【技术实现步骤摘要】
液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置及检测方法
[0001]本专利技术属于TFT
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LCD玻璃深加工
,特别是涉及液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置及检测方法。
技术介绍
[0002]在现有的TFT
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LCD玻璃加工过程中,研磨盘作为玻璃基板的重要加工设备,其研磨的效果和品质将会对TFT
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LCD玻璃产品产生较大影响。
[0003]在进行TFT
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LCD玻璃研磨前,对研磨盘的研磨面进行平坦度检测是保证研磨品质的前提操作,现有常用较重的直规进行检测,但人力测量上盘时需3人协同作业,比较费时、费力,人力放置直规易使直规两端受力不均,进而影响测量的准确性。另外,测量下盘平坦度时用塞尺测量精度不够,测量上盘平坦度时直规较重且用塞尺测量精度不够,盘型不平影响研磨效果。这就需要设计一种新型的平坦度检测装置,能够实现检测方便且检测效果较好。
[0004]现有专利文件一,公开号:CN201497483U,专利名称:一种晶片研磨下盘面平整度测量装置,主要
技术实现思路
:包括尺底座以及固定连接在尺底座上的把持部,且该尺底座上还间隔地顺序安装有三个分别用于测量研磨下盘面外边缘、内部和内边缘的平整度测量仪,由此可知,由于本技术在同一尺底座上安装有三个平整度测量仪,则进行一次测量就可以反应出该位置的平整度,而无须像现有技术中,需要分别测量三次,才能获取下研磨盘面的平面精度,则本技术极大地提高了下研磨盘面平整度检测速度,有效地提高了晶片加工的速度,同时还避 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置,用于检测上研磨盘(1)的上研磨面(15)、下研磨盘(2)的下研磨面(14),所述上研磨盘(1)上安装有主轴杆(3),所述下研磨盘(2)上配置有位于中部位置的下盘驱动齿柱(4)和位于外边缘位置的下盘外齿柱(5),其特征在于:平坦度辅助检测装置包括检测长条本体(6)和外控盒(7),所述外控盒(7)位于检测长条本体(6)的一侧端,所述检测长条本体(6)的另一端设置有端侧对径安装板(18),所述端侧对径安装板(18)的外侧端面嵌入安装有对径传感条(19);所述检测长条本体(6)的下侧面嵌入安装有边侧可见光定位器(9)和若干依次排列的光电距离传感探头(17);所述检测长条本体(6)的上侧面固定设置有一组吸附块(10),所述检测长条本体(6)的上侧面嵌入安装有位于两个吸附块(10)之间的水平检测机构(11),所述检测长条本体(6)的上侧面设置有外齿块(12)和内齿块(13)。2.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置,其特征在于:所述外控盒(7)上配置有显示屏(8),所述外控盒(7)内置主控板,所述主控板通过控制线路与边侧可见光定位器(9)、吸附块(10)电连接,所述主控板通过信号传输线路与水平检测机构(11)、光电距离传感探头(17)和对径传感条(19)电连接;所述外控盒(7)的主控板上配置有无线模块,用于控制信息的获取和传感检测信息的上传;所述外控盒(7)上配置有用于整个外控盒(7)的开关键、用于控制吸附块(10)的电控确认键和用于开启检测平坦度的检测的检测信号键;外控盒(7)内置充电电源,为外控盒(7)元器件提供电能。3.根据权利要求2所述的液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置,其特征在于:所述外控盒(7)的主控板上配置有数模转换模块,所述显示屏(8)上显示出经数模转换模块处理后的模拟轴杆边界线(802)。4.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置,其特征在于:所述外控盒(7)的显示屏(8)上模拟显示出与对径传感条(19)传感检测区段相配合的模拟对准刻度(801),所述模拟对准刻度(801)的中心点为“0”基准点。5.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置,其特征在于:所述对径传感条(19)上设置有若干光电传感器,用于传感检测主轴杆(3)的遮挡区域。6.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置,其特征在于:所述检测长条本体(6)上侧面的吸附块(10)采用电动吸盘或电磁吸附机构。7.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板研磨盘平坦度辅助检测装置,其特征在于:所述外齿块(12)位于检测长条本体(6)靠近外控盒(7)的侧端位置,所述内齿块(13)位于...
【专利技术属性】
技术研发人员:程秀文,张小虎,
申请(专利权)人:蚌埠高华电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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