淋釉系统技术方案

本实用新型专利技术公开一种淋釉系统，包括输送组件，包括依次连续、间隔设置第一输送组件和第二输送组件，以形成瓷砖输送线；淋釉组件，所述淋釉组件设于所述输送组件的上方，并具有用于向下喷淋釉料的淋釉位置，所述淋釉位置位于所述第一输送组件与所述第二输送组件之间的上方。本实用新型专利技术的淋釉系统，其在淋釉过程中，通过有效地减少釉料耗费，以节省生产成本，同时，也保证了输送组件的洁净程度。也保证了输送组件的洁净程度。也保证了输送组件的洁净程度。

【技术实现步骤摘要】
淋釉系统


[0001]本技术属于淋釉设备
，更具体地说，它涉及一种淋釉系统。

技术介绍

[0002]淋釉系统，是用于在瓷砖的表面喷淋釉料，以使瓷砖上色。淋釉系统包括瓷砖输送线和淋釉器，瓷砖输送线用于输送瓷砖，淋釉器安装在瓷砖输送线上方，淋釉器通常是持续淋釉，以使经过淋釉器下方的瓷砖在输送过程中逐渐淋上釉料。当单个瓷砖经过淋釉器之后，淋釉器喷淋的釉料会残留在瓷砖输送线上，导致釉料浪费，增加了生产成本。

