【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及使用多个分束带电粒子(beamlet)的粒子光学系统，如 电子显微术设备和电子刻绘(lithography)设备。本专利技术还涉及可用于使用多个分束带电粒子的粒子光学系统中的粒 子光学组件和排布结构；不过，所述粒子光学组件在本申请中并不限于 使用多个分束的系统。这种粒子光学组件可以用于只使用单束带电粒子， 或者使用多束带电粒子或多个分束带电粒子的粒子光学系统中。本专利技术可以应用于任何类型的带电粒子，如电子、正电子、迈子 (myon)、离子等。
技术介绍
根据US 6252412 Bl已知一种常规粒子光学系统。其中公开的电子 显微术设备用于检验物体，如半导体晶片。将多个一次电子束彼此平行 地聚焦在物体上，以在其上形成多个一次电子斑。对由一次电子生成的 并从各一次电子斑发出的二次电子进行检测。针对每个一次电子束，提 供了一单独电子束柱(electron beam column)。将所述多个单独电子束柱彼此紧密地布在一起。形成在物体上的一次电子束斑的密度受到形成电 子显微术设备的电子束柱的剩余步长(remaining foot step size)的限制。 因此，实际上在物体上可以同时找到的一次电子束斑的数量也受到限制， 这导致当按高分辨率检验大表面积的半导体晶片时，设备的吞吐量受限。 根据US 5892224、 US 2002/0148961 Al、 US 2002/0142496 Al 、 US 2002/0130262 Al 、 US 2002/0109090 Al 、 US 2002/0033449 Al 、 US 2002/00283...
【技术保护点】
一种粒子光学排布结构，其包括： 至少一个带电粒子源，用于生成至少一束带电粒子；和 至少一块多孔板，布置在所述至少一束带电粒子的束路径中，其中所述至少一块多孔板具有按预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中在所述至少一块多孔板的下游从所述至少一束带电粒子形成了多个带电粒子分束，并且其中所述多个带电粒子分束在粒子光学排布结构的像面中形成了多个束斑，所述多个束斑按第二阵列图案排列； 其中，第一阵列图案在第一方向上具有至少一个第一图案规则度，而第二阵列图案在与第一方向电子光学地相对应的第二方向上具有至少一个第二图案规则度，并且其中第二规则度比第一规则度要高。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2003-9-5 60/500,2561、一种粒子光学排布结构，其包括至少一个带电粒子源，用于生成至少一束带电粒子；和至少一块多孔板，布置在所述至少一束带电粒子的束路径中，其中所述至少一块多孔板具有按预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔，其中在所述至少一块多孔板的下游从所述至少一束带电粒子形成了多个带电粒子分束，并且其中所述多个带电粒子分束在粒子光学排布结构的像面中形成了多个束斑，所述多个束斑按第二阵列图案排列；其中，第一阵列图案在第一方向上具有至少一个第一图案规则度，而第二阵列图案在与第一方向电子光学地相对应的第二方向上具有至少一个第二图案规则度，并且其中第二规则度比第一规则度要高。2、 根据权利要求l所述的粒子光学排布结构，还包括至少一个粒子 光学元件，所述至少一个粒子光学元件用于操纵所述至少一束带电粒子 和所述多个带电粒子分束中的至少一个；其中，相对于第二阵列图案的 第二图案规则度减小第一阵列图案的第一图案规则度，以补偿所述至少 一个粒子光学元件的畸变。3、 根据权利要求2所述的粒子光学排布结构，其中，所述至少一个 粒子光学元件包括物镜，该物镜用于将分束聚焦到可定位在像面中的物 体上。4、 根据权利要求l所述的粒子光学排布结构，其中，多孔板的在第 一方向上彼此相邻的孔之间的距离根据距第一阵列图案的中心的距离而 连续地减小。5、 根据权利要求l所述的粒子光学排布结构，其中，第二阵列图案 只在单个第一方向上具有比第一图案规则度要高的第二图案规则度。6、 根据权利要求5所述的粒子光学排布结构，其中，第二图案在所 述单个第一方向上是大致恒定间距图案。 '7、 根据权利要求1所述的粒子光学排布结构，其中，第二阵列图案 在相互横交地取向的两个第一方向上具有比第一图案规则度要高的第二 图案规则度。8、 一种多分束带电粒子装置，其包括 至少一个带电粒子源，用于生成至少一个带电粒子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个带电粒子束相垂直的面中的多孔图案，该多孔板将所述至少一个带电粒子束分成分束阵列；其中，多孔图案被排列得减小由于带电粒子装置的光学畸变而导致 的分束阵列的劣化。