一种氧化镁的离子水洗涤沉淀设备制造技术

技术编号:31205610 阅读:19 留言:0更新日期:2021-12-04 17:18
本实用新型专利技术属于氧化镁生产技术领域,尤其涉及一种氧化镁的离子水洗涤沉淀设备,包括溶体、出水口和盖板,所述出水口位于溶体的前侧,所述盖板与溶体通过螺纹连接,所述溶体的内部设置有支撑杆,所述支撑杆的底部固定连接有压板,所述支撑杆的内部活动连接有封闭机构,所述压板的内部开设有减压孔,所述封闭机构包括转块、转杆和两个封闭块,所述转杆的顶部与转块固定连接。本实用新型专利技术通过设置压板和支撑杆的配合使用,方便使用者去除清水和使用者去除固体,减少了操作人员精力和时间,具备方便操作人员取出固体的优点,解决了现有的在取出固体时需要先把清水去除,但是在去除时容易使固体发生混乱,导致抽取不便的问题。导致抽取不便的问题。导致抽取不便的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种氧化镁的离子水洗涤沉淀设备


[0001]本技术属于氧化镁生产
,尤其涉及一种氧化镁的离子水洗涤沉淀设备。

技术介绍

[0002]氧化镁在生产时经过沉淀、离子水洗涤、烘干和煅烧得到产品,氧化镁在沉淀时需要使用溶体进行放置沉淀,过一段时间把沉淀底部的固体进行取出,综上所述,现有技术存在的问题是:现有的在取出固体时需要先把清水去除,但是在去除时容易使固体发生混乱,导致抽取不便的问题。

