一种真空灭弧室用的新型触头制造技术

一种真空灭弧室用的新型触头，其特征在于：它包括凸触头（１）和凹触头（２），凸触头（１）和凹触头（２）均为圆柱体，凸触头（１）的一个端面为凸出形，凹触头（２）的一个端面为凹陷形，凸触头（１）和凹触头（２）成对使用，两个触头接触时，凸触头（１）的凸出伸入到凹触头（２）的凹陷中，并紧密接触。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：顾斌，
申请(专利权)人：中国振华集团科技股份有限公司宇光分公司，
类型：实用新型
国别省市：