9、 一种多电子分束检验系统，其包括-台，用于安装待检验物体； 至少一个电子源，用于生成至少一个电子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多 孔图案，该多孔板将所述至少一个电子束分成电子分束阵列；物镜，用于将电子分束阵列聚焦在待检验物体上；以及检测器排布结构，用于检测来自物体的由电子分束阵列生成的二次 电子，以产生与基本上由电子分束阵列中的单个电子分束生成的二次电 子相对应的信号的阵列；其中，多孔图案被排列得减小由于多电子分束检验系统的光学畸变 而导致的电子分束阵列的劣化。10、 一种用于对基板进行多电子分束检验的方法，该方法包括以下' 一生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在基板上形成 电子束斑阵列；其中，多孔图案被排列得减小由于第一带电粒子光学组件和第二带 电粒子光学组件中的至少一个的光学畸变而导致的束斑阵列的劣化。11、 一种带电粒子多分束刻绘系统，用于在涂敷有抗蚀剂的物体上 写图案，该系统包括-台，用于安装物体；至少一个带电粒子源，用于生成至少一个带电粒子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个带电粒子束相垂直的面中的多孔图案，该多孔板将所述至少一个带电粒子束分成带电粒子分束阵列；以及物镜，用于将带电粒子分束阵列聚焦在物体上；并且 其中，多孔图案被排列得减小由于多电子分束检验系统的光学畸变 而导致的电子分束阵列的劣化。12、 一种用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案的方法，该方法包括 以下步骤生成至少一个电子束；使甩至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在涂敷有抗蚀 剂的物体上形成电子束斑阵列；其中，多孔图案被排列得减小由于第一带电粒子光学组件和第二带 电粒子光学组件中的至少一个的光学畸变而导致的束斑阵列的劣化。13、 一种粒子光学排布结构，其包括 至少一个带电粒子源，用于生成至少一束带电粒子； 至少一块多孔板，布置在所述至少一束带电粒子的束路径中，其中所述至少一块多孔板具有按预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔， 其中在所述至少一块多孔板的下游从所述至少一束带电粒子形成了多个 带电粒子分束，并且其中所述多个带电粒子分束在粒子光学排布结构的 像面中形成了多个束斑；并且其中，多孔板中的孔的直径随着距第一图案的中心的距离增大而变化。14、 根据权利要求13所述的粒子光学排布结构，还包括至少一个粒 子光学元件，所述至少一个粒子光学元件用于操纵所述至少一束带电粒子和所述多个带电粒子分束中的至少一个；其中，孔板中的孔的直径随着距第一图案的中心的距离增大而增大或减小，以补偿所述至少一个粒 子光学元件的场曲。15、 根据权利要求13所述的粒子光学排布结构，其中，孔板中的孔 的直径随着距第一图案的中心的距离增大而增大，以补偿所述至少一束 带电粒子在截面上的不均匀电流。16、 根据权利要求13所述的粒子光学排布结构，其中，孔板中的孔的直径随着距第一图案的中心的距离增大而增大。17、 一种多电子分束检验系统，其包括 台，用于安装待检验物体； 至少一个电子源，用于生成至少一个电子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多 孔图案，该多孔板将所述至少一个电子束分成电子分束阵列；物镜，用于将电子分束阵列聚焦在待检验物体上；以及检测器排布结构，用于检测来自物体的由电子分束阵列生成的二次 电子，以产生与基本上由电子分束阵列中的单个电子分束生成的二次电 子相对应的信号的阵列；其中，多孔板中的孔的直径随着距多孔图案的中心的距离增大而变化。18、 一种用于对基板进行多电子分束检验的方法，该方法包括以下步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及 使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在基板上形成 电子束斑阵列；其中，多孔板中的孔的直径随着距多孔图案的中心的距离增大而变化。