技术实现思路

[0003]针对现有技术存在的问题,本技术提供了一种氧化镁的离子水洗涤沉淀设备,具备方便操作人员取出固体的优点,解决了现有的在取出固体时需要先把清水去除,但是在去除时容易使固体发生混乱,导致抽取不便的问题。
[0004]本技术是这样实现的,一种氧化镁的离子水洗涤沉淀设备,包括溶体、出水口和盖板,所述出水口位于溶体的前侧,所述盖板与溶体通过螺纹连接,所述溶体的内部设置有支撑杆,所述支撑杆的底部固定连接有压板,所述支撑杆的内部活动连接有封闭机构,所述压板的内部开设有减压孔。
[0005]作为本技术优选的,所述封闭机构包括转块、转杆和两个封闭块,所述转杆的顶部与转块固定连接,两个封闭块位与转杆的两侧,所述封闭块位与压板内部的两侧。
[0006]作为本技术优选的,所述转杆的表面套设有扭簧,所述扭簧的顶部与支撑杆的内壁固定连接。
[0007]作为本技术优选的,所述支撑杆的内部开设有与转杆配合使用的通孔,所述转杆的顶部贯穿至通孔的外侧与转块的表面固定连接。
[0008]作为本技术优选的,所述减压孔的数量为若干个。
[0009]作为本技术优选的,所述压板的表面套设有密封圈。
[0010]与现有技术相比,本技术的有益效果如下:
[0011]1、本技术通过设置压板和支撑杆的配合使用,方便使用者去除清水和使用者去除固体,减少了操作人员精力和时间,解决了现有的在取出固体时需要先把清水去除,但是在去除时容易使固体发生混乱,导致抽取不便的问题。
[0012]2、本技术通过设置封闭机构,防止了在去除清水时固体发生混乱,达到了方便去除清水的优点。
[0013]3、本技术通过设置扭簧,防止封闭机构在对固体封闭时发生移动,达到了对封闭机构限位的功能。
[0014]4、本技术通过设置通孔,减少了转杆移动时的摩擦力,同时发布了使用者对转杆的移动。
[0015]5、本技术通过设置多个减压孔,压板在移动时减少了与清水的阻力,达到了防止移动时混乱的目的。
[0016]6、本技术通过设置密封圈,防止在去除时固体从压板与溶体之间的间缝流出,同时密封圈在移动时可以对吸附在溶体的固体去除。
附图说明
[0017]图1是本技术实施例提供的结构示意图;
[0018]图2是本技术实施例提供溶体的示意图;
[0019]图3是本技术实施例提供溶体的俯视剖视图;
[0020]图4是本技术实施例提供支撑杆和压板的剖视图。
[0021]图中:1、溶体;2、出水口;3、盖板;4、支撑杆;5、压板;6、封闭机构;601、转块;602、转杆;603、封闭块;7、减压孔;8、扭簧;9、通孔;10、密封圈。
具体实施方式
[0022]为能进一步了解本技术的
技术实现思路
、特点及功效,兹例举以下实施例,并配合附图详细说明如下。
[0023]下面结合附图对本技术的结构作详细的描述。
[0024]如图1至图4所示,本技术实施例提供的一种氧化镁的离子水洗涤沉淀设备,包括溶体1、出水口2和盖板3,出水口2位于溶体1的前侧,盖板3与溶体1通过螺纹连接,溶体1的内部设置有支撑杆4,支撑杆4的底部固定连接有压板5,支撑杆4的内部活动连接有封闭机构6,压板5的内部开设有减压孔7。
[0025]参考图4,封闭机构6包括转块601、转杆602和两个封闭块603,转杆602的顶部与转块601固定连接,两个封闭块603位与转杆602的两侧,封闭块603位与压板5内部的两侧。
[0026]采用上述方案:通过设置封闭机构6,防止了在去除清水时固体发生混乱,达到了方便去除清水的优点。
[0027]参考图4,转杆602的表面套设有扭簧8,扭簧8的顶部与支撑杆4的内壁固定连接。
[0028]采用上述方案:通过设置扭簧8,防止封闭机构6在对固体封闭时发生移动,达到了对封闭机构6限位的功能。
[0029]参考图4,支撑杆4的内部开设有与转杆602配合使用的通孔9,转杆602的顶部贯穿至通孔9的外侧与转块601的表面固定连接。
[0030]采用上述方案:通过设置通孔9,减少了转杆602移动时的摩擦力,同时发布了使用者对转杆602的移动。
[0031]参考图3,减压孔7的数量为若干个。
[0032]采用上述方案:通过设置多个减压孔7,压板5在移动时减少了与清水的阻力,达到了防止移动时混乱的目的。
[0033]参考图4,压板5的表面套设有密封圈10。
[0034]采用上述方案:通过设置密封圈10,防止在去除时固体从压板5与溶体1之间的间缝流出,同时密封圈10在移动时可以对吸附在溶体1的固体去除。
[0035]本技术的工作原理:
[0036]在使用时,当需要进行去除清水时,使用者拿起支撑杆4,支撑杆4的移动带动着压板5,同时使用者转动转块601,转块601的移动带动着转杆602,转杆602的移动带动着封闭块603同时拉扯扭簧8,然后使用者把压板5放入溶体1的内部,密封圈10与溶体1的内壁接触,当压板5与氧化镁固体的表面接触时,使用者松开转块601,这时扭簧8不受力,扭簧8的移动带动着封闭机构6进行复位,封闭块603会对减压孔7进行封闭,这时使用者进行去除清水即可。
[0037]综上所述:该氧化镁的离子水洗涤沉淀设备,通过设置溶体1、出水口2、盖板3、支撑杆4、压板5、封闭机构6、减压孔7、扭簧8、通孔9和密封圈10的配合使用,解决了现有的在取出固体时需要先把清水去除,但是在去除时容易使固体发生混乱,导致抽取不便的问题。
[0038]需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
[0039]尽管已经示出和描述了本技术的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化镁的离子水洗涤沉淀设备,包括溶体(1)、出水口(2)和盖板(3),其特征在于:所述出水口(2)位于溶体(1)的前侧,所述盖板(3)与溶体(1)通过螺纹连接,所述溶体(1)的内部设置有支撑杆(4),所述支撑杆(4)的底部固定连接有压板(5),所述支撑杆(4)的内部活动连接有封闭机构(6),所述压板(5)的内部开设有减压孔(7)。2.如权利要求1所述的一种氧化镁的离子水洗涤沉淀设备,其特征在于:所述封闭机构(6)包括转块(601)、转杆(602)和两个封闭块(603),所述转杆(602)的顶部与转块(601)固定连接,两个封闭块(603)位与转杆(602)的两侧,所述封闭块(603)位与压板...

【专利技术属性】
技术研发人员:莫云泽申静静
申请(专利权)人:无锡市泽镁新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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