【技术实现步骤摘要】
一种用于高纯材料制备的坩埚镀碳化硅薄膜方法
[0001]本专利技术涉及坩埚镀膜
,更具体地说,本专利技术涉及一种用于高纯材料制备的坩埚镀碳化硅薄膜方法。
技术介绍
[0002]在硅溶胶精密铸造制壳生产中壳模面层裂纹经常出现,同理,在坩埚表面镀碳化硅薄膜时,容易因碳化硅薄膜干燥过快会导致微裂纹,润湿非常细小,此时坩埚在脱蜡后裂纹会扩展,且在实际的使用过程中,不仅容易出现薄膜脱落的情况,且坩埚的内部也会出现受热不均匀的情况,同时,会影响坩埚对材料的提纯。
技术实现思路
[0003]为了克服现有技术的上述缺陷,本专利技术提供了一种用于高纯材料制备的坩埚镀碳化硅薄膜方法,本专利技术所要解决的技术问题是:在坩埚表面镀碳化硅薄膜时,容易因碳化硅薄膜干燥过快会导致微裂纹,润湿非常细小,此时坩埚在脱蜡后裂纹会扩展,且在实际的使用过程中,不仅容易出现薄膜脱落的情况,且坩埚的内部也会出现受热不均匀的情况,同时,会影响坩埚对材料提纯的问题。
[0004]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种用于高纯材料制备 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于高纯材料制备的坩埚镀碳化硅薄膜方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、碳化硅纤维制备:
①
、聚硅烷在400℃以上,发生热转位反应,使侧链上的甲基以亚甲基的形式,导入主链的硅,形成聚碳硅烷,然后通过干法纺丝或熔体纺丝制成纤维,从而得到混合体;
②
、将所述混合体在真空度为0.1
‑
0.15MPa,温度为1200
‑
1500℃的条件下煅烧,侧链的甲基与氢同时脱出后只留下硅以及碳的骨架成分,并形成β
‑
碳化硅结构的纤维,最后进行上浆处理及集束卷绕,煅烧升温速率为3
‑
5℃/min,煅烧时间为5
‑
12h,从而得到前置物,对前置物进行除硅以及除碳处理,从而得到碳化硅纤维;S2、称取无水葡萄糖2
‑
5g,取二氧化硅粉过300目筛,称取筛下料2
‑
3g,称取氯化钠3
‑
5g,将称取好的原料放入尼龙球磨罐中加入玛瑙球,在行星球磨机上以200
‑
300r/min的速度球进行研磨,得到混合粉料;S3、将碳化硅纤维与混合粉料在80
‑
100℃内的烤箱内进行烘烤,从而剔除其内部的水分,随后将其一同倾倒至混合设备内部,通过对碳化硅纤维以及混合粉料进行混合,其混合转速为60r/min,混合时间为15
...
【专利技术属性】
技术研发人员:卢鹏荐,曾小龙,张林,张联盟,章嵩,涂溶,
申请(专利权)人:武汉理工大学,
类型:发明
国别省市:
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