19、 一种带电粒子多分束刻绘系统，用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案，该系统包括 台，用于安装物体；至少一个带电粒子源，用于生成至少一个带电粒子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个带电粒子束相垂直的面中的多孔图案，该多孔板将所述至少一个带电粒子束分成带电粒子分束阵列；以及物镜，用于将带电粒子分束阵列聚焦在物体上；并且其中，多孔板中的孔的直径随着距多孔图案的中心的距离增大而变化。20、 一种用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案的方法，该方法包括 以下步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在涂敷有抗蚀 剂的物体上形成电子束斑阵列；其中，多孔板中的孔的直径随着距多孔图案的中心的距离增大而变化。21、 一种粒子光学排布结构，其包括 至少一个带电粒子源，用于生成至少一束带电粒子； 至少一块多孔板，布置在所述至少一束带电粒子的束路径中，其中所述至少一块多孔板具有按预定的第一阵列图案形成在其中的多个孔， 其中在多孔板的下游从所述至少一束带电粒子形成了多个带电粒子分 束，并且其中所述多个带电粒子分束在粒子光学排布结构的像面中形成了多个束斑；并且其中，所述多个孔中的至少一组的形状是椭圆形状。22、 根据权利要求21所述的粒子光学排布结构，还包括至少一个粒 子光学元件，所述至少一个粒子光学元件用于操纵所述至少一束带电粒 子和所述多个带电粒子分束中的至少一个；其中，所述多个孔中的所述 至少一组的形状是椭圆形状，以补偿至少一个聚焦透镜的像散。23、 根据权利要求21所述的粒子光学排布结构，其中，孔的椭圆形状的椭圆度根据所述孔距第一图案的中心的距离而增大。24、 根据权利要求21所述的粒子光学排布结构，其中，孔的椭圆形状的长轴相对于第一图案的中心沿径向取向。25、 根据权利要求21所述的粒子光学排布结构，其中，孔的椭圆形 状的长轴按相对于源自第一图案的中心的径向成大于10°角度来取向。26、 根据权利要求25所述的粒子光学排布结构，其中，所述角度根 据各孔距第一图案的中心的距离而增大。27、 一种多电子分束检验系统，其包括-台，用于安装待检验物体； 至少一个电子源，用于生成至少一个电子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多 孔图案，该多孔板将所述至少一个电子束分成电子分束阵列；物镜，用于将电子分束阵列聚焦在待检验物体上；以及检测器排布结构，用于检测来自物体的由电子分束阵列生成的二次 电子，以产生与基本上由电子分束阵列中的单个电子分束生成的二次电 子对应的信号的阵列；其中，所述多个孔中的至少一组孔的形状是椭圆形状。28、 一种用于对基板进行多电子分束检验的方法，该方法包括以下 步骤 '生成至少一个电子束； 使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在基板上形成电子束斑阵列；其中，所述多个孔中的至少一组孔的形状是椭圆形状。29、 一种带电粒子多分束刻绘系统，用于在涂敷有抗蚀剂的物体上 写图案，该系统包括-台，用于安装物体；至少一个带电粒子源，用于生成至少一个带电粒子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个带电粒子束相垂直的面中的多孔图案，该多孔板将所述至少一个带电粒子束分成带电粒子分束阵列；以及物镜，用于将带电粒子分束阵列聚焦在物体上；并且 其中，所述多个孔中的至少一组孔的形状是椭圆形状。30、 一种用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案的方法，该方法包括 以下步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在涂敷有抗蚀 剂的物体上形成电子束斑阵列；其中，所述多个孔中的至少一组孔的形状是椭圆形状。31、 一种粒子光学组件，其包括'至少一块多孔板，其中形成有多个孔，每个孔都用于操纵穿过其间 的带电粒子分束的粒子； 其中，多孔板包括基本上布置在单个面中的多个导电层部分，其中 在所述多个导电层部分中的每一个中都形成有多个孔，并且其中在相邻 导电层部分之间形成有电阻性间隙。32、 根据权利要求31所述的粒子光学组件，其中，该组件被配置成 使得相邻导电层部分处于不同的电势。33、 根据权利要求31所述的粒子光学组件，还包括用于向所述多个 导电层部分提供预定电压的至少一个电压源。34、 根据权利要求31所述的粒子光学组件，还包括电耦合不同导电 层部分的至少一个电阻器。