一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法技术

本发明专利技术公开了一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，用加热和抽真空兼备的旋转蒸发仪替代水浴锅加热反应、氮吹去除液面上层氧气和真空干燥箱去除反应溶剂，实现一步式反应形成聚合物；用辅助致孔剂β

【技术实现步骤摘要】
一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法


[0001]本专利技术属于分子印迹聚合物合成领域，具体涉及一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法。

技术介绍

[0002]桔霉素是青霉或曲霉类微生物产生的真菌毒素，过量的桔霉素会损伤肾脏，因此部分食品中都有规定桔霉素限量，例如功能性红曲（QB/T 2847
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2007）。桔霉素含量一般基于荧光检测器使用高效液相色谱检测，但荧光过于灵敏，以至于样品中的杂质容易干扰桔霉素的测定。分子印迹聚合物指的是用化学的方法人工构建类酶结构的聚合物，能够模拟生物组织或细胞中抗体对抗原的识别功能，进而对目标物进行特异性吸附，对物质分离纯化或检测方面具有重要应用价值。基于分子印迹技术构建桔霉素分子印迹聚合物能够特异性吸附桔霉素，再通过合适的洗脱方法将桔霉素洗脱出来上机检测能够有效去除杂质的干扰。当前国内外文献已公开了数种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，然而这些方法操作较为繁琐，需要充氮除氧以减少引发剂在反应过程中的氧化损失，60℃水浴需要聚合24h，聚合后的产物还需要真空干燥去除溶剂，这些操作所涉及的仪器如氮吹仪和适合干燥有机溶剂的真空干燥箱等价格较为高昂，此外致孔剂的选择也有待改进。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于克服现有技术不足，提供一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法。
[0004]为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，所述方法包括以下步骤：圆底烧瓶中加入假模板分子1
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羟基
‑2‑
萘甲酸、功能单体2,6
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二氨基吡啶、溶剂二甲基亚砜，漩涡震荡溶解，水浴加热使假模板分子和功能单体充分接触；再加入交联剂、引发剂和辅助致孔剂，漩涡震荡溶解，超声脱除溶液中氧气，并于旋转蒸发仪中常温抽真空脱除烧瓶中液面上层氧气，然后于旋转蒸发仪中真空加热形成聚合物沉淀并继续真空加热使溶剂挥干；取出聚合物，研磨过筛，用含1mol/L HCl的甲醇和含1mol/L HCl的去离子水交替超声洗脱聚合物，初步去除假模板分子以及使辅助致孔剂酸解溶出；再用甲醇超声清洗去除HCl和剩余的假模板分子，剩余聚合物烘干即得桔霉素分子印迹聚合物。
[0005]上述构建方法中，所述假模板分子1
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羟基
‑2‑
萘甲酸的浓度为0.4mmol/mL；功能单体2,6
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二氨基吡啶的浓度为0.4mmol/mL。
[0006]上述构建方法中，所述水浴加热的条件为40℃水浴30min。
[0007]上述构建方法中，所述交联剂的浓度为0.25mmol/mL交联剂、引发剂的浓度为0.004g/mL、辅助致孔剂的浓度为0.1mmol/mL；所述交联剂为乙二醇二甲基丙烯酸酯；引发剂为偶氮二异丁腈；辅助致孔剂为β
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环糊精。
[0008]上述构建方法中，所述超声脱除溶液中氧气的条件为：100W超声15min。
[0009]上述构建方法中，所述旋转蒸发仪中常温抽真空脱除烧瓶中剩余氧气的条件为：常温抽真空30min。
[0010]上述构建方法中，所述真空加热形成聚合物沉淀的条件为70℃真空加热120min；所述继续真空加热的时间为12h。
[0011]上述构建方法中，所述交替超声洗脱聚合物为交替洗脱聚合物5次，每次100W超声60min；甲醇超声清洗为100W、60min超声清洗10次。
[0012]利用上述方法制备得到的桔霉素分子印迹聚合物。
[0013]上述桔霉素分子印迹聚合物在分离纯化桔霉素中的应用。
[0014]本专利技术的有益效果在于：本专利技术用加热和抽真空兼备的旋转蒸发仪替代水浴锅加热反应、氮吹去除液面上层氧气和真空干燥箱去除反应溶剂，实现一步式反应形成聚合物；用辅助致孔剂β
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环糊精在聚合物内部形成多个空间尺寸与桔霉素相近的孔洞，同时在洗脱假模板分子的过程中将β
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环糊精酸解去除以减少非特异性吸附。该方法用少量、简单的仪器设备简化了构建桔霉素分子印迹聚合物的复杂操作，在形成聚合物的过程中节约了时间，提高了印迹聚合物对桔霉素的吸附量。
