【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种高磁通低功耗软磁铁氧体材料(PF-2L)的制备方法，可广泛用于航空航天、自动控制电力、汽车、医疗机械、家用电器等各领域，属于软 磁铁氧体材料
技术介绍
软磁铁氧体已广泛用于航空航天、自动控制电力、汽车、医疗机械、家用 电器等各领域，并己在变频技术方面得到进一步应用，在现有的技术中，磁性铁 氧体的功耗Pcv为》400Kw/m3、 Bs》480mT,由于电子设备小型化、平面化的发展 趋势，功耗大和磁通密度低软磁铁氧体很难适应如液晶电视、便携式电子设备等 的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种增大磁性材料动态范围，降低磁材本身发热，体积 小的高磁通低功耗软磁铁氧体材料的制备方法。为实现以上目的，本专利技术的技术方案是提供，其方法为第一步.将原料三氧化二铁70 — 71%、四氧化三锰21.5—22. 5%、氧化锌7—8 % 、五氧化二钒0. 02—0. 03%、二氧化硅0. 00125 — 0. 0025%、碳酸钙0. 025 一O. 05%充分拌和；第二步.将充分拌和的原料送入预烧炉,预烧温度为115(TC — 120(TC，预烧时间为1—4小时,恒温1—4小时； 第三步.将预烧后的原料,输送到球磨机里，进行50 — 60分钟砂磨，形成粒径为1.0 — 1.3ym的微小颗粒； 第四步.把颗粒粉料通过压机成型；第五步.将成型产品在氮窑中烧结，保持温度1330 土5(TC，氧含量为3-5%，降 温开始后，氧含量急骤下降，在110(TC时氧含量保持在0.2M，以后氧含量在200-500PPm之间。要降低涡流损耗就要增加铁氧体材料...
【技术保护点】
一种高磁通低功耗软磁铁氧体材料的制备方法，其方法为：第一步．将原料三氧化二铁７０－７１％、四氧化三锰２１．５－２２．５％、氧化锌７－８％、五氧化二钒０．０２－０．０３％、二氧化硅为．００１２５－０．００２５％、碳酸钙０．０２５－０． ０５％充分拌和； 第二步．将充分拌和的原料送入预烧炉，预烧温度为１１５０℃－１２００℃，预烧时间为１－４小时，恒温１－４小时；第三步．将预烧后的原料，输送到球磨机里，进行５０－６０分钟砂磨，形成粒径为１．０－１．３μｍ的微小 颗粒；第四步．把颗粒粉料通过压机成型；第五步．将成型产品在氮窑中烧结，在烧结过程中，保持温度，１３３０±５０℃，氧含量为３－５％，降温开始后，氧含量急骤下降，在１１００℃时氧含量保持在０．２％，以后氧含量在２００－５００ＰＰ ｍ之间。
【技术特征摘要】
1.一种高磁通低功耗软磁铁氧体材料的制备方法，其方法为第一步.将原料三氧化二铁70-71％、四氧化三锰21.5-22.5％、氧化锌7-8％、五氧化二钒0.02-0.03％、二氧化硅为.00125-0.0025％、碳酸钙0.025-0.05％充分拌和；第二步.将充分拌和的原料送入预烧炉，预烧温度为1150℃-1200℃，预烧时间为1-4小时，恒...
【专利技术属性】
技术研发人员：薛志萍，
申请(专利权)人：上海华源磁业有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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