一种抛光载盘清洗存储设备制造技术

本实用新型专利技术实施例提供了一种抛光载盘清洗存储设备，用于清洗并存储抛光载盘，其特征在于，包括壳体，所述壳体内设置有支撑结构和清洁刷，所述支撑结构用于固定抛光载盘，所述清洁刷对应所述支撑结构设置，且所述清洁刷用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘，对应每一所述支撑结构设置的清洁刷包括两组，且两组所述清洁刷分别用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘的两侧。本实用新型专利技术实施例通过设置清洁刷，对位于支撑结构上的抛光载盘的两侧进行清洗，以去除抛光载盘表面残留的研磨液或硅片颗粒等异物，提高抛光载盘的清洁度，有利于降低对于后续半导体加工过程可能造成的影响。影响。影响。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光载盘清洗存储设备


[0001]本技术涉及半导体加工
，尤其涉及一种抛光载盘清洗存储设备。

技术介绍

[0002]硅片等半导体加工过程中，需要进行双面研磨以提高半导体的质量，双面研磨过程中，通常需要将半导体设置于抛光载盘上，然后在双面研磨设备上进行研磨。而研磨液及研磨下来的硅片碎屑可能残留并附着于抛光载盘表面，这样，抛光载盘表面可能存在残留物，并对后续的半导体加工过程造成影响。

技术实现思路

[0003]本技术实施例提供一种抛光载盘清洗存储设备，以解决抛光载盘表面可能存在残留物，对半导体加工过程造成影响的问题。
[0004]本技术实施例提供了一种抛光载盘清洗存储设备，用于清洗并存储抛光载盘，包括壳体，所述壳体内设置有支撑结构和清洁刷，所述支撑结构用于固定抛光载盘，所述清洁刷对应所述支撑结构设置，且所述清洁刷用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘，对应每一所述支撑结构设置的清洁刷包括两组，且两组所述清洁刷分别用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘的两侧。
[0005]可选的，所述清洁刷包括刷体和设置于所述刷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光载盘清洗存储设备，用于清洗并存储抛光载盘，其特征在于，包括壳体，所述壳体内设置有支撑结构和清洁刷，所述支撑结构用于固定抛光载盘，所述清洁刷对应所述支撑结构设置，且所述清洁刷用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘，对应每一所述支撑结构设置的清洁刷包括两组，且两组所述清洁刷分别用于清洁固定于所述支撑结构上的抛光载盘的两侧。2.根据权利要求1所述的抛光载盘清洗存储设备，其特征在于，所述清洁刷包括刷体和设置于所述刷体表面的刷毛，所述刷体设置有所述刷毛的一侧还设置有距离传感器，所述距离传感器用于检测所述刷体和抛光载盘之间的距离。3.根据权利要求2所述的抛光载盘清洗存储设备，其特征在于，所述刷体呈圆柱形，所述刷毛环绕所述刷体设置，其中，所述刷体的直径为4至7厘米，所述刷毛的长度为0.5至1厘米。4.根据权利要求2所述的抛光载盘清洗存储设备，其特征在于，还包括驱动组件，所述清洁刷与所述驱动组件相连，所述驱动组件用于带动所述清洁刷自转和移动。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐全，
申请(专利权)人：西安奕斯伟硅片技术有限公司，
类型：新型
国别省市：