一种光阻剥离剂的存储器制造技术

本实用新型专利技术涉及储藏技术领域，具体为一种光阻剥离剂的存储器，包括储存构件与提拉机构；所述的提拉机构密封连接在所述的储存构件的上端，所述的提拉机构的底部延伸至所述的储存构件的内部底端，且所述的储存构件的内部装载有剥离剂，本实用新型专利技术通过设置一种带有提拉机构的光阻剂储存容器，通过在玻璃筒外部设置防护壳体，通过防护壳体对玻璃筒进行保护，避免玻璃筒与外部器件直接发生碰撞，同时通过上端设置的密封盖对储存构件整体进行密封，保证光阻剂能够密封储存在储存构件的内部，保证光阻剂能够长期储存。阻剂能够长期储存。阻剂能够长期储存。

【技术实现步骤摘要】
一种光阻剥离剂的存储器


[0001]本技术涉及储藏
，具体为一种光阻剥离剂的存储器。

技术介绍

[0002]光阻通常使用在紫外光波段或更小的波（(小于400纳）)。例如DNQ在300纳米到450纳米间有很强的吸收。正型光阻剂及负型光阻剂主要是应用在LED芯片制造的金属电极蒸镀Lift
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off制程中，由于LED电极所使用的金属材料不易经由蚀刻的方式制作电路图形，所以利用拔起（Lift
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off）微影制程，得到突起的（Overhang）光阻图形，使金属在蒸镀过程中不会连续性满布在光阻剂上，再用去光阻剂的方式将未遭金属布盖的光阻部分拔起，完成金属电极的图案。半导体制程常用的正型光阻剂，在光学曝光方式下，光阻剂上层接受能量较下层光阻高，使得正型光阻剂成像大部分图形为上窄下宽，无法经一次曝光方式即得到Overhang的图形，而负型光阻剂的成像恰好与正型光阻剂图像相反，所以负型光阻剂是lift
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off制程的最佳选择；
[0003]传统的光阻剥离剂通常采用玻璃瓶进行储存，储存在恒温环境中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光阻剥离剂的存储器，包括储存构件(10)与提拉机构(20)；其特征在于：所述的提拉机构(20)密封连接在所述的储存构件(10)的上端，所述的提拉机构(20)的底部延伸至所述的储存构件(10)的内部底端，且所述的储存构件(10)的内部装载有剥离剂。2.根据权利要求1所述的一种光阻剥离剂的存储器，其特征在于：所述的储存构件(10)包括防护壳体(11)与玻璃筒(13)，所述的防护壳体(11)的外壁上设置有观测槽口(12)，所述的观测槽口(12)贯穿防护壳体(11)的内外壁设置，所述的玻璃筒(13)套接在所述的防护壳体(11)的内部，且所述的玻璃筒(13)与提拉机构(20)在防护壳体(11)的上端密封连接。3.根据权利要求2所述的一种光阻剥离剂的存储器，其特征在于：所述的提拉机构(20)包括密封盖(21)与提拉杆(24)，所述的密封盖(21)的底部设置有螺旋件(22)，所述的螺旋件(22)外部套接有密封圈(23)，所述的螺旋件(22)的外壁与所述的玻璃筒(13)的内壁相抵接，且所述的密封盖(21)的底部抵接在所述的储存构件(10)的上端端口处，所述的提拉杆(24)的上端连接在螺旋件(22)的底部，且所述的提拉杆(24)延伸至玻璃筒(13)的内部，所述的提拉杆(24)的另一端连接有底托(25)，所述的底托(25)上端密封连接有密封活塞(26)...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟兴进，
申请(专利权)人：广州市鸿浩光电半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：