本实用新型专利技术公开了氧化镓晶片退火处理装置，属于氧化镓晶片退火处理领域。氧化镓晶片退火处理装置，包括底座，限位杆侧壁连接有移动机构，移动机构包括驱动电机，驱动电机固定连接在限位杆侧壁，驱动电机输出端连接有连接杆，连接杆侧壁转动连接有第一转轴，第一转轴侧壁转动连接有连杆，连杆远离第一转轴的一端转动连接有第二转轴，第二转轴外壁转动连接有驱动块，驱动块侧壁连接有支撑圆盘，支撑圆盘底部连接有夹持机构，夹持机构加持端与晶片相配合；本实用新型专利技术通过夹持机构和移动机构相配，合实现夹取释放功能，可使夹持机构在夹取高度和夹取位置可进行调节，提高移动效率，可根据不同环境进行移动设定，减少移动时间，提高品控。高品控。高品控。
【技术实现步骤摘要】
氧化镓晶片退火处理装置
[0001]本技术涉及氧化镓晶片退火处理领域，尤其涉及氧化镓晶片退火处理装置。
技术介绍
[0002]氧化镓是一种无机化合物，化学式为Ga2O3，别名三氧化二镓，是一种宽禁带半导体，Eg＝4.9eV，其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意。Ga2O3是一种透明的氧化物半导体材料，在光电子器件方面有广阔的应用前景，被用作于Ga基半导体材料的绝缘层，以及紫外线滤光片，它还可以用作O2化学探测器。
[0003]在氧化镓晶片猝火加热后的要第一时间进行退火处理，间隔过程过长会导致品控下降，氧化镓晶片通常在淬火后需要转移至退火平台进行退火工艺处理，但是现有的退火处理装置结构简单，功能单一，不能及时进行转移处理，因此需要氧化镓晶片退火处理装置。
技术实现思路
[0004]本技术的目的是为了解决氧化镓晶片高效的移动问题，而提出的氧化镓晶片退火处理装置。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种氧化镓晶片退火处理装置，包括底座，所述底座顶部固定连接有立杆，所述立杆侧壁连接有横杆，所述横杆底部连接有固定圆盘，所述固定圆盘侧壁固定连接有限位杆，所述限位杆侧壁连接有移动机构，所述移动机构包括驱动电机，所述驱动电机固定连接在限位杆侧壁，所述驱动电机输出端连接有连接杆，所述连接杆侧壁转动连接有第一转轴，所述第一转轴侧壁转动连接有连杆，所述连杆远离第一转轴的一端转动连接有第二转轴，所述第二转轴外壁转动连接有驱动块，所述驱动块侧壁连接有支撑圆盘，所述支撑圆盘底部连接有夹持机构，所述夹持机构加持端与晶片相配合。
[0007]优选的，所述连杆对称设置有两组，两组所述连杆结构相同，两组所述连杆两端分别与第一转轴和第二转轴转动相连。
[0008]优选的，所述移动机构圆周阵列设置有三组，三组所述移动机构结构相同，三组所述移动机构所含驱动块均与支撑圆盘固定相连。
[0009]优选的，所述夹持机构包括夹持电机，所述夹持电机固定连接在支撑圆盘顶部，所述支撑圆盘底部部转动连接有丝杆，所述夹持电机输出端与丝杆相连，所述丝杆上螺纹连接有滑架，所述滑架外壁转动连接有驱动杆，所述驱动杆远离滑架的一端转动连接有滑块，所述丝杆底部转动连接有滑动盘，所述支撑圆盘底部固定连接有滑杆，所述滑杆和滑架滑动相连，所述滑动盘上开设有滑槽，所述滑块和滑槽相配合，所述滑块底部固定连接有连接架，所述连接架底部连接有夹块。
[0010]优选的，所述驱动杆、滑块、连接架和夹块分别设置有四组，四组所述驱动杆均与滑架转动相连。
[0011]与现有技术相比，本技术提供了氧化镓晶片退火处理装置，具备以下有益效果：
[0012]1、该氧化镓晶片退火处理装置，通过夹持电机和夹块相配合，使夹持机构实现对氧化镓晶片夹取和释放的功能，使氧化镓晶片在移动过程中更加稳定。
[0013]2、该氧化镓晶片退火处理装置，通过三组移动机构相配合，使夹持机构在夹取高度可以调节，在夹取位置可以调节，在夹取氧化镓晶片后可以移动至指定退火位置，在退货完成后夹取氧化镓晶片至放置区域，提高移动效率，可根据不同环境进行移动，提高适应性，减少移动时间，提高品控。
[0014]该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本技术通过夹持机构和移动机构相配，合实现夹取释放功能，可使夹持机构在夹取高度和夹取位置可进行调节，提高移动效率，可根据不同环境进行移动设定，提高适应性，减少移动时间，提高品控。
附图说明
[0015]图1为本技术提出的氧化镓晶片退火处理装置的结构示意图；
[0016]图2为本技术提出的氧化镓晶片退火处理装置的移动机构结构示意图；
[0017]图3为本技术提出的氧化镓晶片退火处理装置的正视结构示意图；
