一种光刻胶喷头的清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光刻胶喷头的清洗装置，包括：清洗箱，所述清洗箱的左侧设置有控制器且内部设置有盛液槽，所述盛液槽的底部设置有超声波发生器且超声波发生与控制器之间电性连接，所述盛液槽的内部设置有网兜且网兜的上部设置有耳板，所述盛液槽的内部设置有卡块。本实用新型专利技术在清洗箱的侧面设置有控制器且内部盛液槽的底部设置有超声波发生器，通过超声波发生器产生微波振动从而对喷头进行清洗，其清洗效率快且清洗效果更好，在盛液槽的内部设置有卡块和托架，在网兜的上部设置有耳板，网兜横向放置时与卡块之间接触，从而使网兜底部浸没在清洗液中，清洗完成网兜横向转动90度，将其放置在托架表面进行晾干，操作简单快捷。捷。捷。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶喷头的清洗装置


[0001]本技术涉及光刻胶生产
，更具体为一种光刻胶喷头的清洗装置。

技术介绍

[0002]光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X
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射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业 [6]。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶喷头的清洗装置，其特征在于：包括：清洗箱（1），所述清洗箱（1）的左侧设置有控制器（2）且内部设置有盛液槽（4），所述盛液槽（4）的底部设置有超声波发生器（3）且超声波发生与控制器（2）之间电性连接，所述盛液槽（4）的内部设置有网兜（7）且网兜（7）的上部设置有耳板（8），所述盛液槽（4）的内部设置有卡块（5）且卡块（5）与耳板（8）之间相互接触，所述清洗箱（1）的右侧设置有支撑架（9）且支撑架（9）的内部设置有滑动槽（16），所述滑动槽（16）的内部设置有螺杆（17）且螺杆（17）的一端延伸至支撑架（9）顶部，所述支撑架（9）的顶部设置有安装架（18）且安装架（18）的上部设置有电机（19），所述电机（19）的动力输出端与螺杆（17）之间固定连接，所述螺杆（17）的表面设置有滑动块且滑动块的侧面设置有安装板（10），所述安装板（10）的上部设置有驱动器（11）且驱动器（11）的动力输出端设置有清洗刷（1...

【专利技术属性】
技术研发人员：花荣，傅姿，程小飞，
申请(专利权)人：上海函泰电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：