一种铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料及其制备方法技术

一种铁磁／锰系反铁磁多层膜钉扎材料，包括一基片和在基片上设置的一缓冲层、一第二铁磁层及设在其上的一保护层，其特征在于，还包括：　　　　一引导层，设于缓冲层上，该引导层具有（１１１）织构；　　　　一反铁磁层，设于引导层上，该反铁磁层具有（１１１）织构；　　　　一第一铁磁层，设于反铁磁层上；及　　　　一纳米氧化层，设于第一铁磁层和第二铁磁层之间。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种应用于自旋阀、磁性隧道结、传感器等的磁性材料及其制备方法，特别是指。
技术介绍
在制备铁磁/反铁磁多层膜材料方面，由现有技术表明具有面心立方结构的Mn合金，经过退火转变为原子有序的面心四方结构的反铁磁X-Mn(其中X为另外一种元素，Ni、Pt和Pd等)所组成的铁磁/反铁磁多层膜钉扎材料，一般都具有比较大的钉扎场，以及良好的抗腐蚀能力和热稳定性，故在传感器等方面获得广泛的应用。图1为公知的铁磁/Mn系反铁磁多层膜钉扎材料的结构，其各层依次为基片1、缓冲层2、铁磁层70、反铁磁层4、及保护层8。但是，由于公知的该铁磁/反铁磁多层膜钉扎材料，在制备过程中，所需的退火时间都很长(几十小时)，或其退火温度很高(300℃以上)，因此退火过程中反铁磁层4中的Mn发生扩散迁移，进入相邻的铁磁层70，从而造成铁磁层70磁矩的损失，矫顽力的增大和磁滞回线矩形度变差，而且该材料中的反铁磁层4一般比较厚(250以上)，该材料的反铁磁层4对铁磁层70的钉扎场不太理想，钉扎场一般为200奥斯特左右。由上述可见，防止退火过程中Mn向铁磁层扩散和减薄反铁磁层是获得高性能的铁磁/反铁磁多层膜钉本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料，包括一基片和在基片上设置的一缓冲层、一第二铁磁层及设在其上的一保护层，其特征在于，还包括一引导层，设于缓冲层上，该引导层具有(111)织构；一反铁磁层，设于引导层上，该反铁磁层具有(111)织构；一第一铁磁层，设于反铁磁层上；及一纳米氧化层，设于第一铁磁层和第二铁磁层之间。2.如权利要求1所述的铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料，其特征在于，所述的基片的材料选自硅或玻璃的一种。3.如权利要求1所述的铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料，其特征在于，所述的缓冲层的材料选自Ta或(NiXFe100-X)YCr100-Y，其中77＜X＜83，50＜Y＜70。4.如权利要求1所述的铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料，其特征在于，所述的引导层的材料选自Ni或NiXFe100-X，其中77＜X＜83。5.如权利要求1所述的铁磁磁/系反铁磁多层膜钉扎材料，其特征在于，所述的反铁磁层的组成元素为Mn和X，所述的元素X选自Ni、Pt、Pd中的至少一种。6.如权利要求5所述的铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料，其特征在于，在退火前，该反铁磁层中的元素Mn所占原子百分含量为55％至70％；退火后元素Mn的原子百分含量为50％。7.如权利要求1所述的铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料，其特征在于，该反铁磁层厚度为100至200。8.如权利要求1所述的铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料，其特征在于，所述的第一铁磁层的材料选自Ni、NiXFe100-X、CoYFe100-Y中的一种，其中77＜X＜83，87＜Y＜93。9.如权利要求1所述的铁磁/锰系反铁磁多层膜钉扎材料，其特征在于，所述的纳米氧化层由...

【专利技术属性】
技术研发人员：代波，蔡建旺，赖武彦，
申请(专利权)人：中国科学院物理研究所，
类型：发明
国别省市：