加热处理方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术能够防止被加热物的干燥不均匀。本发明专利技术的加热处理方法，将各自具有加热器的多个加热室串联连接，贯穿所述多个加热室而从上游向下游搬送被加热物，对每个加热室供给或排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量之比，使得在向着所述被加热体的温度上升方向上生成气流。

【技术实现步骤摘要】

5 本专利技术涉及加热处理方法和装置，特别是关于等离子体显示器面板(以下称为PDP)的制造工序中所使用的加热处理方法和装置。
技术介绍
在制造PDP时，在玻璃基板上形成显示电极，形成覆盖该显示电 io 极的介电体层和保护层而制作前面基板，在另--玻璃基板上形成地址 电极，在该地址电极上形成介电体层、隔离壁和荧光体层而制作背面 基板，将该前面基板与背面基板贴合，使显示电极与地址电极交叉。 而且，在形成厚膜的显示电极和地址扫描电极、介电体层、隔离壁以 及荧光体层的各工序中，是在基板上形成糊状物(Paste)层后，对该 15 糊状物层加热，实施干燥和烧结处理(例如参照专利文献l)。图8是表示现有的连续式加热炉的模式图，以及以该加热炉的位 置为横坐标、以基板的温度为纵坐标来表示炉温分布的曲线图。如图8所示，现有的连续式加热炉101由升温部102、均热部103、 以及降温部104构成，各部分由炉室105构成。在加热炉101内，作 20 为被加热物的基板(玻璃基板)111沿箭头112方向移动，通过升温部 102、均热部103以及降温部104。升温部102是将基板111从室温升 到温度T的部分，均热部103是将基板111保持为温度T的部分，降 温部104是将基板111从温度T冷却的部分。日本专利特开平11-25854号公报2
技术实现思路
然而，在将基板表面涂敷有同样厚度的糊状物的隔离壁(肋)形 成用材料层在干燥炉中进行干燥的情况下，当基板很大时，难以均匀 地干燥，会产生干燥不均。所以，如果是由喷砂处理而形成隔离壁(肋)，30 则该干燥不均会作为隔离壁(肋)的宽度的偏差而明显化，存在有PDP制造工序中成品率下降的问题。本专利技术提供一种加热处理方法，将各自具有加热器的多个加热室 串联连接，贯穿上述多个加热室并从上游向下游搬送被加热物，对每 个加热室供给、排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量， 使得在向着上述被加热体的温度上升的方向上生成气流。对于各加热室的温风的供气量之和与排气量之和相等，也可以为一定o此外，从另一观点看，本专利技术提供一种加热处理装置，设置有各自具有加热器并串联连接的多个加热室；贯穿上述多个加热室并从上 游向下游搬送被加热物的搬送部；对各加热室供给温风的供气部；从各加热室排出温风的排气部，设定各加热室的温风的供气量与排气量， 使得在向着所述被加热体的温度上升的方向上生成气流。根据本专利技术，由于是从最上游的加热室向最下游的加热室生成温 风的气流，由加热器而生成的被加热物的温度分布由该温风气流的热 能与动能的作用而均匀化，所以，例如在适用于糊状物层的干燥工序的情况下，能够抑制干燥不均的发生。附图说明图1是适用于本专利技术的PDP的主要部分的分解立体图。 图2是表示PDP隔离壁形成工序的说明图。图3是本专利技术的加热装置的结构图。图4是图3的主要部分的放大图。图5是表示向图3所示的装置导入温风的状态的说明图。图6是表示由图3所示的装置所发生的气流的流动的说明图。图7是被加热物的温度曲线图的一例。图8是现有的加热炉与炉温分布的说明图。符号说明1加热处理装置2 被加热物6搬入口 7搬出口9搬送辊<table>table see original document page 6</column></row><table>15 具体实施例方式下面使用附图详细说明本专利技术的实施方式。但不以此对本专利技术进 行限制。本专利技术所适用的PDP，是在相对的2枚基板之间配置有矩阵状的 显示用的放电单元的装置。具体地，是由如图l所示的一对基板部件， 20 即背面基板部件50与前面基板部件50a所构成。其中，图中表示像素 (RGB的3单元)。在前面基板部件50a中，在玻璃基板ll的内面上，在用于产生沿 着基板面的面放电的横方向上延伸的电极X、 Y，作为决定显示行的显 示电极对S而配置。电极X、 Y分别由ITO薄膜构成的宽带状的透明 25 电极41、以及由金属薄膜构成的窄带状的总线电极42所构成。总线电极42是用于确保适当的导电性的辅助电极。设置有介电体 层17覆盖电极X、 Y。