反光镜制备方法技术

本申请涉及反光镜技术领域，提供反光镜制备方法，用于得到反光镜面，反光镜制备方法包括：将金属原料制备出具有反光部分的反光镜加工件；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对反光部分进行抛光，得到镜状光泽面；在镜状光泽面镀镍层；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对镍层进行抛光，得到反光面；在反光面镀反光膜，得到反光镜面。该反光镜制备方法通过对反光镜加工件的反光部分，采用目数逐渐增加的抛光结构依次进行抛光，使得能够提高加工效率，且抛光面的光洁度能够得以保证，提高了反光镜的反光效果。效果。效果。

【技术实现步骤摘要】
反光镜制备方法


[0001]本申请涉及反光镜
，具体涉及反光镜制备方法。

技术介绍

[0002]在相关现有技术中，大多数反光镜都包括镜体，在制备镜体后，对镜体的反光部分进行抛光而得到反光镜面。通常的做法是，采用抛光结构，例如抛光轮，对金属抛光面进行抛光直接得到反光镜面，通常只适用于平面的反光面。单一的抛光方法，反光镜面的光洁度不够理想，且不能应用于非平面金属反光镜的加工。
[0003]申请内容
[0004]有鉴于此，本申请的第一方面的目的在于提供一种反光镜制备方法，解决或改善
技术介绍
中存在的反光镜面的光洁度不够理想的技术问题。
[0005]本申请第一方面提供的反光镜制备方法，所述反光镜制备方法包括：将金属原料制备出具有反光部分的反光镜加工件；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述反光部分进行抛光，得到镜状光泽面；在所述镜状光泽面镀镍层；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面；在所述反光面镀反光膜，得到所述反光镜面。
[0006]本申请的第一方面提供的反光镜制备方法，通过对反光镜加工件的反光部分，采用目数逐渐增加的抛光结构依次进行抛光，使得能够提高加工效率，且抛光面的光洁度能够得以保证，提高了反光镜的反光效果。
[0007]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述反光部分进行抛光，得到镜状光泽面，具体包括：采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到至暗光泽面；采用10000目及以下的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面。
[0008]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到至暗光泽面，具体包括：采用500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面；采用1500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述粗反光面抛光至所述暗光泽面。
[0009]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面，具体包括：采用500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到所述粗反光面；或依次采用100目、300目和500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到所述粗反光面。
[0010]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，采用1500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构将所述粗反光面抛光至所述暗光泽面，具体包括：依次采用1000目、1500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述粗反光面进行抛光，得到所述暗光泽面；或依次采用800目、1000目、1200目和1500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结
构对所述粗反光面进行抛光，得到所述至暗光泽面。
[0011]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用10000目及以下的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面，具体包括：依次采用3000目、6000目和10000目的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面。
[0012]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面，具体包括：采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构将所述镍层抛光至所述暗光泽面；采用10000目及以下的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面；采用50000目及以下的所述第二抛光结构对所述镜状光泽面进行抛光，得到所述反光面。
[0013]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述采用50000目及以下的所述第二抛光结构对所述镜状光泽面进行抛光，得到所述反光面，具体包括：依次采用20000目、30000目和50000目的所述第二抛光结构对所述镜状光泽面进行抛光，得到所述反光面。
[0014]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述第一抛光结构为砂纸、百洁布或尼龙抛光轮，所述第二抛光结构包括抛光头和膏状或悬浮液，所述抛光头具有凸球面或凹球面，所述膏状或悬浮液涂覆于所述凹球面或所述凸球面。
[0015]结合第一方面，在一种可能的实现方式中，所述反光镜制备方法还包括：在所述反光面及所述反光镜加工件的其它面，采用物理气相沉积的方法沉积一层厚度不超过1微米的二氧化硅保护层。
附图说明
[0016]图1所示为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的流程图。
[0017]图2所示为图1所示的本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的采用目数逐渐增加的抛光结构依次对反光部分进行抛光，得到镜状光泽面的流程图。
[0018]图3所示为图2所示的本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对加工刀纹进行抛光，得到至暗光泽面的流程图。
[0019]图4所示为图1所示的本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面的流程图。
[0020]图5所示为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的具有凸球面的抛光头的结构示意图。
[0021]图6所示为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的具有凹球面的抛光头的结构示意图。
[0022]图7所示为为本申请一些实现方式提供的反光镜制备方法的反光膜的反射光谱图。
具体实施方式
[0023]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0024]申请概述
[0025]为了解决
技术介绍
中存在的对反光镜体的反光部分一次性抛光，导致反光镜面的光洁度不够理想的技术问题，可以采用目数更多的抛光结构。但是，由于目数更多，抛光的难度更大，因此会费时费力，降低抛光效率。另外，抛光、镀反光膜都是常规制造反光面的方法，但是，单一的或两种结合的方法不是金属材料，无法达到需要的反光率水平。
[0026]针对上述的技术问题，本申请的基本构思是提出一种反光镜制备方法。将反光镜制备方法拆分为两层：第一层采用不同目数的抛光结构依次对反光部分进行抛光，既可以提高效率，又能保证光洁度；第二层镀镍层同样采用分级抛光的方式，进一步提高效率和保证光洁度。
[0027]需要说明的是，本申请所提供的反光镜制备方法可以应用于任何场景下的反光镜。具体而言，机械结构的设计目的是要完成具体的工作任务，完成工作任务的方式为通过对应的机械结构或机械结构中的部分或全部组件以完成具体的机械动作或信息传递。
[0028]在介绍了本申请的基本原理之后，下面将参考本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反光镜制备方法，其特征在于，所述反光镜制备方法包括：将金属原料制备出具有反光部分的反光镜加工件；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述反光部分进行抛光，得到镜状光泽面；在所述镜状光泽面镀镍层；采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述镍层进行抛光，得到反光面；在所述反光面镀反光膜，得到反光镜面。2.根据权利要求1所述的反光镜制备方法，其特征在于，所述采用目数逐渐增加的抛光结构依次对所述反光部分进行抛光，得到镜状光泽面，具体包括：采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到至暗光泽面；采用10000目及以下的所述第二抛光结构对所述暗光泽面进行抛光，得到所述镜状光泽面。3.根据权利要求2所述的反光镜制备方法，其特征在于，所述采用1500目及以下的第一抛光结构或第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到至暗光泽面，具体包括：采用500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面；采用1500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述粗反光面抛光至所述暗光泽面。4.根据权利要求3所述的反光镜制备方法，其特征在于，所述采用500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述反光部分抛掉加工刀纹，得到粗反光面，具体包括：采用500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到所述粗反光面；或依次采用100目、300目和500目的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构对所述加工刀纹进行抛光，得到所述粗反光面。5.根据权利要求3所述的反光镜制备方法，其特征在于，采用1500目及以下的所述第一抛光结构或所述第二抛光结构将所述粗反光面抛光至所述暗光泽面，具体包括：依次采用1000目、1500目的所述第一抛光结构或所述第二抛...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨攀，邓剑军，
申请(专利权)人：劢析科学仪器苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：