透明样品的亚表面缺陷检测方法技术

一种透明样品的亚表面缺陷检测方法及装置，方法包括：利用激光共聚焦方法确定所述透明样品亚表面缺陷大致位置；对所述亚表面缺陷的散射光形成的像进行过焦扫描，以得到散射光光场的纵向分布信息；根据所述纵向分布信息及所述大致位置确定所述亚表面缺陷的实际位置、尺寸及形态。该方法及装置利用激光共聚焦法获取最佳焦面信息的同时，获取纵向分布的离焦信息，保留了离焦数据，最大程度的提取亚表面缺陷特征，进一步提高缺陷检测精度和灵敏度。进一步提高缺陷检测精度和灵敏度。进一步提高缺陷检测精度和灵敏度。

【技术实现步骤摘要】
透明样品的亚表面缺陷检测方法


[0001]本公开涉及光学家检测领域，尤其涉及一种透明样品的亚表面缺陷检测方法。

技术介绍

[0002]高功率激光传输光学元件是高能激光系统和空间光学系统等重要国防、军事及航天领域极为重要的部件。亚表面缺陷是制约此类光学元件性能的关键因素之一。因此对其进行检测和表征是实现高功率传输光学元件制造的关键。目前，光学元件亚表面缺陷检测技术常采用磁流变抛光斑点法、角度抛光法、截面显微法等。这些方法需要对光学玻璃进行破坏，如首先切割出一个截面，然后对截面进行检测，得到亚表面缺陷信息。这种非原位检测方法，既对元件带来了损伤，又不能得到缺陷的原位或定位信息。显然光学玻璃元件制造急需无损检测手段来满足原位检测需求。因此，非破坏性的无损检测越来越成为亚表面缺陷检测的必然发展趋势。
[0003]申请人在实现本公开构思的过程中发现现有技术至少存在以下缺陷：现有的方法只能获得确定层的焦面信息，即一个物面得到一幅图像。在纵向(“Z”)方向只得到了一个点，而将寻找最佳焦面过程中获得的离焦数据丢弃，这些离焦数据同样包含了物面的特征信息，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透明样品的亚表面缺陷检测方法，包括：利用激光共聚焦方法确定所述透明样品亚表面缺陷大致位置；对所述亚表面缺陷的散射光形成的像进行过焦扫描，以得到散射光光场的纵向分布信息；根据所述纵向分布信息及所述大致位置确定所述亚表面缺陷的实际位置、尺寸及形态。2.根据权利要求1所述的亚表面缺陷检测方法，其中，所述利用激光共聚焦方法确定所述透明样品亚表面缺陷大致位置包括：确定所述透明样品的最佳物面；对所述最佳物面形成的散射光进行光电探测，获得最佳物面的成像信息；根据所述成像信息确定所述透明样品亚表面缺陷的大致位置。3.根据权利要求1所述的亚表面缺陷检测方法，其中，所述对所述亚表面缺陷的散射光形成的像进行过焦扫描，以得到散射光光场的纵向分布信息包括：在预定范围内对所述像进行过焦扫描，获得光场沿纵向分布的多维数据图像；根据所述多维数据图像构建光场分布数据立方体；根据所述光场分布数据立方体提取所述亚表面缺陷扰动散射纵向分布模式。4.根据权利要求3所述的亚表面缺陷检测方法，其中，采用电荷耦合器件捕获所述多维数据图像。5.一种透明样品的亚表面缺陷检测装置，包括：激光共聚焦模块，用于利用激光共聚焦方法确定所述透明样品亚表面缺陷大致位置；过焦扫描模块，用于对所述亚表面缺陷的散射光形成的像进行过焦扫描，以得到散射光光场的纵向分布信息；处理模块，用于根据所述纵向分布信息及所述大致位置确定所述亚表面缺陷的实际位置、尺寸及形...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘立拓，宋晓娇，余晓娅，王盛阳，姜行健，周维虎，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：