介电体层17的表面被保护膜18所覆盖。介电 体层17和保护膜18都具有透光性。接着，在背面基板部件50中，在背面侧的玻璃基板21的内面上， 30 与电极X、 Y正交的纵方向上配置有地址电极A，设置有介电体层25， 覆盖地址电极A。在介电体层25上的各地址电极A之间，逐个地设置有直线状(或格子状)的肋(隔离壁)29。在背面基板部件50中，通过这些隔离壁29，放电空间(放电单元) 30被划分为各子像素(单位发光区域)EU,且规定放电空间30的间 隙尺寸。5 而且，设置有用于进行彩色显示的R、 G、 B的3色荧光层28，包含介电体层25的上部和隔离壁29的侧面，覆盖背面侧的壁面。隔离壁29是由低熔点的玻璃所构成，不透过紫外线。其中，作为 隔离壁29的形成方法，如后面所述，在覆盖膜(《夕S莫)状的低熔点 玻璃层上通过光刻而设置蚀刻掩模，使用由喷砂而形成图案的工序。io 显示电极S与矩阵显示中的一行相对应，-个地址电极A与- 列相对应。而且，3列与一个像素(Pixel) EG相对应。就是说， 一个像 素EG由在线方向上并列的R、 G、 B的3个子像素EU所构成。通过地址电极A与电极Y之间的相对放电(地址放电)，进行用 于选择应该显示的单元的介电体层17中壁电荷的形成。对电极X、 Y15 交互施加脉冲时，在由上述地址放电形成了壁电荷的子像素EU中产生 显示用的面放电(主放电)。荧光体层28由面放电所产生的紫外线而被局部激励，发出规定颜 色的可见光。在该可见光内，透过玻璃基板11的光成为显示光。由于 肋29的配置图案、即所谓条纹图案，使对应于放电空间30内各列的20 部分，跨越全部的线而在列方向上连续。各列内的子像素EU的发光颜 色相同。接着，对这样的PDP中的隔离壁(肋)29的形成工序加以说明。(1) 首先，如图2所示，在形成有地址电极A和覆盖其的介电体 层25的玻璃基板21上，涂敷隔离壁形成用糊状物并干燥，由此形成25 隔离壁形成材料层31。(2) 接着，在隔离壁形成材料层31上设置具有耐喷砂性的感光 性保护层之后，通过遮光模而选择性地照射活性光线，随后通过显影 而形成具有隔离壁对应的开口图案的喷砂用掩模32。(3) 之后，对设置有隔离壁形成材料层31与喷砂用掩模32的被 30 加工基板33实施喷砂处理。由该喷砂的磨削作用，将除了喷砂用掩模32以外的隔离壁形成材料层31去除。(4)接着，去除掩模32，露出隔离壁对应的材料层并烧结。 由上述工序(1) (4)，形成隔离壁29。接着，使用图3 图7对上述工序(1)中隔离壁形成用糊状物的 千燥处理加以说明。5 图3是原理性地表示本专利技术的加热装置的结构图。图4是图3的主要部分的放大图。图5是表示向图3所示的装置导入温风的状态的 说明图。图6是表示炉内所发生的气流的流动状态的说明图。如图3所示，加热处理装置1设置有各自具有加热器的多个加热 室R1 R6，贯穿多个加热室R1 R6而从上游向下游、即沿着箭头3io 的方向搬送被加热物2，同时进行热处理。如图4所示，在加热处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种加热处理方法，其特征在于：将各自具有加热器的多个加热室串联连接，贯穿所述多个加热室而从上游向下游搬送被加热物，对每个加热室供给、排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量，使得在向着所述被加热体的温度上升的方向上生成气流。

【技术特征摘要】
JP 2006-7-12 2006-1917171.一种加热处理方法，其特征在于将各自具有加热器的多个加热室串联连接，贯穿所述多个加热室而从上游向下游搬送被加热物，对每个加热室供给、排出温风，设定各加热室的温风的供气量与排气量，使得在向着所述被加热体的温度上升的方向上生成气流。2. 根据权利要求1所述的加热处理方法，其特征在于 对于各加热室的温风的供气量之和与排气量之和相等且一定。3. 根据权利要求1所述的加热处理方法，其特征在于 与下游的加热室相比，上游的加热室的供气量大且排气量小。4.根据权利要求1所述的加热处理方法，其特征在于 从温风供给源经由第一节气闸向各加热室供给温风，从各加热室经由第二节气闸向排气装置排出温风，由第一和第二节气闸设定供气量与...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤尾俊介，藤永昭弘，金江达利，石塚和德，大矢根博志，柳桥靖男，
申请(专利权)人：富士通日立等离子显示器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]