缺陷分析方法及装置、电子装置及计算机可读存储介质制造方法及图纸

一种缺陷分析方法，所述缺陷分析方法包括：获取各制程站点各机台所经过的产品的基本信息；获取各制程站点各机台的生产因子信息；获取各缺陷检测站点所检测的产品的缺陷信息，所述产品在经过至少一个制程站点后经过所述缺陷检测站点；根据所述各制程站点各机台所经过的产品的基本信息及所述产品的缺陷信息确定问题制程站点的问题机台；根据所述各机台的生产因子信息及所述产品的缺陷信息确定影响问题机台的生产因子。本案还提供一种缺陷分析装置、一种电子装置及一种计算机可读存储介质，可提高分析的效率及准确度，且可确定影响问题机台的生产因子。问题机台的生产因子。问题机台的生产因子。

【技术实现步骤摘要】
缺陷分析方法及装置、电子装置及计算机可读存储介质


[0001]本专利技术涉及缺陷分析
，具体涉及一种缺陷分析方法及装置、电子装置及计算机可读存储介质。

技术介绍

[0002]目前，在半导体制造业、光电产业制造场景中，原料或半成品在制造过程中会经过很多制程站点。每个制程站点可能有多台机台负责各自的制程。原料或半成品因产品类别、参数不同可能会经过不同或相同的站点和/或机台，并通过各阶段的缺陷检测站点检验产品的缺陷信息。为了提高产品的良率，通常会统计产品的相关信息来进行人工的分析，以确定问题站点及问题机台。但是由于为人工分析，分析的效率较低，且准确度主要依赖于分析员工的水平。此外，现有的分析方法无法确定影响问题机台的生产因子。

技术实现思路

[0003]鉴于此，有必要提供一种缺陷分析方法及装置、电子装置及计算机可读存储介质，可提高分析的效率及准确度，且可确定影响问题机台的生产因子。
[0004]本申请的第一方面提供一种缺陷分析方法，所述缺陷分析方法包括：
[0005]获取各制程站点各机台所经过的产品的基本信息；<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种缺陷分析方法，其特征在于，所述缺陷分析方法包括：获取各制程站点各机台所经过的产品的基本信息；获取各制程站点各机台的生产因子信息；获取各缺陷检测站点所检测的产品的缺陷信息，所述产品在经过至少一个制程站点后经过所述缺陷检测站点；根据所述各制程站点各机台所经过的产品的基本信息及所述产品的缺陷信息确定问题制程站点的问题机台；根据所述各机台的生产因子信息及所述产品的缺陷信息确定影响问题机台的生产因子。2.如权利要求1所述的缺陷分析方法，其特征在于，所述根据所述各制程站点各机台所经过的产品的基本信息及所述产品的缺陷信息确定问题制程站点的问题机台包括：根据所述各制程站点各机台所经过的产品的基本信息及所述产品的缺陷信息确定预设组合的瑕疵现象集中程度，所述预设组合为制程站点和机台的组合；根据所述预设组合的瑕疵现象集中程度确定所述问题制程站点的问题机台。3.如权利要求2所述的缺陷分析方法，其特征在于，所述根据所述各制程站点各机台所经过的产品的基本信息及所述产品的缺陷信息确定预设组合的瑕疵现象集中程度包括：根据所述各制程站点各机台所经过的产品的基本信息确定各预设组合所经过的产品的产量在所有预设组合所经过的产品的总产量中所占的比重a1；根据所述各制程站点各机台所经过的产品的基本信息及所述产品的缺陷信息确定各预设组合所经过的产品中有缺陷的产量在各预设组合所经过的产品的产量中所占的比重a2；根据所述各制程站点各机台所经过的产品的基本信息及所述产品的缺陷信息确定a2与所有预设组合所经过的产品中有缺陷的总产量在所有预设组合所经过的产品的总产量中所占的比重a3的比值a4；根据所述比重a1、所述比重a2及所述比值a4确定所述预设组合的瑕疵现象集中程度。4.如权利要求3所述的缺陷分析方法，其特征在于，所述根据所述比重a1、所述比重a2及所述比值a4确定所述预设组合的瑕疵现象集中程度包括：计算以所述比重a1、所述比重a2及所述比值a4作为参数的预设函数的值；根据所述预设函数的值确定所述预设组合的瑕疵现象集中程度，其中所述预设函数的值越大，所述预设组合的瑕疵现象集中程度越高；所述预设函数的值越小，所述预设组合的瑕疵现象集中程度越低，或者所述预设函数的值越小，所述预设组合的瑕疵现象集中程度越高；所述预设函数的值越大，所述预设组合的瑕疵现象集中程度越低。5.如权利要求1所述的缺陷分析方法，其特征在于，所述根据所述各机台的生产因子信息及所述产品的缺陷信息确定影响问题机台的生产因子包括：根据所述各机台的生产因子信息确定所述机台的生产因子的类型为连续型和类别型中的一种；根据所述机台的生产因子的类型及所述问题机台所经过的产品的缺陷信息的数量从T检验、曼-惠特尼-维尔科克...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈怡如，艾雪芳，林尚毅，薛凯薰，
申请(专利权)人：鸿富锦精密电子天津有限公司，
类型：发明
国别省市：