状电弧会内的电子会撞击氧分子，使氧分子因电子撞击而形成不稳定的高能阶状态，但氧分子随即会马上回到低能阶的位置(氧分子也呈跳动)，而在氧分子从高能阶状态返回低能阶的同时，会释放出相当能量的光子(Photon)，也产生出电晕光，此时，该稠密丝状电弧会与电晕光结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电晕处理设备，其特征在于，包括有：一电源，系提供充足的电力；一高压电路系统，与该电源相连接，且会将电力提高至预设正电压，另在高压电路系统内装设有中点接地，利用该中点接地产生预设的负电压；一正电极板，与该高压电路系 统相连接，且会将导引该高压电路系统上的预设正电压；一负电极板，与该高压电路系统相连接，且会将导引该高压电路系统上的预设负电压；一处理室，采绝缘材质制成，且提供一低压密闭空间，在该低压密闭空间内注入预设气体，且处理室会将该正电 极板与负电极板密封于内；一待清理物，置放在该正电极板与负电极板间；藉此，该正电极板与负电极板间会产生电晕放电，并对待清理物表面进行清理。

【技术特征摘要】
1.一种电晕处理设备，其特征在于，包括有一电源，系提供充足的电力；一高压电路系统，与该电源相连接，且会将电力提高至预设正电压，另在高压电路系统内装设有中点接地，利用该中点接地产生预设的负电压；一正电极板，与该高压电路系统相连接，且会将导引该高压电路系统上的预设正电压；一负电极板，与该高压电路系统相连接，且会将导引该高压电路系统上...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡丰益，
申请(专利权)人：凌嘉科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]