用于激光伺服刻写的伯努利型柔性介质稳定法制造技术

本发明专利技术提供方法和装置来在激光伺服刻写介质上的光学伺服轨迹时稳定数据存贮介质（１１）。装置包括一个转轴（５０）用来在伺服刻写时转动介质，一个固定的介质平台（３０），以及一个介质支撑（６０）在伺服刻写时稳定介质的垂直位置。介质支撑可以包括通道（６２）来减少或控制在伺服刻写区域上形成空气承托，以便稳定介质的垂直位置。介质支撑还可以包括一个真空槽（１６６）以便通过通道抽取真空。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及数据存贮介质上的光伺服轨迹的激光伺服刻写领域。更具体地说，本专利技术涉及介质上光伺服轨迹的激光刻写时稳定柔性介质的装置和方法。数据存贮介质的激光伺服刻写涉及到加工介质的表面，以便在表面上产生不连续性，如槽或凹痕，它们可以被用作参考，以便允许在介质上存贮和/或读取信息的读/写机构进行光学定位。这种加工通常涉及材料的烧蚀或介质表面的改造，以便允许在介质的使用中精确控制读/写机构的定位。利用依照伺服刻写轨迹作为光学定位读/写机构的参照物，数据在介质上的贮存密度可以通过提供读/写机构的更精确的定位来增大。作为利用伺服刻写轨迹以提高存贮密度的数据存贮产品的一个例子，有明尼苏达州圣保罗市的Imation公司的LS-120 Super DiskTM。典型的激光伺服刻写装置，包括一个旋转托盘，介质被放在它的上面以便进行伺服刻写操作。这些伺服刻写系统在伺服刻写中，当光学系统相对于托盘径向移动时，会遇到托盘和激光光学系统之间的距离变化的问题。这些变化通常的幅度足以使介质的表面处于激光能量的焦深之外，造成伺服轨迹的深度和/或宽度的不同，这些会影响到光学的对比度。这些伺服轨迹的深度，宽度和/或光学对比度的不同会降低读/写机构定位的精度。因此，在激光伺服刻写系统中，需要有改进的方法和装置来稳定柔性介质的垂直位置，以便可靠生产高密度数据存贮产品。本专利技术提供了方法和装置，在介质上进行激光伺服刻写光学伺服轨迹时，稳定数据存贮介质。这个装置包括一个在伺服刻写中转动介质的转轴，一个固定的介质托盘，以及一个介质支撑用于在伺服刻写时稳定介质的垂直位置。本专利技术可以减少已知伺服刻写系统中的激光光学系统和介质表面之间距离误差的一种根源，即在转动平台和介质之间灰尘和碎片的夹带。这些灰尘和碎片的夹带通过使介质在固定的介质平台上旋转来减少，并且增加了对激光伺服刻写光学系统和介质之间距离的控制。这种控制造成更精确的光伺服轨道的定位和形成(即宽度和/或深度)，因此，增加了介质的数据存贮密度。另一个优点，是通过提供一个包括固定的或静止的介质托盘，使得伺服刻写器的周期时间，即用来完工一张盘片所需的时间，可以被减少，这是因为系统的质量转动惯量被减少了。这个减少使得利用相同尺寸的马达把介质加速到所需速度的时间相应降低，从而减少了周转时间。在一个方面，本专利技术提供了一个装置，介质上用激光伺服刻写光学伺服轨迹时稳定数据存贮介质；这个装置包括一个用于在伺服刻写时转动介质的转轴；一个固定的介质平台，以及一个用于在伺服刻写时稳定介质垂直位置的介质支撑。这个介质支撑可以包括孔道，或孔道和在其中形成的真空槽口，以便增强装置的功效。在另一个方面，本专利技术提供了一种方法，在介质上用激光伺服刻写光学伺服轨迹时稳定数据存贮介质；这个方法包括把介质安放在转轴上的步骤；利用使介质在一个固定的介质平台和介质支撑上转动来稳定介质的垂直位置；以及在介质上激光伺服刻写光学伺服轨迹。在一些方法中，这种介质支撑可以包括在其上形成的开口，在进一步的变种中，这些方法可以包括通过这些开口抽取真空。本专利技术的这些和其它的特性和优点在下面给以更详尽的说明。附图说明图1A是用于数据存贮的盘片的透视图。图1B是图1A的盘片的一个截面图。图2是一个装置的透视图，这个装置根据本专利技术在激光伺服刻写时对稳定柔性介质很有用。图3是图2装置的拆卸开口的组装图。图4是图2装置一个部位的截面图。图5是用于图2装置的一个罩盖的平面图。图6是图5的罩盖沿6-6线的放大的部分截面图。图7是根据本专利技术的一个介质支撑的平面图。图8是图7的介质支撑的一个侧视图。图9是图7的介质支撑的一个端视图。图10是利用本专利技术的方法进行测试的性能结果的曲线。图11是根据本专利技术的一个不同的介质支撑的顶部透视图。图12是图11的介质支撑的底部透视图。图13是图11的介质支撑在一个托盘中的示意图。图14是根据本专利技术制作的一个不同的激光伺服刻写装置的示意图。本专利技术提供了激光伺服刻写时稳定数据存贮介质的方法和装置。利用本专利技术，可以获得介质稳定的水平，以便允许更一致的光学伺服轨迹的激光伺服刻写。图1A是一张用于数据存贮的盘片10的透视图，图1B是这张盘片的截面图。盘片10包括一个柔性的介质部分11，它利用任何适当的机制，通常为粘接剂，固定在一个盘心12上。盘心12通常包括一个位于中心的开口14和一个第二开口16，这二个开口用于生产中精确地把盘片10定位在一个读/写装置或一个伺服刻写装置中。盘心12的最外部位包括一个法兰18，它与激光刻写装置的转轴相匹配(后面更加详细地说明)。在使用中，盘片10还典型地包括在图1A和1B中没有画出的一个外盒和其它防护结构。应当理解的是，在图1A和1B中描述的盘片仅作为举例，许多不同的包括柔性介质的盘片都可以用于根据本专利技术的方法和装置中。通常这些介质会包括一个圆形的柔性基片，在其至少一面上镀有磁性材料。本专利技术所采用的一种基片是对苯二甲酸聚乙烯膜，通常为62μm厚，以任何合适的方式固定在盘心上。图2是根据本专利技术的适用于在激光伺服刻写中稳定柔性介质的一个装置的透视图，图3是图2所示装置的分解的装配图。这个装置包括一个基座20，固定的(即非转动)介质平台30，以及罩盖40，一个转轴50通过基座20上表面伸出。基座20包括张力弹簧22，它们固定在介质平台30的底部以便把平台30对基座20定位。弹簧22的底端固定到基座20里提供的安装柱(没有画出)上。弹簧22的顶部被固定到介质平台30的底部，使平台30以弹性力作用在基座20上。应该理解的是，尽管所示为一个螺旋弹簧，任何弹性组件都可以来代替它以保持平台30相对于基座20的状态。多个调节螺钉32在装配时通过介质平台30上的孔34拧住并抵在基座20上。每一个螺钉32最好有一个圆滑的端，坐在基座20上的孔或其它凹下部24中，以便在螺钉32被拧动来调节平台30的高度时防止螺钉32和平台30的移动。弹簧22和调节螺钉32相配合，利用使平台30抵抗弹簧22的弹力离开基座20，允许平台30相对于基座20的高度可以被调节。因此，螺钉32和相应的弹簧22提供了一个机构，利用这个机构介质平台30可以被调整。介质平台30的调整也可以不用弹性组件来完成，例如用双螺帽的丝杆来代替每个弹簧22和调节螺钉32的组合。而且，可以理解，介质平台相对于基座20的固定的定位也可以被提供。介质平台30包括一个中心开口36，转轴50通过它伸出。介质平台30还包括一个形成在介质平台30上表面上的狭缝38。狭缝38被提供来接收一个介质支撑60(后面详述)。转轴50被提供来与盘片10的盘心12相配合，并且提供一个机构在介质平台30上与激光伺服刻写过程相同步地转动盘片10。转轴50包括一个中心销钉52和一个定位销54，它们分别与盘片10的盘心12里的开口14和16相配合。转轴50还包括一个盘心平台56，用于支持盘片10盘心12上的法兰18。作为选择，转轴50可以带有一个或多个磁铁58，用于以磁力吸引盘片10的盘心12。可以不同的是，转轴10本身的部分可以用磁性材料制造以便有磁力来吸引盘心12。转轴50可以连接到一个适当的装置(没有画出)以便被转动。用于转动转轴50的一个合适的机构是转动空气轴承，可以由空气轴承技术公司提供(型本文档来自技高网...

