一种晶圆纳米压印装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种晶圆纳米压印装置，包括：下模板，所述下模板的中部设有下模腔，所述下模腔的底部设有用于安放晶圆的定位槽，所述下模板上设有用于连通下模腔与外界空气的下进气孔和下排气孔；上模板，所述上模板的后端铰接在所述底架上，所述上模板和所述下模板对应形成翻转开合结构，所述上模板的中部设有上模腔，所述上模板和下模板合膜后并通过锁止机构将两者对应扣合锁紧，所述上模腔的顶部镶嵌有密封透光板，所述上模板上设有用于连通上模腔与外界空气的上进气孔和上排气孔；光源，所述光源通过密封透光板正射于所述压印腔室内的定位槽。本实用新型专利技术是在真空腔内压印，相比常压下压印，压印过程不会产生气泡，产品的质量更好。质量更好。质量更好。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆纳米压印装置


[0001]本技术涉及纳米压印设备的
，具体涉及一种晶圆纳米压印装置。

技术介绍

[0002]纳米压印的基本原理就是将制作好的模板压在一层薄的聚合物薄膜上，这层薄膜通过加热的或者化学的方法固化，从而在聚合物上可形成与模板具有1:1大小的图案。该工艺过程主要包含两个步骤:图形复制和图形转移，即在一块基片上(通常为硅片)涂上一层聚合物(通常为光刻胶)，再用已刻有特定图形的模板在一定的温度(须高于聚合物“软化”温度)和压力下去压印聚合物涂层，从而实现图形复制，然后脱模，即将模板从压印的聚合物上移除，就能够在基片形成纳米图案。原理上来看，纳米压印技术在图案制作上没有任何限制，因此它能通过电子束刻蚀和其他技术制作的模板来压印任意的图形。近十年的发展，纳米压印技术发展出很多种不同的方法，但是可以大概归纳为以下几种:热纳米压印、紫外固化纳米压印、软压印。但是，在现有的纳米压印的技术中，普遍存在着压力分布不均的问题，且在压印的过程中容易产生气泡，影响了产品的质量。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是提供一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆纳米压印装置，其特征在于，包括：下模板，所述下模板安装在底架上，所述下模板的中部设有下模腔，所述下模腔的底部设有用于安放晶圆的定位槽，所述下模板上设有用于连通下模腔与外界空气的下进气孔和下排气孔；上模板，所述上模板的后端铰接在所述底架上，所述上模板和所述下模板对应形成翻转开合结构，所述上模板的中部设有与所述下模腔对应匹配的上模腔，所述上模板和下模板合膜后并通过锁止机构将两者对应扣合锁紧，同时所述上模腔和所述下模腔对应扣合形成密封的压印腔室，所述上模腔的顶部设有密封镶嵌在上模板内的密封透光板，所述上模板上设有用于连通上模腔与外界空气的上进气孔和上排气孔；光源，所述光源安装在所述上模板上，所述光源通过密封透光板正射于所述压印腔室内的定位槽。2.如权利要求1所述的一种晶圆纳米压印装置，其特征在于，所述下模板水平固定在所述底架上，所述底架水平固定在控制箱体上。3.如权利要求1所述的一种晶圆纳米压印装置，其特征在于，所述下模腔设置在所述下模板的上表面，所述下模板的上表面设有一周环绕在所述下模腔外部的下密封圈，所述上模板中上模腔所在的表面设有一周环绕在所述上模腔外部的上密封圈。4.如权利要求1所述的一种晶圆纳米压印装置，其特征在于，所述定位槽的底部设有多个吸附孔，所述吸附孔与所述下模板内设置的第一气室连通，所述下模板上还设有连通第一气室与外界空气的负压接孔，所述下进气孔和下排气孔均与所述下模板内设置的第二气室连通，所述第二气室与所述下模腔之间设有多个将两者连通的分压孔。5.如权利要求1所述的一种晶圆纳米压印装置，其特征在于，还包括两个相同的夹紧环体，两个所述夹紧环体对应叠放固定在一起且其两者之间夹紧有压印模板，所述压印模板密封夹紧在所述上模板和所述下模板之间且将上模腔和下模腔密封隔开，所述夹紧环体位于上槽体和下槽体扣合形成的定位腔室内，所述上槽体和下槽体分别设置在上模...

【专利技术属性】
技术研发人员：张浩，张弩，
申请(专利权)人：江苏戴米克自动化科技有限公司，
类型：新型
国别省市：