【技术实现步骤摘要】
PG PAD金属结构版图及其设计方法
[0001]本专利技术涉及集成电路设计
,特别涉及一种PG PAD金属结构版图及其设计方法。
技术介绍
[0002]在芯片中,PG PAD是Power/Ground PAD(电源/地焊盘)的简称,为芯片提供电源或地,其作用是供电。常见的PG PAD电路中ESD保护部分的核心结构如图1所示,其中包括NMOS管和寄生二极管PDIODE,NMOS管的源端和衬底端接地VSS,漏端接VDD,PDIODE的正极接地VSS,负极接VDD。在芯片设计过程中,PG PAD的版图设计与封装打线需求会互相影响,而PG PAD的版图也会影响其他部分模拟版图的设计和数字PR(Place Route,布局布线)的设计,所以要求PG PAD的版图在完成之后不允许改变版图的边框。现有的PG PAD金属结构版图设计方法,假如在封装评估阶段出现不能满足封装需求的情况,则可能需要修改封装打线方案或修改PG PAD金属结构版图。根据修改幅度的不同,会增加0.5天~1个月的工作量,从而导致设计效率低。
技术实现思路
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种PG PAD金属结构版图,其特征在于,包括:第一金属结构(101),位于第一接入点区域(201)、第三接入点区域(203)和第五接入点区域(205)内,所述第一接入点区域(201)、所述第三接入点区域(203)和所述第五接入点区域(205)沿第一方向依次排布;第二金属结构(102),位于与所述第一金属结构(101)相同的接入点区域内,且在相同的接入点区域内所述第二金属结构(102)与所述第一金属结构(101)沿第二方向间隔排布;第三金属结构(103),位于第二接入点区域(202)内,所述第二接入点区域(202)位于所述第一接入点区域(201)和所述第三接入点区域(203)之间,所述第三金属结构(103)与相邻的所述第一金属结构(101)连接;第四金属结构(104),位于所述第二接入点区域(202)内,且与所述第三金属结构(103)沿所述第二方向间隔排布,所述第四金属结构(104)与相邻的所述第二金属结构(102)连接;第五金属结构(105),位于第四接入点区域(204)内,所述第四接入点区域(204)位于所述第三接入点区域(203)和所述第五接入点区域(205)之间,所述第五金属结构(105)与相邻的所述第一金属结构(101)连接;第六金属结构(106),位于所述第四接入点区域(204)内,且与所述第五金属结构(105)沿所述第二方向间隔排布,所述第六金属结构(106)与相邻的所述第二金属结构(102)连接。2.根据权利要求1所述的PG PAD金属结构版图,其特征在于,所述第一金属结构(101)和所述第二金属结构(102)的金属层次均为2层。3.根据权利要求1或2所述的PG PAD金属结构版图,其特征在于,所述第三金属结构(103)、所述第四金属结构(104)、所述第五金...
【专利技术属性】
技术研发人员:熊剑锋,
申请(专利权)人:珠海妙存科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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