带附接的传感器的磁棒制造技术

一种用于溅射磁控管系统的磁棒结构(101)包括磁棒(102)，具有附接其上的用于当安装在磁棒结构(101)上时感测管状溅射靶(200)的内在和/或外在特性的感测设备(110)。在和/或外在特性的感测设备(110)。在和/或外在特性的感测设备(110)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带附接的传感器的磁棒


[0001]本专利技术涉及溅射沉积领域。更具体而言，它涉及用于在这种溅射沉积中使用的管状靶的磁棒结构。

技术介绍

[0002]借助于溅射的物理气相沉积已成为定制例如玻璃板或其它刚性或柔性材料特性的标准技术。“溅射”是指借助于带正电的离子(通常是氩)将涂层材料原子弹射出靶，这些离子通过电场朝着带负电的靶加速。正离子通过低压气相中的碰撞电离而形成。喷射出的原子撞击要涂覆的基板，在那里它们形成致密的、粘附良好的涂层。
[0003]形成离子的气体的电离借助于从靶表面后面生成的磁场限制在靶表面附近，并在靶的表面处表现出弧形的闭环隧道。在操作期间，电子沿着这些磁场线来回反弹，同时沿着闭环漂移，从而增加了气体原子的碰撞电离概率。在靶的表面处形成等离子发光的闭环“跑道”。
[0004]一般而言，虽然存在移动部件会带来技术挑战，但在许多情况下可旋转的靶是优选的。可旋转的靶通常比平面靶携带多得多的可用靶材料原料。与它们的平面对应物相比，它们不太容易产生电弧并且可以处置更高的功率水平。这些优点在直列式涂布机中特别明显，其中基板在垂直于靶的轴的方向上经过细长的圆柱形靶。
[0005]中型和大型制造工厂利用许多不同的靶，这些靶需要存储和适当跟踪。靶需要安装在腔室(例如，真空腔室)中，这是个被认为非生产性的漫长的过程。如果靶损坏、质量有限或安装了错误的靶，并且开始溅射工艺，那么会浪费基板材料。而且，使用错误的靶或忽视靶中的损坏会对真空系统本身造成损坏。期望降低由于在涂布机中使用损坏或不适当的靶引起的基板材料浪费和系统损坏的风险。

