【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种在各种电子仪器中使用的。
技术介绍
近来,随着电子仪器的小型化、高频化,对电容也要求小型大容量化、低ESR(等价串联电阻)、低ESL(等价串联电感)。之前,作为大容量积层型固体电解电容,周知的有美国专利5,377,073号公报和日本特开平11-274002号公报所记载的芯片型电容。但是,这些现有的固体电解电容,由于为安装在电路板上所必要的电连接用端子和引线要形成电阻、电感分量,成为进一步低ESL化的障碍。本专利技术的目的在于提供一种解决以上那样的现有的课题,安装在电路板上的、可以与半导体元件直接连接的、高频响应特性优异的、大容量的。
技术实现思路
本专利技术的固体电解电容由1个电容元件或者多个电容元件积层构成,该电容元件包括具有多孔质部的阀金属片、在该阀金属片的一面上形成的电极显出部、在该阀金属片的多孔质部上形成的电介质层、在该电介质层上形成的固体电解质层、在该固体电解质层上形成的集电体层,该电极显出部和集电体层处在阀金属片的同一面上,具有使该电极显出部和集电体层之间电绝缘的绝缘部。本专利技术的固体电解电容可以直接安装半导体元件,不需要现有的连接端子和引线,高频响应特性优异。又,本专利技术提供上述固体电解电容的制造方法。附图说明图1是本专利技术实施方式1的固体电解电容的立体图。图2是本专利技术实施方式1的固体电解电容的截面图。图3是本专利技术实施方式1的固体电解电容的主要部位放大截面图。图4是本专利技术实施方式1和6的固体电解电容的主要部位放大截面图。图5是本专利技术实施方式2和7的固体电解电容的上面图。图6是本专利技术实施方式2和7的固 ...
【技术保护点】
一种固体电解电容,其特征在于:包括:具有多孔质部的阀金属片、在所述阀金属片的一面上形成的电极显出部、在所述阀金属片的多孔质部上形成的电介质层、在所述电介质层上形成的固体电解质层、在所述固体电解质层上形成的集电体层、让所述电极显出部和所述集电体层之间电绝缘的绝缘部,所述电极显出部和所述集电体层处在所述阀金属片的同一面上。
【技术特征摘要】
JP 2001-3-26 86995/01;JP 2001-3-23 84785/011.一种固体电解电容,其特征在于包括具有多孔质部的阀金属片、在所述阀金属片的一面上形成的电极显出部、在所述阀金属片的多孔质部上形成的电介质层、在所述电介质层上形成的固体电解质层、在所述固体电解质层上形成的集电体层、让所述电极显出部和所述集电体层之间电绝缘的绝缘部,所述电极显出部和所述集电体层处在所述阀金属片的同一面上。2.根据权利要求1所述的固体电解电容,其特征在于所述阀金属片是铝箔和阀金属粉末的烧结体中的任何一种。3.根据权利要求1所述的固体电解电容,其特征在于所述电极显出部是阀金属粉末的烧结体和在烧结体的贯通孔中形成的导电体中的任一个的外表面。4.根据权利要求1所述的固体电解电容,其特征在于所述固体电解质层至少是导电性高分子和二氧化锰中的任何一种。5.根据权利要求1所述的固体电解电容,其特征在于进一步包括与所述电极显出部连接的第1连接端子、与所述集电体层连接的第2连接端子。6.根据权利要求1所述的固体电解电容,其特征在于在所述阀金属片的两面上形成所述电极显出部、所述电介质层、所述固体电解质层、所述集电体层、所述绝缘部。7.根据权利要求6所述的固体电解电容,其特征在于形成了与所述电极显出部连接的第1连接端子、与所述集电体层连接的第2连接端子。8.根据权利要求7所述的固体电解电容,其特征在于在所述阀金属片的两面上形成所述第1连接端子、所述第2连接端子。9.根据权利要求5、8中任一权利要求所述的固体电解电容,其特征在于所述第1连接端子是在所述电极显出部上形成另外的金属层和在所述电极显出部的粗化面上形成另外的金属层中的任何一种。10.根据权利要求5、8中任一权利要求所述的固体电解电容,其特征在于所述第2连接端子是在所述集电体层上形成的金属层。11.根据权利要求5、8中任一权利要求所述的固体电解电容,其特征在于所述第2连接端子是在所述集电体层上形成的、设置了所述绝缘部的开口部的金属层。12.根据权利要求5、8中任一权利要求所述的固体电解电容,其特征在于所述第1连接端子和所述第2连接端子是连接凸块。13.根据权利要求1所述的固体电解电容,其特征在于在所述阀金属片中电极部截面积的大小比所述电极显出部的面积小。14.根据权利要求1所述的固体电解电容,其特征在于还具有外装。15.一种固体电解电容的制造方法,其特征在于包括在形成电极显出部的部分的阀金属片表面上形成阻膜的工序、在所述阀金属片上形成多孔质部的工序、在所述多孔质部上形成电介质层的工序、在所述阻膜的周围形成绝缘部的工序,在所述电介质层上形成固体电解质层的工序、在所述固体电解质层上形成集电体层的工序。16.一种固体电解电容的制造方法,其特征在于包括将阀金属粉末烧结成阀金属片的工序、在成为电极显出部的部分之外的所述阀金属片上形成电介质层的工序、在所述电极显出部的周围形成绝缘部的工序,在所述电介质层上形成固体电解质层的工序、在所...
【专利技术属性】
技术研发人员:木村涼,三木胜政,御堂勇治,藤井达雄,益见英树,
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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