多功能磁控溅射镀膜机制造技术

技术编号:31101007 阅读:49 留言:0更新日期:2021-12-01 19:15
本实用新型专利技术公开了镀膜机领域的多功能磁控溅射镀膜机,包括本体,本体前端下部安装有抽屉,抽屉与本体滑动连接,抽屉前端安装有拉手,抽屉内底端安装有隔板,隔板两端均与抽屉固定连接,本体左侧壁下部连接有电源线,本体后端安装有散热箱,散热箱内中部安装有风机,风机右侧壁中部连接有进气口,进气口左端与风机连通,散热箱左侧壁安装有出风口,出风口左侧与本体连通,本体和散热箱下端左右两处均安装有滚轮;本实用新型专利技术中,通过启动风机,空气穿过过滤网进入到散热箱内,再从出风口排出对物件进行降温作业,减少高温对镀膜作业产生影响,带来便捷,实现了装置的多功能性。实现了装置的多功能性。实现了装置的多功能性。

【技术实现步骤摘要】
多功能磁控溅射镀膜机


[0001]本技术涉及镀膜机领域,具体是多功能磁控溅射镀膜机。

技术介绍

[0002]磁控溅射镀膜机是用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上,电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子借助于靶表面上形成的正交电磁场,被束缚在靶表面特定区域,增强电离效率,增加离子密度和能量,从而实现高速率溅射。是制备低维度,小尺寸纳米材料器件的必备实验手段,广泛应用于集成电路,光子晶体,低维半导体等领域。
[0003]目前现有技术中,多功能磁控溅射镀膜机在对物件镀膜作业时,物件表面会产生高温,高温会对镀膜作业产生影响,带来不便,无法实现装置的多功能性;现有技术中物件表面会附着大量的灰尘,灰尘对物件进行镀膜产生不便,导致内部产生污染,使镀膜达不到标准,从而提高了生产的成本。

技术实现思路
<本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.多功能磁控溅射镀膜机,包括本体(3),其特征在于:所述本体(3)前端下部安装有抽屉(5),所述抽屉(5)与本体(3)滑动连接,所述抽屉(5)前端安装有拉手(6),所述抽屉(5)内底端安装有隔板(7),所述隔板(7)两端均与抽屉(5)固定连接,所述本体(3)左侧壁下部连接有电源线(9),所述本体(3)后端安装有散热箱(1),所述散热箱(1)内中部安装有风机(16),所述风机(16)右侧壁中部连接有进气口(24),所述进气口(24)左端与风机(16)连通,所述散热箱(1)左侧壁安装有出风口(17),所述出风口(17)左侧与本体(3)连通,所述本体(3)和散热箱(1)下端左右两处均安装有滚轮(8)。2.根据权利要求1所述的多功能磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述本体(3)前端上部安装有控制面板(4),所述控制面板(4)均与风机(16)和本体(3)电性连接。3.根据权利要求1所述的多功能磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述进气口(24)右侧安装有过滤网(18),所述过滤网(18)上下端均与进气口(24)固定连接。4....

【专利技术属性】
技术研发人员:崔福顺
申请(专利权)人:镇江三维真空光学有限公司
类型:新型
国别省市:

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