一种用于气体吸附/脱附动力学测定的努森池-质谱仪制造技术

本发明专利技术属于质谱仪器技术领域。具体而言，本发明专利技术提供了一种努森池－质谱仪。其可用于瞬态气体吸附／脱附动力学、吸附量／脱附量的测定。其包括气体泄漏阀、努森池、连续可调虹膜或可更换泄漏孔、过渡室、门阀、质谱仪、温度测量系统、温度控制系统、压力测量系统和压力控制系统。气体泄漏阀作为常压和低压的接口，可控制进入真空系统的气体量。努森池由可垂直运动的样品盖、固定的样品池、温度和压力测量控制系统构成。质谱仪作为气体检测器。所有腔体内表面经表面处理，具有化学惰性。本发明专利技术提供的努森池质谱仪可精确测定气体在粉末样品上的吸附脱附动力学常数和吸附量，尤其适用于物理化学领域、大气环境领域的相关研究。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于质谱仪器
具体涉及努森池和质谱仪。
技术介绍
气体在固体粉末样品上的摄取(吸附、吸收、催化反应)和脱附是大气环境化学和物理化学 领域的重要过程。在大气环境领域，痕量气体在固体粉末样品上的摄取系数是研究痕量气体 在环境微界面上迁移转化规律的不可缺少的动力学参数。在物理化学领域，气体在固体粉末 样品上的瞬态吸附/脱附速率常数、吸附量/脱附量也是研究气-固界面的微观过程的重要参数。目前，基于布朗诺尔-埃米特-泰勒(BET)多层吸附理论的比表面积测定仪，可用于气体在 固体粉末样品表面的吸附量的测定。例如Quantachrome Instruments、 Micromeritics公司等生 产的比表面积测定仪均可用于气体在固体粉末样品上物理、化学吸附量测定。然而，该方法 属于稳态测定方法、耗时长，而且不能测定瞬态吸附速率常数。程序升温脱附(TPD)常用于固 体粉末样品上气体脱附过程的测定。其中利用质谱为检测器的TPD-MS可以测定气体的瞬态 脱附过程，但是不能同时获得吸附过程的信息。而利用努森池和质谱仪连接，努森池中粉末 样品可暴露或隔离于被测气体气氛，从而可以在完成本文档来自技高网...

【技术保护点】
努森池－质谱仪包括气体泄漏阀、努森池、连续可调虹膜、过渡室、门阀、四级质谱仪、温度测量系统、温度控制系统、压力测量系统和压力控制系统，其特征在于泄漏阀、努森池、连续可调虹膜、过渡室、门阀、小孔、质谱仪依次连接；努森池由可垂直运动的样品盖、固定的可更换的样品池、温度和压力测量控制系统构成。

【技术特征摘要】
1、 努森池-质谱仪包括气体泄漏阀、努森池、连续可调虹膜、过渡室、门阀、四级质谱 仪、温度测量系统、温度控制系统、压力测量系统和压力控制系统，其特征在于泄漏阀、努 森池、连续可调虹膜、过渡室、门阀、小？L、质谱仪依次连接；努森池由可垂直运动的样品 盖、固定的可更换的样品池、温度和压力测量控制系统构成。2、 根据权利要求1所述的努森池-质谱仪，其特征在于利用泄漏阀作为常压和低压的接 口，并能够控制进入真空系统的气体量；努森池和过渡室之间利用虹膜或泄漏孔连接，其孔 径在0-20 mm之间连续可调；过渡室和质谱仪之间利用门阀连接，保证更换样品时质谱系统 的真空度不变。3、 根据权利要求1所述的努森池-质谱仪，其特征在于样品盖能垂直运动，使样品暴露 或隔离于气体气氛中，样品盖和样品台之间用O型圈密封。4、 根据权利要求1所述的努森池-质谱仪，其特征在于努森池所有腔体内表面...

【专利技术属性】
技术研发人员：贺泓，刘永春，
申请(专利权)人：中国科学院生态环境研究中心，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]