【技术实现步骤摘要】
光机换能器装置与对应的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年6月5日提交的,意大利申请No.1020200000013462的权益,该申请于此通过引用并入本文。
[0003]本说明书涉及光机系统。一个或多个实施例可以用于光学对准。
技术介绍
[0004]微光机电系统(MOEMS),也被称为光学微机电系统或光学MEMS,是涉及在非常小的尺寸范围内感测或操纵光学信号的系统,其例如,使用集成的机械、光学和电气系统,将机械模式耦合到光模式,或将光模式耦合到机械模式。
[0005]这样的类型的系统在例如,Midolo,L.,Schliesser,A.与Fiore,A.所著的:“Nano
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opto
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electro
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mechanical systems”,Nature Nanotech 13,11
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18(2018),doi:10.1038/s41565
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017
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种装置,包括:光学透明基底,具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面;压电膜,布置在所述光学透明基底的所述第一表面处,所述压电膜被配置为由于光束传播通过所述光学透明基底并且冲击到所述压电膜上而振荡,其中面向所述光学透明基底的至少一个反射刻面被布置在所述压电膜处;以及光学元件,被配置为在输入端处接收所述光束,并且将所述光束朝向耦合到所述光学透明基底的所述第二表面的输出端引导;其中,所述光学元件包含:光聚焦路径,被配置为将所述光束聚焦在位于所述压电膜处的焦点处;以及至少一个光准直路径,被配置为将所述光束准直到所述至少一个反射刻面上;其中,所述光学元件被配置为将从所述至少一个反射刻面反射的光引导到所述输入端;以及其中,反射到所述输入端的所述光指示所述光学元件相对于所述焦点的位置。2.根据权利要求1所述的装置,其中:所述压电膜包括所述至少一个反射刻面,所述至少一个反射刻面具有中心区域和外围区域;所述光学元件中的所述光聚焦路径被配置为将所述光束聚焦在所述至少一个反射刻面的所述中心区域处;以及所述光学元件中的所述至少一个光准直路径被配置为将所述光束准直在所述至少一个反射刻面的所述外围区域处。3.根据权利要求1所述的装置,还包括:多个所述反射刻面;其中所述光学元件包含多个光准直路径,所述多个光准直路径被配置为将相应的经准直的光束提供到所述多个所述反射刻面上。4.根据权利要求3所述的装置,其中所述多个所述反射刻面包括布置在距所述压电膜的中心相同距离处的反射刻面。5.根据权利要求4所述的装置,其中所述多个所述反射刻面包括:方形刻面,具有在大约250微米与大约300微米之间的边长;和/或刻面,在距离所述压电膜的所述中心大约300微米处。6.根据权利要求3所述的装置,其中所述多个所述反射刻面包括以所述压电膜的中心镜像对称布置的两个刻面。7.根据权利要求1所述的装置,其中所述光学元件包括:基底,具有形成于其中的多个通道;以及多个光纤,布置在所述通道中;其中所述光纤提供所述光聚焦路径和所述至少一个光准直路径。8.根据权利要求1所述的装置,其中:所述光学元件中的所述光聚焦路径包括具有聚焦节距的光聚焦梯度折射率GRIN透镜;以及所述光学元件中的所述至少一个光准直路径包括具有准直节距的光准直GRIN透镜,并
且所述光聚焦路径和光准直路径具有相同的总长度和相同的透镜直径。9.根据权利要求8所述的装置,其中所述光学元件中的所述光聚焦路径以及所述至少一个光准直路径中的至少一项包括光学间隔件部分。10.根据权利要求8所述的装置,其中:所述相同的总长度是大约500微米;和/或所述相同的透镜直径是大约350微米。11.根据权利要求1所述的装置,其中:所述装置还包括:壳体,具有支撑底座,所述支撑底座中具有通孔,所述壳体的所述支撑底座被耦合到所述光学透明基底的所述第二表面,其中所述光学透明基底的所述第二表面的一部分与所述通孔对准;以及所述光学元件的所述输出端被耦合到所述壳体的所述支撑底座中的所述通孔处的所述光学透明基底。12.一种操作光机装置的方法,所述光机装置包括:具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面的光学透明基底,布置在所述第一表面处的压电膜,布置在所述压电膜处的面向所述基底的至少一个反射刻面,以及具有输入端和输出端的光学元件,并且所述输出端耦合到所述光学透明基底的所述第二表面,所述方法包括:通过所述光学元件的所述输入端,接收导向至少一个反射刻面的光束;通过所述光学元件,将所述光束朝向所述光学元件的所述输出端引导;通过所述压电膜,响应于所述光束传播通过所述光学透明基底并且冲击到所述压电膜上来振荡;通过所述光学元件,将从所述至少一个反射刻面反射的光引导到所述光学元件的所述输入端;感测反射到所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:L,
申请(专利权)人:意法半导体股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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