一种磊晶装置的清灰管路及磊晶装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于半导体制造装置领域，公开了一种磊晶装置的清灰管路及磊晶装置。磊晶装置包括磊晶腔体和传送腔体，磊晶装置的清灰管路包括三通阀、排灰气源以及清灰管路，三通阀包括第一接口、第二接口以及第三接口，第一接口连通磊晶腔体，第二接口连通传送腔体，排灰气源能够和第二接口连通，第三接口连通清灰管路，三通阀的第二接口被配置为与第一接口和第三接口同时断开或者择一连通。第二接口与第一接口连通，平衡了磊晶腔体和传送腔体之间的压差。第二接口和第三接口连通，再将第二接口连通于排灰气源，从而使均压管路中的微尘能够通过清灰管路排出，清洁了管路内的灰尘，结构简单，实施方便。实施方便。实施方便。

【技术实现步骤摘要】
一种磊晶装置的清灰管路及磊晶装置


[0001]本技术涉及半导体制造装置领域，尤其涉及一种磊晶装置的清灰管路及磊晶装置。

技术介绍

[0002]磊晶机台在传送芯片时，在传送腔体及磊晶腔体之间存在压差，压差过大可能导致芯片的破损或缺陷。为了解决这个问题，需要在两个腔体之间设置等压阀，在芯片的传送过程前，先开启等压阀，以平衡两个腔体之间的压力，在两个腔体的压差均衡后关闭等压阀，再将芯片由传送腔体传送进入磊晶腔体。随着长时间的使用，微尘容易聚积于等压阀和管路内，当微尘足够多时，微尘会在等压阀开启瞬间喷入腔体内部，造成腔体内部的工艺环境不良，进而造成在芯片传送进入后，在生产时有不同程度的工艺缺陷。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种磊晶装置的清灰管路及磊晶装置，清洁连通磊晶腔体和传送腔体的管路里的灰尘。
[0004]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]一种磊晶装置的清灰管路，用于磊晶装置的清灰，所述磊晶装置包括磊晶腔体和传送腔体，所述磊晶装置的清灰管路包括：
[0006]三通阀，所述三通阀本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磊晶装置的清灰管路，用于磊晶装置的清灰，所述磊晶装置包括磊晶腔体(100)和传送腔体(200)，其特征在于，所述磊晶装置的清灰管路包括：三通阀(1)，所述三通阀(1)包括第一接口(11)、第二接口(12)以及第三接口(13)，所述第一接口(11)连通所述磊晶腔体(100)，所述第二接口(12)连通所述传送腔体(200)；排灰气源，所述排灰气源能够和所述第二接口(12)连通；清灰管路(2)，所述清灰管路(2)连通所述第三接口(13)；所述三通阀(1)的所述第二接口(12)被配置为与所述第一接口(11)和所述第三接口(13)同时断开或者择一连通。2.根据权利要求1所述的磊晶装置的清灰管路，其特征在于，所述三通阀(1)上设置有第一控制件(111)和第二控制件(121)，所述第一控制件(111)用于控制所述第一接口(11)的启闭，所述第二控制件(121)用于控制所述第二接口(12)的启闭。3.根据权利要求1所述的磊晶装置的清灰管路，其特征在于，还包括微尘感应器(3)，所述微尘感应器(3)设置于所述第一接口(11)或者所述第二接口(12)处，所述微尘感应器(3)用于检测所述第一接口(11)或者所述第二接口(12)处的微尘含量。4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：温智中，
申请(专利权)人：泉芯集成电路制造济南有限公司，
类型：新型
国别省市：