技术实现思路

[0006]本专利技术的实施例的目的是提供一种磁棒结构，其包括可以允许确定管状靶的特性、质量和/或身份的感测能力。
[0007]本专利技术的实施例提供了一种用于溅射磁控管系统的磁棒结构。磁棒结构包括磁棒，具有附接于它的感测设备，用于感测管状溅射靶在磁棒结构之上安装在溅射磁控管系统上时的内在和/或外在特性。
[0008]本专利技术的实施例的优点在于，在将靶安装到溅射磁控管系统时，可以获得与靶的标识、状态和/或质量相关的靶信息。甚至在其使用期间，例如，甚至在靶的旋转期间，也可以从靶获得质量和状态信息以及改变，但不限于此。
[0009]根据本专利技术的实施例的磁棒结构还可以包括信号传输装置，用于将信号从感测设备传输到磁棒结构外部(例如但不限于溅射磁控管系统外部)的接收器。本专利技术的此类实施例的优点在于，可以在磁控管系统外部处理和存储靶信息，从而允许例如将信息导出到不同的系统。
[0010]在根据本专利技术的实施例的磁棒结构中，感测设备可以适于感测管状溅射靶中裂纹和/或孔隙的存在。
[0011]在根据本专利技术的实施例的磁棒结构中，感测设备可以适于感测管状溅射靶的内径和/或外径的规则性和/或管状溅射靶在纵向方向上的曲率。例如，测量管状溅射靶的内径和外径允许测量靶壁厚度。
[0012]在根据本专利技术的实施例的磁棒结构中，感测设备可以包括超声换能器和/或光学传感器。可以有利地使用超声换能器来检测靶的厚度。本专利技术的实施例的优点在于感测元件可以检测裂纹的存在。
[0013]在根据本专利技术的实施例的磁棒结构中，感测设备可以包括感应式接近传感器。
[0014]在根据本专利技术的实施例的磁棒结构中，感测设备可以适于感测管状溅射靶的标识信息。本专利技术的实施例的优点在于感测设备可以识别靶，从而降低在溅射工艺中使用错误靶的风险。
[0015]在特定实施例中，感测设备可以包括用于读取管状溅射靶上的条形码的光学读取器。
[0016]在特定实施例中，感测设备可以是用于读取标识标签的标识读取器。本专利技术的实施例的优点是可以将标签从环境屏蔽，因为可以通过电磁场读取标签。标识读取器可以是射频标识读取器/写入器。磁棒结构然后还可以包括用于从溅射磁控管系统的外部接收信号以写入和/或覆写射频标识标签的装置。本专利技术的实施例的优点在于磁棒可以在靶的RFID标签中引入与靶的历史相关的信息。
[0017]在根据本专利技术的实施例的磁棒结构中，感测设备可以包括温度传感器。温度传感器例如可以是热电偶或IR辐射传感器。借助于温度传感器，例如可以测量靶内表面温度，或朝着冷却流体的热交换。
[0018]在根据本专利技术的实施例的磁棒结构中，感测设备可以包括应变计、CCD阵列中的一种或多种。
[0019]在根据本专利技术的实施例的磁棒结构中，感测设备可以包括多个感测元件。在特定实施例中，磁棒结构可以在纵向方向上拉长，并且多个感测元件可以沿着所述纵向方向分布。本专利技术的实施例的优点在于可以从多个点，可选地从管状靶的任何点，感测管状靶的ID标签和/或特性。
[0020]在本专利技术的实施例中，所有感测元件都可以是相同的类型。可替代地，至少两个感测元件是不同类型。
[0021]在所附的独立和从属权利要求中陈述了本专利技术的特定和优选方面。来自从属权利要求的特征可以适当地与独立权利要求的特征以及其它从属权利要求的特征相结合，而不仅限于权利要求中明确提出的特征。
[0022]参考下文描述的(一个或多个)实施例，本专利技术的这些和其它方面将变得明显。
附图说明
[0023]图1图示了根据本专利技术的实施例的包括感测设备的磁棒结构。
[0024]图2图示了与管状靶表面相互作用的区，用于监视工艺环境对管状靶的影响。
[0025]图3、图4、图5和图6图示了安装并围绕磁棒的四个不同管状靶的横截面，其中图3
的管状靶是对称的，图4的管状靶是弯曲的，图5的管状靶被压扁，图6的管状靶的外径是对称的，但内径不是对称的，因此材料厚度不是对称的。
[0026]图7图示了包括根据本专利技术的实施例的用于读取管状靶中的标签的感测设备的磁棒结构。
[0027]附图只是示意性的并且是非限制性的。在附图中，为了说明的目的，一些元件的尺寸可能被夸大并且未按比例绘制。
[0028]权利要求书中的任何附图标记都不应当被解释为限制范围。
[0029]在不同的附图中，相同的附图标记指代相同或相似的元件。
具体实施方式
[0030]将针对特定实施例并参考某些附图来描述本专利技术，但是本专利技术不限于此，而是仅由权利要求书来限定。维度和相对维度不与实践本专利技术的实际简化对应。
[0031]说明书和权利要求中的术语第一、第二等用于区分相似的元素并且不一定用于在时间上、空间上、排序上或以任何其它方式描述顺序。应该理解的是，如此使用的术语在适当的情况下是可互换的，并且本文描述的本专利技术的实施例能够以不同于本文描述或图示的其它顺序进行操作。
[0032]而且，说明书和权利要求书中的术语“顶部”、“下方”等仅用于描述目的，而不一定是用于描述相对位置。应该理解的是，如此使用的术语在适当的情况下是可互换的，并且本文描述的本专利技术的实施例能够以不同于本文描述或示出的其它朝向来操作。
[0033]应当注意的是，权利要求书中使用的术语“包括”不应当解释为限于其后列出本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于溅射磁控管系统的磁棒结构(101)，磁棒结构(101)包括磁棒(102)，磁棒(102)具有附接于它的感测设备(110，130)，用于当安装在磁棒结构(101)上时感测管状溅射靶(200，210，220)的内在和/或外在特性。2.根据前一权利要求所述的磁棒结构，还包括信号传输装置(105)，用于将信号从感测设备(110，130)传输到磁棒结构外部的接收器。3.根据前述权利要求中的任一项所述的磁棒结构，其中感测设备(110)适于感测管状溅射靶(200)中裂纹和/或孔隙的存在。4.根据前述权利要求中的任一项所述的磁棒结构，其中感测设备(110)适于感测管状溅射靶(220)的内径和/或外径的规则性和/或管状溅射靶(210)的纵向方向上的曲率。5.根据前述权利要求中的任一项所述的磁棒结构，其中感测设备(110)包括超声换能器和/或光学传感器。6.根据前述权利要求中的任一项所述的磁棒结构，其中感测设备(110)包括感应式接近传感器。7.根据前述权利要求中的任一项所述的磁棒结构，其中感测设备(110，130)适于感测管状溅射靶(...

【专利技术属性】
技术研发人员：F，
申请(专利权)人：梭莱先进镀膜工业公司，
类型：发明
国别省市：