【技术实现步骤摘要】
分子束外延生长装置用的基片支架和衬底托盘
[0001]本技术涉及分子束外延生产用的设备，特别涉及分子束外延生长装置用的基片支架。
技术介绍
[0002]如图1现有技术的MBE生长设备中，基片支架包括内磁转子一1、衬底托盘3，衬底托盘3通过拉杆2连接在一起，在衬底托盘上设置放置衬底用的通孔21，通孔以衬底托盘的圆心为中心分布有多个，在通孔上同轴设置沉孔13，衬底由沉孔的台阶支撑，在内磁转子一1和衬底托盘3间设置加热盘4，加热盘为加热盘，通过拉杆与连接筒连接呈一体与MBE的架体连接。工作时，衬底放在衬底托盘3的沉孔上，通过内磁转子一1和衬底托盘3之间的加热盘4加热让衬底温度升高并稳定在预设值，为使加热和外延生长均匀，整个样品架旋转，旋转过程由外磁转子带动内磁转子一1转动、内磁转子一1通过拉杆2带动衬底托盘3转动。在MBE生长中温度的均匀性和源炉束流的均匀性决定了生长样品的均匀性，加热不均匀，以及源炉束流不均匀会导致生长的样品不均匀、生长出的膜的均匀性差，质量差。采用现有技术结构的基片支架在上述过程中由于衬底托盘3上的衬底会随着衬...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.衬底托盘，其特征在于，在所述衬底托盘的盘本体（11）上设置有主动齿轮（7）和至少一个被动齿轮（6），主动齿轮带动被动齿轮转动，所述主动齿轮位于盘本体的中心，主动齿轮的齿轮轴与盘本体的轴线同轴设置，各被动齿轮均与主动齿轮啮合，所述被动齿轮具有齿轮孔一，在盘本体上与齿轮孔一（14）相对的位置设置有通孔一（12），盘本体的表面上与通孔一同轴设置沉孔（13），被动齿轮全部或部分位于所述沉孔内，被动齿轮的回转中心线、通孔一的孔中心线及齿轮孔一的孔中心线同轴，所述被动齿轮和主动齿轮的上表面位于同一平面或主动齿轮的上表面低于被动齿轮的上表面。2.分子束外延生长装置用的基片支架，其特征在于，包括权利要求1所述的衬底托盘，筒形的内磁转子...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈意桥，颜全，
申请(专利权)人：苏州焜原光电有限公司，
类型：新型
国别省市：
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