技术实现思路

[0003]本技术实施例的一个目的在于：提供一种淋釉系统，其能够解决现有技术中存在的上述问题。
[0004]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种淋釉系统，包括：
[0005]输送组件，包括依次连续、间隔设置第一输送组件和第二输送组件，以形成瓷砖输送线；
[0006]淋釉组件，所述淋釉组件设于所述输送组件的上方，并具有用于向下喷淋釉料的淋釉位置，所述淋釉位置位于所述第一输送组件与所述第二输送组件之间的上方。
[0007]优选地，还包括釉料回收槽，所述釉料回收槽设于所述输送组件的下方，所述淋釉位置向下投影形成的投影区域落于所述釉料回收槽的范围内。
[0008]优选地，所述第一输送组件的输出端与所述第二输送组件的输入端连续相接，所述第一输送组件的输出端和所述第二输送组件向下投影形成的投影区域落于所述釉料回收槽的范围内。
[0009]优选地，定义所述第一输送组件与所述第二输送组件之间的间距为d1，则20mm≤d1≤60mm。
>[0010]优选地，所述第一输送组件为带式输送机，和/或，所述第二输送组件为带式输送机。
[0011]优选地，所述淋釉组件包括淋釉器和设于所述淋釉器下方的导釉板，所述淋釉器设有面向所述导釉板上表面的淋釉出口，所述导釉板用于将由所述淋釉出口喷淋的釉料导向至所述导釉板的淋釉侧边，所述淋釉侧边构成所述淋釉位置。
[0012]优选地，所述淋釉器连通有引流管，所述引流管设有面向所述导釉板的淋釉出口。
[0013]优选地，定义所述淋釉出口与所述导釉板上表面之间的间距为d2，则15mm≤d2≤20mm。
[0014]优选地，所述引流管还设有与所述淋釉器的出口连通的淋釉进口，所述引流管的管径由所述淋釉进口至所述淋釉出口逐渐缩小。
[0015]优选地，所述引流管呈锥状。
[0016]综上所述，本技术具有以下有益效果：
[0017]本技术提出的淋釉系统，包括输送组件和淋釉组件，输送组件包括依次连续、间隔设置的第一输送组件和第二输送组件，淋釉组件设在输送组件上方，并具有位于第一输送组件与第二输送组件之间间隔处上方的淋釉位置，以使淋出的釉料不会淋于输送组件上造成浪费，同时，釉料通过第一输送组件与第二输送组件之间间隔处淋出，以用于回收，以进一步节省了(釉料)生产成本，而且，釉料不会淋于输送组件，也保证了输送组件的洁净程度以及使用寿命。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0019]图1是本技术淋釉系统的结构示意图；
[0020]图2是本技术淋釉系统的俯视视角结构示意图。
[0021]图中：100、淋釉系统；10、输送组件；11、第一输送组件；12、第二输送组件；20、淋釉组件；21、淋釉器；22、引流管；22a、淋釉出口；23、导釉板；24、淋釉侧边；25、淋釉阀门；30、釉料回收槽。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]需要说明，本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0024]另外，在本技术中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。
[0025]请结合参阅图1和图2，本技术提出一种淋釉系统100，其在淋釉过程中，通过有效地减少釉料耗费，以节省生产成本，同时，也保证了输送组件10的洁净程度。
[0026]以下，具体描述该淋釉系统100的结构，该淋釉系统100，包括：
[0027]输送组件10，包括依次连续、间隔设置第一输送组件11和第二输送组件12，以形成瓷砖输送线；
[0028]淋釉组件20，所述淋釉组件20设于所述输送组件10的上方，并具有用于向下喷淋
釉料的淋釉位置，所述淋釉位置位于所述第一输送组件11与所述第二输送组件12之间的上方。
[0029]具体的，第一输送组件11和第二输送组件12均呈条状设置，且通过输送架安装，第一输送组件11的出口与第二输送组件12的进口相接，且输送方向一致，以使经过第一输送组件11之后的瓷砖，顺利进入第二输送组件12，由第二输送组件12持续输送。
[0030]所述第一输送组件11可以为带式输送机或者是其他形式的输送机，同样，所述第二输送组件12可以为带式输送机或者是其他形式的输送机。在本实施例中，为了便于输送瓷砖，第一输送组件11和第二输送组件12均为带式输送机。
[0031]淋釉组件20，安装在输送组件10上方，具体的，其具有喷淋位置，喷淋位置可以是设有喷淋喷头的喷淋口构成，通过喷淋口淋出釉料，也可以是通过导釉板23的侧边构成，通过导釉板23的侧边将釉料导流淋出，在此不做限制。
[0032]值得说明的是，淋釉位置设在第一输送组件11与第二输送组件12之间间隔的上方，以使喷淋位置淋出的釉料不会淋于第一输送组件11和第二输送组件12上，以减少釉料残留在输送组件10上，而导致釉料耗费，釉料经过第一输送组件11和第二输送组件12之间淋出，可以是在釉料淋出的位置处设置回收装置，以将多余的釉料回收，重复使用，同时，釉料不会淋于第一输送组件11和第二输送组件12上，也保证了第一输送组件11和第二输送组件12的洁净程度，有利于第一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.淋釉系统(100)，其特征在于，包括：输送组件(10)，包括依次连续、间隔设置第一输送组件(11)和第二输送组件(12)，以形成瓷砖输送线；淋釉组件(20)，所述淋釉组件(20)设于所述输送组件(10)的上方，并具有用于向下喷淋釉料的淋釉位置，所述淋釉位置位于所述第一输送组件(11)与所述第二输送组件(12)之间的上方。2.如权利要求1所述的淋釉系统(100)，其特征在于，还包括釉料回收槽(30)，所述釉料回收槽(30)设于所述输送组件(10)的下方，所述淋釉位置向下投影形成的投影区域落于所述釉料回收槽(30)的范围内。3.如权利要求2所述的淋釉系统(100)，其特征在于，所述第一输送组件(11)的输出端与所述第二输送组件(12)的输入端连续相接，所述第一输送组件(11)的输出端和所述第二输送组件(12)向下投影形成的投影区域落于所述釉料回收槽(30)的范围内。4.如权利要求2所述的淋釉系统(100)，其特征在于，定义所述第一输送组件(11)与所述第二输送组件(12)之间的间距为d1，则20mm≤d1≤60mm。5.如权利要求1所述的淋釉系统(100)，其特征在于，所述第一输送组件(11...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁桐灿，曾凡平，丁英美，邱金清，蔡伟强，侯斌，宋奕强，
申请(专利权)人：广东宏海陶瓷实业发展有限公司，
类型：新型
国别省市：