【技术保护点】
在激光伺服刻写介质上的光学伺服轨迹时稳定数据存贮介质（１１）的装置，这个装置包括：ａ）一个用于在伺服刻写时旋转介质的转轴（５０）；ｂ）一个固定的介质平台（３０）；以及ｃ）一个在伺服刻写时稳定介质垂直位置的介质支撑（６０）。

【技术特征摘要】
US 1996-6-12 08/662,144;US 1997-6-3 08/868,3021．在激光伺服刻写介质上的光学伺服轨迹时稳定数据存贮介质(11)的装置，这个装置包括a)一个用于在伺服刻写时旋转介质的转轴(50)；b)一个固定的介质平台(30)；以及c)一个在伺服刻写时稳定介质垂直位置的介质支撑(60)。2．在激光伺服刻写介质上的光学伺服轨迹时稳定数据存贮介质(11)的方法，这个方法包括步骤a)把介质(11)放到转轴(50)上；b)利用在固定的介质平台(30)和介质支撑(60)上旋转介质来稳定介质的垂直位置；以及c)在介质上激光伺服刻写光学伺服轨迹。3．根据权利要求1的装置或权利要求2的方法，其特征在于介质支撑位于介质平台上形成的狭缝(38)里。4．根据权利要求3的装置或方法，其特征在于以切线方向测量的狭缝的宽度，大于以切线方向测量的介质支撑的宽度。5．根据权利要求1-4的装置或方法，其特征在于介质支撑以径向从转轴向外延伸。6．根据权利要求1-5的装置或方法，其特征在于介质支撑包括一个有一个冠顶的上表面，冠顶被...

【专利技术属性】
技术研发人员：詹姆斯K克努森，莱斯利M米尔纳，丹尼尔P斯塔布斯，马克P卢布莱特，大卫M佩里，伊斯雷尔楚尔，阿恩B博贝格，罗伯特S杰克逊，布赖恩K帕利亚门特，
申请(专利权)人：伊美申公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]