温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型是针对采用现有基片生长架进行分子束外延生长时衬底在半径方向上受热和源炉束流不均匀的不足提供一种分子束外延生长装置用的基片支架和衬底托盘，衬底托盘的盘本体上设置有主动齿轮和至少一个被动齿轮，主动齿轮带动被动齿轮转动，分子束外延生长装...
该专利属于苏州焜原光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州焜原光电有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。