真空灭弧室用的一体化屏蔽筒制造技术

技术编号:3134490 阅读:645 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种真空灭弧室用的一体化屏蔽筒。屏蔽筒(1)由一块材料压制成形,屏蔽筒(1)中部的外圆面压制有环形凸台(2)。本实用新型专利技术改变了传统真空灭弧室中屏蔽筒由上、下两节屏蔽筒焊接而成的结构,设计新颖,制作工艺简单,降低了生产成本,一次通过率高,提高了屏蔽筒内表面的光洁度,使屏蔽筒中的电场分布均匀,避免了屏蔽筒内的尖端放电,提高了屏蔽筒的耐压,提高了产品质量。(*该技术在2015年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空灭弧室中的屏蔽筒。
技术介绍
屏蔽筒在真空灭弧室中的作用是起均压作用和吸附金属粒子的作用,传统真空灭弧室中的屏蔽筒是由上、下两节屏蔽筒焊接而成的。这种结构不可避免的存在以下问题上、下两节屏蔽筒很难保证同轴度,会影响电场的均匀分布;在上、下两节屏蔽筒结合处要车制焊接台阶,既增加了制作工艺,也造成屏蔽筒材料的浪费;如果车制焊接台阶的厚度控制不好,连接处就不平整,会造成尖端放电,影响屏蔽筒的耐压;大多数的屏蔽筒是电镀件,电镀后由于焊接台阶厚度的增加,如果车制的焊接台阶留的余量不够,还可能会造成电镀后上、下两节屏蔽筒装不上;在上、下两节屏蔽筒焊接时,屏蔽筒的内表面可能会有焊料的流散,影响屏蔽筒内表面的光洁度。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种结构简单的真空灭弧室用的一体化屏蔽筒。有效的解决由上、下两节屏蔽筒焊接制作成的屏蔽筒所存在的屏蔽筒内电场分布不均匀,存在尖端放电和耐压低的问题。本技术的技术方案。真空灭弧室用的一体化屏蔽筒。屏蔽筒1由一块材料压制成形,屏蔽筒1中部的外圆面压制有环形凸台2。上述的真空灭弧室用的一体化屏蔽筒,环形凸台2焊接面是环形平面3。与现有技术比较本文档来自技高网...

【技术保护点】
真空灭弧室用的一体化屏蔽筒,其特征在于:屏蔽筒(1)由一块材料压制成形,屏蔽筒(1)中部的外圆面压制有环形凸台(2)。

【技术特征摘要】
1.真空灭弧室用的一体化屏蔽筒,其特征在于屏蔽筒(1)由一块材料压制成形,屏蔽筒(1)中部的外圆面压制有环形凸...

【专利技术属性】
技术研发人员:顾斌
申请(专利权)人:中国振华集团科技股份有限公司宇光分公司
类型:实用新型
国别省市:52[中国|贵州]

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