金属掩膜板制造技术

本申请提供一种金属掩膜板，包括：至少一个子掩膜板，子掩膜板设置有多个蒸镀区，每个蒸镀区中均设置有多个蒸镀孔，每个蒸镀孔均包括一凹槽和一弧形槽，凹槽与弧形槽相互连通，任意相邻的蒸镀孔之间均设置有遮挡结构，遮挡结构的侧面分别构成凹槽与弧形槽的侧壁；弧形槽的中心截面包括第一弧线和第三弧线，第三弧线与遮挡结构的侧面重合，第三弧线与第一弧线的弧度相同且圆心位置重合。在本申请提供的金属掩膜板中，通过在相邻的蒸镀孔之间设置遮挡结构以控制蒸镀区的厚度，使得蒸镀角得以缩小，由此提高了蒸镀膜层的有效膜宽，进一步的，通过增大蒸镀区外围的辅助区的宽度，能够避免应力集中在蒸镀区的边缘，进而避免蒸镀异常问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
金属掩膜板


[0001]本申请涉及柔性显示
，尤其涉及一种金属掩膜板。

技术介绍

[0002]有机发光显示器是一种利用薄膜晶体管(英文全称Thin Film Transistor，简称TFT)来控制有机发光二极管(英文全称Organic Lighting Emitting Diode，简称OLED)进行图像显示的平板显示装置，由于其具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示等特点，因此逐渐取代液晶显示器(英文全称LiquidCrystal Display，简称LCD)应用于手机、电视等显示终端上。
[0003]在OLED制造技术中，真空蒸镀用的掩膜板是至关重要的部件，掩膜板可以控制有机材料沉积在屏体上的位置，从而在屏体上形成不同的有机图案。掩膜板主要包括通用金属掩膜板(英文全称Common Metal Mask，简称CMM)及精密金属掩膜板(英文全称Fine Metal Mask，简称FMM)，其中通用金属掩膜板主要用于蒸镀共通层，精密金属掩膜板也称为高精密金属掩膜板，主要用于蒸镀发光层。
[0004]现有的精密金属掩膜板在设计时为保证其足够的强度，会将蒸镀角(英文名称为Taper Angle)尽量控制在60
°
左右。如此，蒸镀区(即开孔区)与非开孔区的金属厚度差异不会太大，蒸镀区有足够多的金属来支撑其强度。
[0005]然而，蒸镀角越大，蒸镀的有效膜宽就越小。现有的精密金属掩膜板存在有效膜宽不足的问题。直接缩小蒸镀角，虽然能够解决有效膜宽不足的问题，但是会增加蒸镀区(即开孔区)与非开孔区的金属厚度差异，使得所述精密金属掩膜板在张网张力的影响下出现应力集中于蒸镀区边缘的问题，进而造成混色/晕开等蒸镀异常。

