一种可调节溅射角度的磁控溅射镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了磁控溅射镀膜机的一种可调节溅射角度的磁控溅射镀膜机，包括镀膜箱，所述镀膜箱的内顶壁固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有载物架，所述镀膜箱的右侧壁安装有电子枪，所述镀膜箱的右侧壁转动连接有支撑轴，所述支撑轴的下方设置有转动组件，所述支撑轴的左端铰接有底座，所述支撑轴的外表面固定连接有连接板，所述连接板左侧面的下部铰接有电动推杆。本实用新型专利技术设计结构合理，它能够通过第二电机、第一齿轮、第二齿轮、支撑轴、底座、坩埚、镀膜箱、电动推杆以及凹槽的配合设置，对该装置的溅射角度进行调节，提高了该装置的镀膜效果，增加了该装置的实用性。实用性。实用性。

【技术实现步骤摘要】
一种可调节溅射角度的磁控溅射镀膜机


[0001]本技术涉及磁控溅射镀膜机领域，具体是一种可调节溅射角度的磁控溅射镀膜机。

技术介绍

[0002]磁控溅射镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器。在低气压下电子对阴极靶材进行高速撞击，与靶材发生反应，产生金属物质溅射到基面上，对基面进行镀膜，磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
[0003]现有的磁控溅射镀膜机无法对溅射角度进行调节，这就造成磁控溅射镀膜机在使用时，电子枪无法将坩埚内的靶材无法完全蒸发，不仅降低了该装置的镀膜效果，而且造成资源的浪费，为此，我们提出一种可调节溅射角度的磁控溅射镀膜机来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种可调节溅射角度的磁控溅射镀膜机，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0006]一种可调节溅射角度的磁控溅射镀膜机，包括镀膜箱，所述镀膜箱的内顶壁固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可调节溅射角度的磁控溅射镀膜机，包括镀膜箱(1)，其特征在于：所述镀膜箱(1)的内顶壁固定连接有第一电机(2)，所述第一电机(2)的输出端固定连接有载物架(3)，所述镀膜箱(1)的右侧壁安装有电子枪(5)，所述镀膜箱(1)的右侧壁转动连接有支撑轴(6)，所述支撑轴(6)的下方设置有转动组件(8)，所述支撑轴(6)的左端铰接有底座(9)，所述支撑轴(6)的外表面固定连接有连接板(7)，所述连接板(7)左侧面的下部铰接有电动推杆(10)，所述电动推杆(10)的输出端与底座(9)底面的左侧相铰接，所述底座(9)的内部设有坩埚(11)，所述底座(9)与坩埚(11)之间设置有一组卡接组件(12)，所述坩埚(11)的上表面开设有凹槽(13)，所述坩埚(11)的底面固定连接有磁板(14)，所述坩埚(11)的正面安装有把手。2.根据权利要求1所述的一种可调节溅射角度的磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述转动组件(8)包括第二电机(801)和第二齿轮(803)，所述第二电机(801)的固定连接于镀膜箱(1)的右侧壁，所述第二电机(801)的输出端固定连接有第一齿轮(802)，所述支撑轴(6)的外表面固定连接有第二齿轮(...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔福顺，
申请(专利权)人：镇江三维真空光学有限公司，
类型：新型
国别省市：