一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法技术

本发明专利技术公开了一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，用加热和抽真空兼备的旋转蒸发仪替代水浴锅加热反应、氮吹去除液面上层氧气和真空干燥箱去除反应溶剂，实现一步式反应形成聚合物；用辅助致孔剂β

【技术实现步骤摘要】
一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法


[0001]本专利技术属于分子印迹聚合物合成领域，具体涉及一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法。

技术介绍

[0002]桔霉素是青霉或曲霉类微生物产生的真菌毒素，过量的桔霉素会损伤肾脏，因此部分食品中都有规定桔霉素限量，例如功能性红曲（QB/T 2847
‑
2007）。桔霉素含量一般基于荧光检测器使用高效液相色谱检测，但荧光过于灵敏，以至于样品中的杂质容易干扰桔霉素的测定。分子印迹聚合物指的是用化学的方法人工构建类酶结构的聚合物，能够模拟生物组织或细胞中抗体对抗原的识别功能，进而对目标物进行特异性吸附，对物质分离纯化或检测方面具有重要应用价值。基于分子印迹技术构建桔霉素分子印迹聚合物能够特异性吸附桔霉素，再通过合适的洗脱方法将桔霉素洗脱出来上机检测能够有效去除杂质的干扰。当前国内外文献已公开了数种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，然而这些方法操作较为繁琐，需要充氮除氧以减少引发剂在反应过程中的氧化损失，60℃水浴需要聚合24h，聚合后的产物还需要真空干燥去除溶剂，这些操作所涉及的仪器如氮吹仪和适本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：向圆底烧瓶中加入假模板分子1
‑
羟基
‑2‑
萘甲酸、功能单体2,6
‑
二氨基吡啶、溶剂二甲基亚砜，漩涡震荡溶解，水浴加热使假模板分子和功能单体充分接触；再加入交联剂、引发剂和辅助致孔剂，漩涡震荡溶解，超声脱除溶液中氧气，并于旋转蒸发仪中常温抽真空脱除烧瓶中液面上层氧气，然后于旋转蒸发仪中真空加热形成聚合物沉淀并继续真空加热使溶剂挥干；取出聚合物，研磨过筛，用含1mol/L HCl的甲醇和含1mol/L HCl的去离子水交替超声洗脱聚合物，初步去除假模板分子以及使辅助致孔剂酸解溶出；再用甲醇超声清洗去除HCl和剩余的假模板分子，剩余聚合物烘干即得桔霉素分子印迹聚合物。2.根据权利要求1所述的一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，其特征在于：所述假模板分子1
‑
羟基
‑2‑
萘甲酸的浓度为0.4mmol/mL；功能单体2,6
‑
二氨基吡啶的浓度为0.4mmol/mL。3.根据权利要求1所述的一种桔霉素分子印迹聚合物的构建方法，其特征在于：所述水浴加热的条件为...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪莉，周康熙，吕旭聪，
申请(专利权)人：福州大学，
类型：发明
国别省市：