阵列基板及其制备方法、显示屏技术

技术编号:31490750 阅读:25 留言:0更新日期:2021-12-18 12:27
本发明专利技术涉及一种阵列基板及其制备方法、显示屏。该阵列基板包括:透明基材层,具有一可视侧;可视侧所在表面开设有多条填充槽,多条填充槽将可视侧分隔形成多个发光区域;及光致变色层,填充于每条填充槽内;其中,光致变色层能够在外来光照射下由透明状态切换至遮光状态,且在外来光消失时由遮光状态复原至透明状态。当应用在室外场景时,外来光为阳光。当阳光照射显示屏时,显示屏内的阵列基板上的光致变色层在阳光的照射下由透明状态切换至遮光状态,一方面吸收阳光中的特定光;另一方面处于遮光状态的光致变色层对阳光光线进行阻挡,阻止阳光光线在显示屏内传播形成杂散光,大大减弱了对显示屏的显示画面造成清晰度下降的影响。对显示屏的显示画面造成清晰度下降的影响。对显示屏的显示画面造成清晰度下降的影响。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法、显示屏


[0001]本专利技术涉及显示
,特别是涉及一种阵列基板及其制备方法、显示屏。

技术介绍

[0002]随着科学技术的不断发展,越来越多的具有显示功能的电子设备被广泛应用于人们的日常生活以及工作当中,为人们的日常生活以及工作带来了巨大的便利,成为当今人们不可或缺的重要工具。随着Mini LED显示技术的迅速发展,Mini LED显示屏已开始应用于超大屏高清显示,如监控指挥、高清演播、高端影院、医疗诊断、广告显示、会议会展、办公显示、虚拟现实等商用领域。
[0003]对于Mini LED透明显示屏,由于多使用在户外或建筑物上,容易受到阳光的照射,阳光照射进入显示屏后产生大量的杂散光,导致显示屏的显示画面清晰度下降。

技术实现思路

[0004]基于此,有必要针对现有技术中由于阳光照射进入显示屏后产生大量的杂散光,导致显示屏的显示画面清晰度下降的问题,提供一种改善上述缺陷的阵列基板及其制备方法、显示屏。
[0005]一种阵列基板,包括:
[0006]透明基材层,具有一可视侧;所述可视侧所在表面开设有多条填充槽,所述多条填充槽纵横交错并将所述可视侧分隔形成多个发光区域;及
[0007]光致变色层,填充于每条所述填充槽内;
[0008]其中,所述光致变色层能够在经所述可视侧射入的外来光照射下由透明状态切换至吸收外来光中特定光的遮光状态,且在外来光消失时由所述遮光状态复原至所述透明状态。
[0009]在其中一个实施例中,所述阵列基板还包括多个发光元件,所述多个发光元件呈阵列地排布于所述透明基材层上,且每个所述发光区域均设置有一个或多个所述发光元件。
[0010]在其中一个实施例中,所述多条填充槽中包括与第一方向平行的多条第一填充槽和与第二方向平行的多条第二填充槽,所述第一方向和所述第二方向相交;
[0011]各条所述第一填充槽沿所述第二方向间隔布设,各条所述第二填充槽沿所述第一方向间隔布设。
[0012]在其中一个实施例中,每一所述发光元件位于所述透明基材层的内部。
[0013]在其中一个实施例中,所述阵列基板还包括设置于所述透明基材层内部的导电层,所述导电层与每一所述发光元件电连接;
[0014]在与所述透明基材层所在的平面垂直的方向上,每一所述填充槽的深度尺寸小于或等于所述导电层距离所述透明基材层的可视侧所在表面的尺寸。
[0015]在其中一个实施例中,由所述透明基材层的中间部位至周侧边缘的所述填充槽的
布设密度逐渐降低。
[0016]在其中一个实施例中,所述透明基材层由中间部位至周侧边缘依次具有第一显示区域、第二显示区域及第三显示区域,所述第二显示区域围绕所述第一显示区域,所述第三显示区域围绕所述第二显示区域;
[0017]所述第一显示区域内的所述填充槽的布设密度大于所述第二显示区域内的所述填充槽的布设密度,所述第二显示区域内的所述填充槽的布设密度大于所述第三显示区域内的所述填充槽的布设密度。
[0018]一种阵列基板的制备方法,包括步骤:
[0019]采用灌胶工艺在所述灌胶工位上形成透明基材层;其中,所述透明基材层具有一可视侧;
[0020]采用构图工艺在透明基材层的所述可视侧所在表面上形成多条填充槽,以将所述可视侧分隔形成多个发光区域;
[0021]将光致变色材料注入每一所述填充槽,并固化形成光致变色层。
[0022]在其中一个实施例中,在采用灌胶工艺在所述灌胶工位上形成透明基材层的步骤之前还包括步骤:
[0023]将多个发光元件以及导电层排布在所述灌胶工位,且所述导电层与各个所述发光元件电连接。
[0024]一种显示屏,包括如上任一实施例中所述的阵列基板。
[0025]上述阵列基板及其制备方法、显示屏,当具有该阵列基板的显示屏应用在室外场景时,外来光为阳光。当阳光照射显示屏时,显示屏内的阵列基板上的光致变色层在阳光的照射下由透明状态切换至遮光状态,一方面吸收阳光中的特定光(例如紫外光);另一方面处于遮光状态的光致变色层对阳光光线进行阻挡,阻止阳光光线在显示屏内传播形成杂散光,大大减弱了阳光光线对显示屏的显示画面造成清晰度下降的影响。
附图说明
[0026]图1为本专利技术一实施例中阵列基板的主视图;
[0027]图2为示出了图1所示的阵列基板沿A

