一种掩膜版制造技术

本实用新型专利技术提供了一种掩膜版，涉及光伏电池制造领域。掩膜版包括：掩膜框体、设置在掩膜框体内的若干掩膜条；掩膜条的两端分别与掩膜框体的两个相对侧边连接，掩膜条在掩膜框体中以纵向和/或横向的方式布置；掩膜条的不同位置的宽度不同。本实用新型专利技术可以采用掩膜版与硅片表面紧密接触，并仅通过一次沉积操作就可以实现在光伏电池片表面形成安置电极的凹槽区域和功能层所处区域，不需要额外投入昂贵的设备，减少了工艺流程，提高了生产效率，并且，也不会对硅片本身造成损伤，提高了光伏电池片的能量转换效率。另外，掩膜条的不同位置的宽度不同，可以制备出宽度具备变化特性的电极，适应了各种对光伏电池片表面的电极形式的设计方案。方案。方案。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版


[0001]本技术涉及光伏电池制造
，特别是涉及一种掩膜版。

技术介绍

[0002]光伏发电技术作为一种可以直接将太阳光转化为电能的技术，得到了越来越广泛的应用，其中，在制备光伏电池的过程中，需要在硅片的表面制备一些功能层和电极。
[0003]现有技术中，制备功能层的方式为在硅片的表面形成一整层功能层，并在功能层上以激光开槽的形式制备出用于容置电极的凹槽。
[0004]但是，激光开槽的成本较高且工艺复杂，还会还会对硅片造成激光灼伤。