35、 根据权利要求34所述的粒子光学组件，其中，将位于距第--图 案的中心第一距离处的第一对相邻导电层部分连接起来的第一电阻器的 电阻，高于将位于距第一图案的中心第二距离处的第二对相邻导电层部 分连接起来的第二电阻器的电阻，其中第二距离小于第一距离。36、 根据权利要求31所述的粒子光学组件，其中，所述多个导电层 部分包括基本上包围第二导电层部分的第一导电层部分。37、 根据权利要求31所述的粒子光学组件，其中，所述多个导电层 部分包括相对于第一图案的中心对称布置的多个环形部分。38、 根据权利要求37所述的粒子光学组件，其中，环形导电层部分 的径向宽度随着距第一图案的中心的距离增大而减小。39、 一种粒子光学排布结构，该排布结构包括至少一个带电粒子源，用于生成至少一束带电粒子或多个带电粒子 分束；和至少一个根据权利要求31所述的粒子光学组件。40、 根据权利要求39所述的粒子光学排布结构，其中，在多孔板的 下游从所述至少一束带电粒子形成了多个带电粒子分束，并且其中所述 多个带电粒子分束在粒子光学排布结构的物面中形成了多个束斑；所述排布结构还包括至少一个第一聚焦透镜，布置在多孔板的上 游的所述至少一束带电粒子的束路径中；和至少一个第二聚焦透镜，布 置在多孔板的下游的所述多个带电粒子分束的束路径中； 其中，所述排布结构被配置成使得相邻导电层部分处于不同的电势， 以补偿第一聚焦透镜和第二聚焦透镜中的至少一个的场曲。41、 根据权利要求39所述的粒子光学排布结构，其中，孔对各分束实现的聚焦效果随着距第一图案的中心的距离增大而减小。42、 一种多电子分束检验系统，其包括-台，用于安装待检验物体； 至少一个电子源，用于生成至少一个电子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多 孔图案，该多孔板将所述至少一个电子束分成电子分束阵列；物镜，用于将电子分束阵列聚焦在待检验物体上；以及检测器排布结构，用于检测来自物体的由电子分束阵列生成的二次 电子，以产生与基本上由电子分束阵列中的单个电子分束生成的二次电 子相对应的信号的阵列；其中多孔板包括基本上布置在单个面中的多个导电层部分，其中在 所述多个导电层部分中的每一个中都形成有多个孔，并且其中在相邻导 电层部分之间形成有电阻性间隙。43、 一种用于对基板进行多电子分束检验的方法，该方法包括以下 步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一 电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在基板上形成 电子束斑阵列；其中多孔板包括基本上布置在单个面中的多个导电层部分，其中在 所述多个导电层部分中的每一个中都形成有多个孔，并且其中在相邻导 电层部分之间形成有电阻性间隙。44、 一种用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案的带电粒子多分束刻 绘系统，该系统包括-台，用于安装物体；至少一个带电粒子源，用于生成至少一个带电粒子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个带电粒子束相垂直的面中的多孔图案，该多孔板将所述至少一个带电粒子束分成带电粒子分束阵列；以及物镜，用于将带电粒子分束阵列聚焦在物体上;并且 其中多孔板包括基本上布置在单个面中的多个导电层部分，其中在所述多个导电层部分中的每一个中都形成有多个孔，并且其中在相邻导电层部分之间形成有带电阻间隙。45、 一种用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案的方法，该方法包括 以下步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在涂敷有抗蚀 剂的物体上形成电子束斑阵列；其中多孔板包括基本上布置在单个面中的多个导电层部分，其中在 所述多个导电层部分中的每一个中都形成有多个孔，并且其中在相邻导 电层部分之间形成有带电阻间隙。46、 一种粒子光学组件，其包括第一多孔板，由绝缘基板制成，该绝缘基板具有贯穿其中而形成的 多个孔，其中，形成在绝缘基板中的孔的至少内部覆盖有导电层。47、 根据权利要求46所述的粒子光学组件，其中，所述导电层还形 成在第一多孔板的至少一个主平坦表面上。48、 根据权利要求46所述的粒子光学组件，其中，在第一多孔板的 主平坦表面上设置有至少一块第二多孔板，其中，形成在第一多孔板中 的孔与形成在第二多孔板中的孔形成贯穿第一多孔板和第二多孔板的结 构的公共通孔。49、 根据权利要求48所述的粒子光学组件，其中，所述导电层的电导率比第二多孔板的电导率要低。