具体实施方式
[0015]以下结合具体实施例对本专利技术做进一步说明，但本专利技术不仅仅限于此实施例。
[0016]实施例1一种桔霉素分子印迹聚合物MIP1的合成方法，所述方法包括以下步骤：在25mL圆底烧瓶中加入4mmol假模板分子1
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羟基
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萘甲酸、4mmol功能单体、10mL溶剂，漩涡震荡溶解，40℃水浴30min使假模板分子和功能单体充分接触，再加入2.5mmol交联剂乙二醇二甲基丙烯酸酯、0.04g引发剂偶氮二异丁腈、1mmol辅助致孔剂β
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环糊精，漩涡震荡溶解，100W超声15min脱除溶液中氧气，并于旋转蒸发仪中常温抽真空30min脱除烧瓶中液面上层氧气，然后于旋转蒸发仪中70℃真空加热120min形成聚合物沉淀并继续真空加热12h使溶剂二甲基亚砜挥干；取出聚合物，研磨过筛至100目，用含1mol/L HCl的甲醇和含1mol/L HCl的去离子水交替洗脱聚合物5次，每次100W超声60min，初步去除假模板分子以及使β
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环糊精酸解溶出，再用甲醇100W、60min超声清洗10次去除HCl和剩余的假模板分子，剩余聚合物60℃烘干3h即得桔霉素分子印迹聚合物MIP1。
[0017]一种非特异性分子印迹聚合物为NIP1的合成方法，所述方法与MIP1的合成方法类似，区别在于NIP1在合成过程中不加假模板分子1
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羟基
‑2‑
萘甲酸。
[0018]一种桔霉素分子印迹聚合物MIP2的合成方法，所述方法与MIP1的合成方法类似，区别在于MIP2在合成过程中不加β
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环糊精。
[0019]一种非特异性分子印迹聚合物NIP2的合成方法，所述方法与MIP2的合成方法类似，区别在于NIP2不加假模板分子1
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羟基
‑2‑
萘甲酸。
[0020]一种桔霉素分子印迹聚合物MIP3的合成方法，所述方法包括以下步骤：在25mL圆底烧瓶中加入4mmol假模板分子1
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羟基
‑2‑
萘甲酸、4mmol功能单体2,6
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二氨基吡啶、10mL二甲基亚砜，漩涡震荡溶解，40℃水浴30min使假模板分子和功能单体充分接触，再加入2.5mmol交联剂乙二醇二甲基丙烯酸酯、0.04g引发剂偶氮二异丁腈、1mmol辅助致孔剂β
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环
糊精，漩涡震荡溶解，100W超声15min脱除溶液中氧气，用氮吹仪氮吹30min后塞上橡胶塞，并用封口膜封口；将圆底烧瓶在水浴锅中60℃加热24h形成聚合物，取出聚合物并于真空干燥箱中70℃烘干12h；将聚合物研磨过筛至100目，用含1mol/L HCl的甲醇本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：向圆底烧瓶中加入假模板分子1
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羟基
‑2‑
萘甲酸、功能单体2,6
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二氨基吡啶、溶剂二甲基亚砜，漩涡震荡溶解，水浴加热使假模板分子和功能单体充分接触；再加入交联剂、引发剂和辅助致孔剂，漩涡震荡溶解，超声脱除溶液中氧气，并于旋转蒸发仪中常温抽真空脱除烧瓶中液面上层氧气，然后于旋转蒸发仪中真空加热形成聚合物沉淀并继续真空加热使溶剂挥干；取出聚合物，研磨过筛，用含1mol/L HCl的甲醇和含1mol/L HCl的去离子水交替超声洗脱聚合物，初步去除假模板分子以及使辅助致孔剂酸解溶出；再用甲醇超声清洗去除HCl和剩余的假模板分子，剩余聚合物烘干即得桔霉素分子印迹聚合物。2.根据权利要求1所述的一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，其特征在于：所述假模板分子1
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羟基
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萘甲酸的浓度为0.4mmol/mL；功能单体2,6
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二氨基吡啶的浓度为0.4mmol/mL。3.根据权利要求1所述的一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，其特征在于：所述水浴加热的条件为...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪莉，周康熙，吕旭聪，
申请(专利权)人：福州大学，
类型：发明
国别省市：