技术实现思路

[0005]本技术提供一种掩膜版，旨在解决现有方案中激光开槽的成本较高且工艺复杂，还会还会对硅片造成激光灼伤的问题。
[0006]本技术实施例提供了一种掩膜版，包括：
[0007]掩膜框体、设置在所述掩膜框体内的若干掩膜条；
[0008]所述掩膜条的两端分别与所述掩膜框体的两个相对侧边连接，所述掩膜条在所述掩膜框体中以纵向和/或横向的方式布置；
[0009]所述掩膜条的不同位置的宽度不同。
[0010]可选的，所述掩膜条的不同位置的厚度不同。
[0011]可选的，在所述掩膜条的至少部分段中，所述掩膜条的宽度和/或厚度逐渐增大或减小。
[0012]可选的，从所述掩膜条的中央至所述掩膜条的两端，所述掩膜条的宽度和/或厚度逐渐增大或减小。
[0013]可选的，所述掩膜条的外表面设置有绝缘隔离层。
[0014]可选的，所述绝缘隔离层为氟碳涂层或玻璃涂层或陶瓷涂层。<br/>[0015]可选的，所述绝缘隔离层的厚度为10nm～10um。
[0016]可选的，所述掩膜条为掩膜线和/或掩膜片条。
[0017]可选的，所述掩膜条包括：若干所述掩膜条由多根掩膜线和两条掩膜片条组成；所述掩膜片条的宽度大于所述掩膜线的直径；
[0018]多根所述掩膜线横向设置在所述掩膜框体内，相邻所述掩膜线之间间隔第一预设距离；
[0019]两条所述掩膜片条纵向设置在所述掩膜框体内，两条所述掩膜片条之间间隔第二预设距离。
[0020]可选的，所述第二预设距离大于所述第一预设距离。
[0021]本技术的掩膜版，可以应用于功能层沉积过程中，将掩膜版与硅片表面紧密接触，然后沉积，沉积完成后拿掉掩膜版即可，仅通过一次沉积操作就可以实现在光伏电池
片表面形成凹槽区域(即未沉积的区域)和功能层所处区域(即沉积的区域)，不需要额外投入昂贵的设备，减少了工艺流程，提高了生产效率，且不会对硅片造成激光灼伤。另外，掩膜条的不同位置的宽度不同，还可以制备出宽度具备变化特性的电极，适应了各种对光伏电池片表面的电极形式的设计方案，进一步提高电流收集以及光电转换效率。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对本技术实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1示出了本技术实施例中的一种掩膜版的结构示意图；
[0024]图2示出了本技术实施例中的一种掩膜版的局部结构示意图；
[0025]图3示出了本技术实施例中的另一种掩膜版的局部结构示意图；
[0026]图4示出了本技术实施例中的另一种掩膜版的局部结构示意图；
[0027]图5示出了本技术实施例中的一种硅片的结构。
具体实施方式
[0028]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]掩膜版的作用是，在硅片表面进行处理时，局部遮挡硅片的表面，从而实现局域化处理。以下以掩膜版用于在硅片表面进行镀膜为例进行说明，但掩膜版亦可以用于离子注入亦或扩散等工艺中，可以参照理解，在此不再赘述。可以充分实现电极对应区域与其它区域的不同处理，进一步更好适应电极图案的特殊化设计。
[0030]参照图1、图1示出了本技术实施例中的一种掩膜版的结构示意图。
[0031]该掩膜版包括：掩膜框体10、设置在掩膜框体10内的的若干掩膜条40，掩膜条40的两端分别与掩膜框体10的两个相对侧边连接，掩膜条40在掩膜框体10中以纵向和/或横向的方式布置；进一步的参照图2，图2示出了本技术实施例中的一种掩膜版的局部结构示意图，掩膜条40的不同位置的宽度不同。
[0032]需要说明的是，各附图只是为了说明掩膜条的形貌，对掩膜条进行形貌特征放大处理，并不代表真实的掩膜条与掩膜框体的比例关系。
[0033]可选的，掩膜条40包括掩膜线11和/或掩膜片条12；掩膜线11和掩膜片条12的两端分别与掩膜框体10的相对两个侧边连接，掩膜片条12的宽度大于掩膜线11的直径；掩膜线11在掩膜框体10中以纵向和/或横向的方式布置；掩膜片条12在掩膜框体10中以纵向和/或横向的方式布置。
[0034]具体的，在图1中，掩膜条40在掩膜框体10中以横向布置的方式进行设置，掩膜框体10的尺寸可以与硅片的尺寸匹配，掩膜条40的布置位置可以根据要在光伏电池上设置的电极的位置确定，掩膜条40的宽度和厚度也可以根据要在光伏电池上设置的电极的宽度确
定。
[0035]需要说明的是，根据对光伏电池上设置的电极的尺寸的不同，可以仅在掩膜框体中保留掩膜线(电极的设计宽度较窄的情况下)，也可以仅在掩膜框体中保留掩膜片条(电极的设计宽度较宽的情况下)，也可以同时在掩膜框体中保留掩膜线和掩膜片条(电极的设计宽度同时存在较宽和较窄的不同情况)。
[0036]参照图2，掩膜条的不同位置的宽度不同。
[0037]即在掩膜条40包含掩膜线11和掩膜片条12的情况下，掩膜线11的不同位置的直径不同；掩膜片条12的不同位置的宽度不同。
[0038]例如，参照图2，从掩膜线11的一端至掩膜线11的另一端，掩膜线11的直径逐渐增大或减小；从掩膜片条12的一端至掩膜片条12的另一端，掩膜片条12的宽度逐渐增大或减小。
[0039]在本技术实施例中，参照图2，一个纵向设置的掩膜片条12，在x方向上，其宽度不断递增，一个横向设置的掩膜线11，在y方向上，其直径不断递减。这就形成了一种掩膜线11的直径和掩膜片条12的宽度渐变的结构，这就可以在后续沉积工艺中，在光伏电池片上加工出宽度渐变的电极形状(即电极的宽度逐渐递增或递减)，这种工艺能够降低光伏电池片的遮光损失，使太阳电池高效率地发电。但是，为了保证不同区域的掩膜线和掩膜片条都能与硅片表面紧密接触，需要增加端部掩膜线和掩膜片条下方的涂层厚度，以与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，用于在硅片表面进行处理，其特征在于，包括：掩膜框体、设置在所述掩膜框体内的若干掩膜条；所述掩膜条的两端分别与所述掩膜框体的两个相对侧边连接，所述掩膜条在所述掩膜框体中以纵向和/或横向的方式布置；所述掩膜条的不同位置的宽度不同。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜条的不同位置的厚度不同。3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，在所述掩膜条的至少部分段中，所述掩膜条的宽度和/或厚度逐渐增大或减小。4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，从所述掩膜条的中央至所述掩膜条的两端，所述掩膜条的宽度和/或厚度逐渐增大或减小。5.根据权利要求1至4任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜条的外表面设置有绝缘隔...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱广东，李华，刘继宇，
申请(专利权)人：泰州隆基乐叶光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：