技术实现思路

[0006]有鉴于此，本申请提供一种金属掩膜板，以解决现有技术中精密金属掩膜板存在有效膜宽不足以及应力集中于蒸镀区边缘而造成混色/晕开等蒸镀异常的问题。
[0007]为解决上述技术问题，本专利技术提供的一种金属掩膜板，所述金属掩膜板包括：掩膜板主体；
[0008]所述掩膜板主体包括至少一个子掩膜板，所述子掩膜板设置有多个蒸镀区，每个蒸镀区中均设置有多个蒸镀孔，所述多个蒸镀孔呈阵列方式排列；
[0009]所述子掩膜板具有相对设置的玻璃面和蒸镀面，每个蒸镀孔均包括一凹槽和一弧形槽，所述凹槽与所述弧形槽均沿着所述子掩膜板的厚度方向设置且相互连通，所述凹槽的一端与所述玻璃面齐平，任意相邻的蒸镀孔之间均设置有遮挡结构，所述遮挡结构的顶面与所述玻璃面齐平，所述遮挡结构的侧面分别构成所述凹槽与所述弧形槽的侧壁；
[0010]其中，所述遮挡结构的厚度方向与所述子掩膜板的厚度方向一致，且所述遮挡结构的厚度小于所述子掩膜板的厚度；
[0011]所述弧形槽的中心截面包括第一弧线和第三弧线，所述第三弧线与所述遮挡结构
的侧面重合，所述第三弧线与所述第一弧线的弧度相同且圆心位置重合。
[0012]可选的，在所述的金属掩膜板中，所述遮挡结构的截面为轴对称结构。
[0013]可选的，在所述的金属掩膜板中，所述遮挡结构的侧面沿其延伸方向收缩于一端点，所述端点位于所述轴对称结构的对称轴上，所述端点与所述玻璃面的距离是所述遮挡结构的厚度。
[0014]可选的，在所述的金属掩膜板中，所述子掩膜板的厚度为30微米，所述遮挡结构的厚度在15微米到30微米之间。
[0015]可选的，在所述的金属掩膜板中，所述第一弧线的两端的连线与所述蒸镀面之间的夹角为蒸镀角，所述蒸镀角在40
°
到50
°
之间。
[0016]可选的，在所述的金属掩膜板中，每个蒸镀区的外围均设置有一辅助区，所述辅助区的厚度与所述子掩膜板的厚度相近，所述辅助区中设置有多个辅助孔，所述多个辅助孔的孔深均小于所述多个蒸镀孔的孔深。
[0017]可选的，在所述的金属掩膜板中，所述辅助区的内侧边缘与其对应的蒸镀区的边缘重合，在所述子掩膜板的长度方向上，所述辅助区的内侧边缘与外侧边缘之间的距离在1.5mm以上。
[0018]可选的，在所述的金属掩膜板中，在所述子掩膜板的长度方向上，所述辅助区的内侧边缘与外侧边缘之间的距离在2mm以上。
[0019]可选的，在所述的金属掩膜板中，所述多个辅助孔的外形尺寸与所述多个蒸镀孔相同或相近，所述多个辅助孔的间距和排布方式均与所述多个蒸镀孔相同。
[0020]可选的，在所述的金属掩膜板中，还包括：掩膜板框架、遮盖板和支撑板；
[0021]所述掩膜板主体设置于所述遮盖板与所述支撑板之间，且所述掩膜板主体、遮盖板与支撑板均与所述掩膜板框架固定连接；
[0022]所述支撑板包括多个平行设置的支撑条，每个蒸镀区在所述支撑板上的正投影位于相邻的支撑条之间；
[0023]所述遮盖板包括多个平行设置的遮盖条，每个蒸镀区在所述遮盖板上的正投影位于相邻的遮盖条之间。
[0024]在本专利技术提供的金属掩膜板中，通过在相邻的蒸镀孔之间设置遮挡结构以控制蒸镀区的厚度，使得蒸镀角得以缩小，由此提高了蒸镀膜层的有效膜宽，进一步的，通过增大蒸镀区外围的辅助区的宽度，能够避免应力集中在蒸镀区的边缘，进而避免蒸镀异常问题。
附图说明
[0025]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1示出了本专利技术实施例的金属掩膜板的俯视图；
[0027]图2示出了本专利技术实施例的子掩膜板的结构示意图；
[0028]图3示出了本专利技术实施例的蒸镀孔的剖面图；
[0029]图4示出了本专利技术实施例的蒸镀孔的仰视图；
[0030]图5至图8示出了本专利技术其他实施例的蒸镀孔的仰视图；
[0031]图9示出了本专利技术实施例的蒸镀区和辅助区的结构示意图；
[0032]图10至图11示出了本专利技术其他实施例的子掩膜板的结构示意图；
[0033]图12示出了本专利技术实施例的金属掩膜板在蒸镀时的结构示意图。
具体实施方式
[0034]现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本申请将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。
[0035]请结合参考图1至图4，其为本专利技术实施例的金属掩膜板的结构示意图。如图1至图4所示，所述金属掩膜板100包括：掩膜板主体；所述掩膜板主体包括至少一个子掩膜板10，所述子掩膜板10中设置有多个蒸镀区11，每个蒸镀区11中设置有多个本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属掩膜板，其特征在于，包括：掩膜板主体；所述掩膜板主体包括至少一个子掩膜板，所述子掩膜板设置有多个蒸镀区，每个蒸镀区中均设置有多个蒸镀孔，所述多个蒸镀孔呈阵列方式排列；所述子掩膜板具有相对设置的玻璃面和蒸镀面，每个蒸镀孔均包括一凹槽和一弧形槽，所述凹槽与所述弧形槽均沿着所述子掩膜板的厚度方向设置且相互连通，所述凹槽的一端与所述玻璃面齐平，任意相邻的蒸镀孔之间均设置有遮挡结构，所述遮挡结构的顶面与所述玻璃面齐平，所述遮挡结构的侧面分别构成所述凹槽与所述弧形槽的侧壁；其中，所述遮挡结构的厚度方向与所述子掩膜板的厚度方向一致，且所述遮挡结构的厚度小于所述子掩膜板的厚度；所述弧形槽的中心截面包括第一弧线和第三弧线，所述第三弧线与所述遮挡结构的侧面重合，所述第三弧线与所述第一弧线的弧度相同且圆心位置重合。2.如权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述遮挡结构的截面为轴对称结构。3.如权利要求2所述的金属掩膜板，其特征在于，所述遮挡结构的侧面沿其延伸方向收缩于一端点，所述端点位于所述轴对称结构的对称轴上，所述端点与所述玻璃面的距离是所述遮挡结构的厚度。4.如权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述子掩膜板的厚度为30微米，所述遮挡结构的厚度在15微米到30微米之间。5.如权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述第一弧线的两端的连线与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：樊春雷，王广成，郑庆靓，段雪波，屈晓娟，刘通，
申请(专利权)人：上海和辉光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：