[0018]图4为本技术提出的氧化镓晶片退火处理装置图2中A部分结构示意图。
[0019]图中：1、底座；101、立杆；102、横杆；103、固定圆盘；104、限位杆；2、驱动电机；201、连接杆；202、第一转轴；203、连杆；204、第二转轴；205、驱动块；206、支撑圆盘；3、夹持电机；301、丝杆；302、滑架；303、驱动杆；304、滑块；305、滑槽；306、连接架；307、夹块；308、滑动盘；309、滑杆。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0021]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0022]实施例1
[0023]参照图1
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4，一种氧化镓晶片退火处理装置，包括底座1，底座1顶部固定连接有立杆101，立杆101侧壁连接有横杆102，横杆102底部连接有固定圆盘103，固定圆盘103侧壁固定连接有限位杆104，限位杆104侧壁连接有移动机构，移动机构包括驱动电机2，驱动电机2固定连接在限位杆104侧壁，驱动电机2输出端连接有连接杆201，连接杆201侧壁转动连接有第一转轴202，第一转轴202侧壁转动连接有连杆203，连杆203远离第一转轴202的一端转动连接有第二转轴204，第二转轴204外壁转动连接有驱动块205，驱动块205侧壁连接有支撑圆盘206，支撑圆盘206底部连接有夹持机构，夹持机构加持端与晶片相配合。
[0024]连杆203对称设置有两组，两组连杆203结构相同，两组连杆203两端分别与第一转轴202和第二转轴204转动相连。
[0025]移动机构圆周阵列设置有三组，三组移动机构结构相同，三组移动机构所含驱动块205均与支撑圆盘206固定相连。
[0026]夹持机构包括夹持电机3，夹持电机3固定连接在支撑圆盘206顶部，支撑圆盘206底部部转动连接有丝杆301，夹持电机3输出端与丝杆301相连，丝杆301上螺纹连接有滑架302，滑架302外壁转动连接有驱动杆303，驱动杆303远离滑架302的一端转动连接有滑块304，丝杆301底部转动连接有滑动盘308，支撑圆盘206底部固定连接有滑杆309，滑杆309和滑架302滑动相连，滑动盘308上开设有滑槽305，滑块304和滑槽305相配合，滑块304底部固定连接有连接架306，连接架306底部连接有夹块307。
[0027]驱动杆303、滑块304、连接架306和夹块307分别设置有四组，四组驱动杆303均与滑架302转动相连。
[0028]本技术中，使用者使用时，启动夹持电机3使本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种氧化镓晶片退火处理装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)顶部固定连接有立杆(101)，所述立杆(101)侧壁连接有横杆(102)，所述横杆(102)底部连接有固定圆盘(103)，所述固定圆盘(103)侧壁固定连接有限位杆(104)，所述限位杆(104)侧壁连接有移动机构，所述移动机构包括驱动电机(2)，所述驱动电机(2)固定连接在限位杆(104)侧壁，所述驱动电机(2)输出端连接有连接杆(201)，所述连接杆(201)侧壁转动连接有第一转轴(202)，所述第一转轴(202)侧壁转动连接有连杆(203)，所述连杆(203)远离第一转轴(202)的一端转动连接有第二转轴(204)，所述第二转轴(204)外壁转动连接有驱动块(205)，所述驱动块(205)侧壁连接有支撑圆盘(206)，所述支撑圆盘(206)底部连接有夹持机构，所述夹持机构加持端与晶片相配合。2.根据权利要求1所述的氧化镓晶片退火处理装置，其特征在于，所述连杆(203)对称设置有两组，两组所述连杆(203)结构相同，两组所述连杆(203)两端分别与第一转轴(202)和第二转轴(204)转动相连。3.根据权利要求2所述的氧化镓晶片退火处理装置，其特征在于，所述移动机构圆...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴义凯，黄安平，田京生，
申请(专利权)人：珠海经济特区方源有限公司，
类型：新型
国别省市：
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