【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及单片电容器以及单片电容器的安装结构。更具体地,本专利技术涉及适合用于高频电路的单片电容器以及单片电容器的安装结构。
技术介绍
作为用于在例如约几GHz的高频范围内的微处理单元(MPU)等的电源电路的去耦合电容器,已知的有具有在日本未审查专利申请公开第11-144996号(专利文献1)中描述的结构的单片电容器。在该单片电容器中,多个端子设置成使相邻端子极性的相反。因此,从正端子到负端子的电流路径变短,并且电流以各种方式流动。此外,使电流以彼此相反的方向流动,以抵消磁通量,由此减小等效串联电感(ESL)。 然而,在上述专利文献1中描述的单片电容器中,等效串联电阻(ESR)也随着ESL的减小而减小。因此,产生了阻抗特性陡变的问题。 作为另一个例子,根据日本未审查专利申请公开第2001-284170号(专利文献2)中提出的技术,对于设置在主电容器单元中用于形成电容器的每一个内部电极,仅设置了一个向外延伸到主电容器单元的外表面并电连接到外部端子电极的引出部,因此增加了单片电容器的ESR。 然而,根据专利文献2所述的结构,虽然可增加ESR,但ESL也增加。这导致高频特性的劣化问题。 专利文献1日本未审查专利申请公开第11-144996号专利文献2日本未审查专利申请公开第2001-284170号
技术实现思路
本专利技术要解决的问题因此,本专利技术的一个目的是提供一种单片电容器,在这种电容器中在可减小ESL的同时可增加ESR。 本专利技术的另一个目的是提供一种单片电容器的安装结构,以便使单片电容器的低ESL特性得以充分地展现,其中ESL以如上所述 ...
【技术保护点】
一种单片电容器,包括具有由多层介电层的叠层组成的单片结构的主电容器单元,其中所述主电容器单元包括第一电容器部和第二电容器部,其中所述第一电容器部包括经由所述介电层中预定的一层彼此相对以形成电容的至少一对第一和第二内部电极,其中所述第一内部电极在其上形成向外延伸到所述主电容器单元的外表面的多个第一引出部,而所述第二内部电极在其上形成向外延伸到所述主电容器单元的外表面的多个第二引出部,其中所述第二电容器部包括经由所述介电层中预定的一层彼此相对以形成电容的至少一对第三和第四内部电极,其中所述第三内部电极在其上形成向外延伸到所述主电容器单元的外表面的至少一个第三引出部,而所述第四内部电极在其上形成向外延伸到所述主电容器单元的外表面的至少一个第四引出部,其中各自电连接到所述第一、第二、第三和第四引出部的第一、第二、第三和第四外部端子电极形成于所述主电容器单元的外表面上,且其中用于一对第三和第四内部电极的第三和第四引出部的对数小于用于一对第一和第二内部电极的第一和第二引出部的对数。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2004-12-24 373167/2004;JP 2004-12-24 373166/2001.一种单片电容器,包括具有由多层介电层的叠层组成的单片结构的主电容器单元,其中所述主电容器单元包括第一电容器部和第二电容器部,其中所述第一电容器部包括经由所述介电层中预定的一层彼此相对以形成电容的至少一对第一和第二内部电极,其中所述第一内部电极在其上形成向外延伸到所述主电容器单元的外表面的多个第一引出部,而所述第二内部电极在其上形成向外延伸到所述主电容器单元的外表面的多个第二引出部,其中所述第二电容器部包括经由所述介电层中预定的一层彼此相对以形成电容的至少一对第三和第四内部电极,其中所述第三内部电极在其上形成向外延伸到所述主电容器单元的外表面的至少一个第三引出部,而所述第四内部电极在其上形成向外延伸到所述主电容器单元的外表面的至少一个第四引出部,其中各自电连接到所述第一、第二、第三和第四引出部的第一、第二、第三和第四外部端子电极形成于所述主电容器单元的外表面上,且其中用于一对第三和第四内部电极的第三和第四引出部的对数小于用于一对第一和第二内部电极的第一和第二引出部的对数。2.如权利要求1所述的单片电容器,其特征在于,用于所述第三内部电极中的每一个的所述第三引出部的数量和用于所述第四内部电极中的每一个的所述第四引出部的数量中的至少一个小于用于所述第一内部电极中的每一个所述第一引出部的数量和用于所述第二内部电极中的每一个的所述第二引出部的数量。3.如权利要求2所述的单片电容器,其特征在于,所述第三内部电极或者所述第四内部电极具有与所述第一内部电极或者所述第二内部电极相同的图案。4.如权利要求1所述的单片电容器,其特征在于,用于所述第三内部电极中的每一个的所述第三引出部的数量和用于所述第四内部电极中的每一个的所述第四引出部的数量小于用于所述第一内部电极中的每一个的所述第一引出部的数量和用于所述第二内部电极中的每一个的所述第二引出部的数量。5.一种单片电容器,包括具有由多层介电层的叠层组成的单片结构的主电容器单元...
【专利技术属性】
技术研发人员:高岛宽和,上冈浩,高木义一,
申请(专利权)人:株式会社村田制作所,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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