加热处理方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术能够防止被加热物的干燥不均匀。本发明专利技术的加热处理方法，将各自具有加热器的多个加热室串联连接，贯穿所述多个加热室而从上游向下游搬送被加热物，对每个加热室供给或排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量之比，使得在向着所述被加热体的温度上升方向上生成气流。

【技术实现步骤摘要】

5 本专利技术涉及加热处理方法和装置，特别是关于等离子体显示器面板(以下称为PDP)的制造工序中所使用的加热处理方法和装置。
技术介绍
在制造PDP时，在玻璃基板上形成显示电极，形成覆盖该显示电 io 极的介电体层和保护层而制作前面基板，在另--玻璃基板上形成地址 电极，在该地址电极上形成介电体层、隔离壁和荧光体层而制作背面 基板，将该前面基板与背面基板贴合，使显示电极与地址电极交叉。 而且，在形成厚膜的显示电极和地址扫描电极、介电体层、隔离壁以 及荧光体层的各工序中，是在基板上形成糊状物(Paste)层后，对该 15 糊状物层加热，实施干燥和烧结处理(例如参照专利文献l)。图8是表示现有的连续式加热炉的模式图，以及以该加热炉的位 置为横坐标、以基板的温度为纵坐标来表示炉温分布的曲线图。如图8所示，现有的连续式加热炉101由升温部102、均热部103、 以及降温部104构成，各部分由炉室105构成。在加热炉101内，作 20 为被加热物的基板(玻璃基板)111沿箭头112方向移动，通过升温部 102、均热部103以及降温部104。升温部102是将基板111从室温升 到温度T的部分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种加热处理方法，其特征在于：将各自具有加热器的多个加热室串联连接，贯穿所述多个加热室而从上游向下游搬送被加热物，对每个加热室供给、排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量，使得在向着所述被加热体的温度上升的方向上生成气流。

【技术特征摘要】
JP 2006-7-12 2006-1917171.一种加热处理方法，其特征在于将各自具有加热器的多个加热室串联连接，贯穿所述多个加热室而从上游向下游搬送被加热物，对每个加热室供给、排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量，使得在向着所述被加热体的温度上升的方向上生成气流。2. 根据权利要求1所述的加热处理方法，其特征在于 对于各加热室的温风的供气量之和与排气量之和相等且一定。3. 根据权利要求1所述的加热处理方法，其特征在于 与下游的加热室相比，上游的加热室的供气量大且排气量小。4.根据权利要求1所述的加热处理方法，其特征在于 从温风供给源经由第一节气闸向各加热室供给温风，从各加热室经由第二节气闸向排气装置排出温风，由第一和第二节气闸设定供气量与...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤尾俊介，藤永昭弘，金江达利，石塚和德，大矢根博志，柳桥靖男，
申请(专利权)人：富士通日立等离子显示器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]