50、 根据权利要求46所述的粒子光学组件，其中，在第一多孔板的 两个主平坦表面之间的电阻在至少一个以下范围内250Q到8MQ、 250 Q到4 MQ、 4 MQ到8 MQ、 250 Q到800 Q、 800 Q到1.5 MQ、 1.5 MQ 至廿3MO、 3MO至lj5MQ，以及5MO至!j8MO。51、 一种多电子分束检验系统，其包括 台，用于安装待检验物体； 至少一个电子源，用于生成至少一个电子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多 孔图案，该多孔板将所述至少一个电子束分成电子分束阵列；物镜，用于将电子分束阵列聚焦在待检验物体上；以及检测器排布结构，用于检测来自物体的由电子分束阵列生成的二次 电子，以产生与基本上由电子分束阵列中的单个电子分束生成的二次电 子相对应的信号的阵列；其中，多孔板由绝缘基板制成，该绝缘基板具有贯穿其中而形成的 多个孔，其中，形成在绝缘基板中的孔的至少内部覆盖有导电层。52、 一种用于对基板进行多电子分束检验的方法，该方法包括以下 步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在基板上形成 电子束斑阵列；其中，多孔板由绝缘基板制成，该绝缘基板具有贯穿其中而形成的 多个孔，其中，形成在绝缘基板中的孔的至少内部覆盖有导电层。53、 一种带电粒子多分束刻绘系统，用于在涂敷有抗蚀剂的物体上 写图案，该系统包括台，用于安装物体；至少一个带电粒子源，用于生成至少一个带电粒子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个带电粒子束相垂直的面中 的多孔图案，该多孔板将所述至少一个带电粒子束分成带电粒子分束阵列；以及物镜，用于将带电粒子分束阵列聚焦在物体上；并且 其中，多孔板由绝缘基板制成，该绝缘基板具有贯穿其中而形成的 多个孔，其中，形成在绝缘基板中的孔的至少内部覆盖有导电层。54、 一种用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案的方法，该方法包括 以下步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在涂敷有抗蚀 剂的物体上形成电子束斑阵列；其中，多孔板由绝缘基板制成，该绝缘基板具有贯穿其中而形成的 多个孔，其中，形成在绝缘基板中的孔的至少内部覆盖有导电层。55、 一种粒子光学组件，其包括第一多孔板，具有第一主平坦表面和第二主平坦表面以及贯穿其中 而形成的多个孔，其中，多孔板由具有这样的电导率的材料制成，即，其使得在第一 多孔板的两个主平坦表面之间的电阻在至少一个以下范围内250 Q到8 MQ、 250 Q至(j 4 MQ、 4 MQ至(J 8 MO、 250 Q至lj 800 Q、 800 Q至lj 1.5 MQ、 1.5MQ至lj3Mn、 3MQ到5MQ，以及5 MQ到8 MQ。56、 一种多电子分束检验系统，其包括 台，用于安装待检验物体； 至少一个电子源，用于生成至少一个电子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多 孔图案，该多孔板将所述至少一个电子束分成电子分束阵列； 物镜，用于将电子分束阵列聚焦在待检验物体上；以及 检测器排布结构，用于检测来自物体的由电子分束阵列生成的二次电子，以产生与基本上由电子分束阵列中的单个电子分束生成的二次电 子相对应的信号的阵列；其中，多孔板由具有这样的电导率的材料制成，即，其使得在第一 多孔板的两个主平坦表面之间的电阻在至少一个以下范围内250 Q到8 MQ、 250 Q到4 MQ、 4 MQ到8 MQ、 250 Q到800 Q、 800 Q到1.5 MQ、 1.5MQ到3MQ、 3MQ到5MQ,以及5MQ到8MQ。57、 一种用于对基板进行多电子分束检验的方法，该方法包括以下 步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在基板上形成 电子束斑阵列；其中，多孔板由具有这样的电导率的材料制成，即，其使得在第一 多孔板的两个主平坦表面之间的电阻在至少一个以下范围内250Q到8 MQ、 250 Q至!j 4 MQ、 4 MQ至lj 8 MQ、 250 Q至lj 800 Q、 800 Q至lj 1.5 MQ、 1.5MQ至U3MQ、 3MQ到5MQ，以及5MQ到8MQ。