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本实用新型公开了一种光刻胶喷头的清洗装置，包括：清洗箱，所述清洗箱的左侧设置有控制器且内部设置有盛液槽，所述盛液槽的底部设置有超声波发生器且超声波发生与控制器之间电性连接，所述盛液槽的内部设置有网兜且网兜的上部设置有耳板，所述盛液槽的内部设...
该专利属于上海函泰电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海函泰电子科技有限公司授权不得商用。

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