A方向的剖视图(光致变色层处于透明状态);
[0028]图3为示出了图1所示的阵列基板沿A

A方向的剖视图(光致变色层处于遮光状态);
[0029]图4示出了阵列基板的第一显示区域、第二显示区域及第三显示区域的示意图;
[0030]图5示出了阵列基板的制备方法的步骤流程图。
具体实施方式
[0031]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进,因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0032]在本专利技术的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、

厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0033]此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
[0034]在本专利技术中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0035]在本专利技术中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:透明基材层(10),具有一可视侧(13);所述可视侧(13)所在表面开设有多条填充槽(11),所述多条填充槽纵横交错并将所述可视侧分隔形成多个发光区域(12);及光致变色层(30),填充于每条所述填充槽(11)内;其中,所述光致变色层(30)能够在经所述可视侧(13)射入的外来光照射下由透明状态切换至吸收外来光中特定光的遮光状态,且在外来光消失时由所述遮光状态复原至所述透明状态。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括多个发光元件(20),所述多个发光元件(20)呈阵列地排布于所述透明基材层(10)上,且每个所述发光区域(12)均设置有一个或多个所述发光元件(20)。3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述多条填充槽(11)中包括与第一方向(a1)平行的多条第一填充槽(11a)和与第二方向(a2)平行的多条第二填充槽(11b),所述第一方向(a1)和所述第二方向(a2)相交;各条所述第一填充槽(11a)沿所述第二方向(a2)间隔布设,各条所述第二填充槽(11b)沿所述第一方向(a1)间隔布设。4.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,每一所述发光元件(20)位于所述透明基材层(10)的内部。5.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括设置于所述透明基材层(10)内部的导电层(40),所述导电层(40)与每一所述发光元件(20)电连接;在与所述透明基材层(10)所在的平面垂直的方向上,每一所述填充槽(11)的深度尺寸小于或等于所述导电层(40)距离所述透...

【专利技术属性】
技术研发人员:庄觐懋
申请(专利权)人:业成光电深圳有限公司业成光电无锡有限公司英特盛科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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