58、 一种带电粒子多分束刻绘系统，用于在涂敷有抗蚀剂的物体上 写图案，该系统包括台，用于安装物体； 至少一个带电粒子源，用于生成至少一个带电粒子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个带电粒子束相垂直的面中 的多孔图案，该多孔板将所述至少一个带电粒子束分成带电粒子分束阵列；以及物镜，用于将带电粒子分束阵列聚焦在物体上；并且 其中，多孔板由具有这样的电导率的材料制成，即，其使得在第一 多孔板的两个主平坦表面之间的电阻在至少一个以下范围内250 Q到8 MO、 250 O至U 4 MO、 4 MO至U 8 MO、 250 O妾lj 800 O、 800 O至U 1.5 MO、 1.5MO至U3MO、 3MO至U5MO，以及5 MO妾(J 8 MO。59、 一种用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案的方法，该方法包括 以下步骤-生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在涂敷有抗蚀 剂的物体上形成电子束斑阵列；其中，多孔板由具有这样的电导率的材料制成，即，其使得在第一 多孔板的两个主平坦表面之间的电阻在至少一个以下范围内250 ^到8 Mf2、 250 Q至(J 4 MQ、 4 MQ至lj 8 MQ、 250 Q妾廿800 Q、 800 Q至廿1.5 MQ、 1.5MO至U3MO、 3MO至U5MO，以及5MO至lJ8MO。60、 一种粒子光学组件，其包括至少一块多孔板，其中形成有多个束操纵孔，每个束操纵孔都用于 操纵穿过其间的带电粒子分束，其中，所述多个束操纵孔按预定的第一 阵列图案排列；并且其中，至少一个束操纵孔具有与其相关联的形成在多孔板中的多个 场修正孔。61、 根据权利要求60所述的粒子光学组件，其中，与相应的束操纵 孔相关联的每个场修正孔的尺寸比该相应的束操纵孔的尺寸要小。62、 根据权利要求60所述的粒子光学组件，其中，场修正孔被形成为贯穿多孔板延伸的通孔。63、 根据权利要求60所述的粒子光学组件，其中，场修正孔被形成 为在多孔板中形成有底部的盲孔。64、 根据权利要求60所述的粒子光学组件，其中，具有与其相关联 的所述多个场修正孔的所述至少一个束操纵孔中的特定一个，具有在其 周围沿周向隔开的多个最靠近邻近束操纵孔，其中，当沿周向观察时， 至少一个场修正孔位于在周向上彼此相邻的两个相邻的最靠近邻近束操 纵孔之间。65、 一种粒子光学排布结构，其包括 至少一个带电粒子源，用于生成至少一束带电粒子；禾口 至少一个根据权利要求60所述的粒子光学组件。66、 根据权利要求65所述的粒子光学排布结构，还包括多孔阻挡部， 该多孔阻挡部用于从带电粒子束形成多个带电粒子分束，而使场修正孔 不暴露于带电粒子，其中，该多孔阻挡部位于粒子光学组件的上游。67、 根据权利要求65所述的粒子光学排布结构，还包括用于拦截已 穿过场修正孔的带电粒子的多孔阻挡部，其中，该多孔阻挡部位于粒子 光学组件的下游。68、 一种多电子分束检验系统，其包括 台，用于安装待检验物体； 至少一个电子源，用于生成至少一个电子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多 孔图案，该多孔板将所述至少一个电子束分成电子分束阵列； 物镜，用于将电子分束阵列聚焦在待检验物体上；以及 检测器排布结构，用于检测来自物体的由电子分束阵列生成的二次电子，以产生与基本上由电子分束阵列中的单个电子分束生成的二次电 子相对应的信号的阵列；其中，多孔板包括与图案的每个孔相关联的至少一个场修正孔，其 中，聚焦在物体上的电子分束不横穿场修正孔。69、 一种用于对基板进行多电子分束检验的方法，该方法包括以下 步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在基板上形成 电子束斑阵列；其中，多孔板包括与图案的每个孔相关联的至少一个场修正孔，其 中，形成电子束斑的分束不横穿场修正孔。70、 一种带电粒子多分束刻绘系统，用于在涂敷有抗蚀剂的物体上 写图案，该系统包括台，用于安装物体；至少一个带电粒子源，用于生成至少一个带电粒子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个带电粒子束相垂直的面中的多孔图案，该多孔板将所述至少一个带电粒子束分成带电粒子分束阵列；以及物镜，用于将带电粒子分束阵列聚焦在物体上；并且 其中，多孔板包括与图案的每个孔相关联的至少一个场修正孔，其 中，聚焦在物体上的带电粒子分束不横穿场修正孔。71、 一种用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案的方法，该方法包括 以下步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及 使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在涂敷有抗蚀 剂的物体上形成电子束斑阵列；其中，多孔板包括与图案的每个孔相关联的至少一个场修正孔，其 中，形成电子束斑的分束不横穿场修正孔。72、 一种粒子光学组件，其包括至少一块多孔板，其中形成有多个束操纵孔，每个束操纵孔都用于操纵穿过其间的带电粒子分束的粒子，其中，所述多个束操纵孔按预定 的第一阵列图案排列；并且其中，至少一个束操纵孔具有在其周围沿周向隔开的N个最靠近邻 近束操纵孔，并且其中，所述至少一个束操纵孔的形状是具有N重对称性的非圆形状。73、 一种粒子光学组件，其包括至少一块多孔板，其中形成有多个束操纵孔，每个束操纵孔都用于 操纵穿过其间的带电粒子分束的粒子，其中，所述多个束操纵孔按预定的第一阵列图案排列；并且其中，至少一个束操纵孔具有非圆形状，该非圆形状具有与所述至 少一个束操纵孔周围的第一阵列图案的对称性相对应的至少一个对称性 组成部分。74、 根据权利要求73所述的粒子光学组件，其中，第一阵列图案是 大致矩形阵列图案，并且其中，所述对称性包括四重对称性。75、 根据权利要求73所述的粒子光学组件，其中，第一阵列图案是 大致六边形阵列图案，并且其中，所述对称性包括六重对称性。76、 根据权利要求73所述的粒子光学组件，其中，所述非圆形状是 从以下形状中的一个或更多个预选出的凹口形、正方形、桶形、枕形、 带有四个成形凸起的圆形、带有六个成形凸起的圆形、带有四个成形凹 口的圆形、带有六个成形凹口的圆形。77、 一种粒子光学排布结构，其包括至少一个带电粒子源，用于生成至少一束带电粒子或多个带电粒子 分束；和 至少一个根据权利要求73所述的粒子光学组件。78、 一种多电子分束检验系统，其包括-台，用于安装待检验物体； 至少一个电子源，用于生成至少一个电子束；多孔板，包括基本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多 孔图案，该多孔板将所述至少一个电子束分成电子分束阵列； 物镜，用于将电子分束阵列聚焦在待检验物体上；以及 检测器排布结构，用于检测来自物体的由电子分束阵列生成的二次电子，以产生与基本上由电子分束阵列中的单个电子分束生成的二次电 子相对应的信号的阵列；其中，至少一个束操纵孔具有非圆形状，该非圆形状具有与所述至 少一个束操纵孔周围的第一阵列图案的对称性相对应的至少一个对称性 组成部分。79、 一种用于对基板进行多电子分束检验的方法，该方法包括以下 步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在基板上形成 电子束斑阵列；其中，至少一个束操纵孔具有非圆形状，该非圆形状具有与所述至 少一个束操纵孔周围的第一阵列图案的对称性相对应的至少一个对称性 组成部分。80、 一种带电粒子多分束刻绘系统，用于在涂敷有抗蚀剂的物体上 写图案，该系统包括台，用于安装物体；至少一个带电粒子源，用于生成至少一个带电粒子束； 多孔板，包括基本上位于与所述至少一个带电粒子束相垂直的面中 的多孔图案，该多孔板将所述至少一个带电粒子束分成带电粒子分束阵列；以及物镜，用于将带电粒子分束阵列聚焦在物体上；并且其中，至少一个束操纵孔具有非圆形状，该非圆形状具有与所述至少一个束操纵孔周围的第一阵列图案的对称性相对应的至少一个对称性组成部分。81、 一种用于在涂敷有抗蚀剂的物体上写图案的方法，该方法包括 以下步骤生成至少一个电子束；使用至少一个第一电子光学组件，利用所述至少一个电子束照射至 少一块多孔板；利用多孔板将所述至少一个电子束分成分束阵列，该多孔板包括基 本上位于与所述至少一个电子束相垂直的面中的多孔图案；以及使用至少一个第二带电粒子光学组件，利用分束阵列在涂敷有抗蚀 剂的物体上形成电子束斑阵列；其中，至少一个束操纵孔具有非圆形状，该非圆形状具有与所述至 少一个束操纵孔周围的第一阵列图案的对称性相对应的至少一个对称性 组成部分。82、 一种粒子光学排布结构，其包括至少一个带电粒子源，用于生成至少一束带电粒子或多个带电粒子 分束；和至...
【专利技术属性】
技术研发人员：赖纳克尼佩梅尔，奥利弗金茨勒，托马斯克门，海科米勒，斯特凡乌勒曼，马克西米利安海德尔，安东尼奥卡萨雷斯，史蒂文罗杰，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT股份有限公司，以色列实用材料有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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