偏心量检测装置制造方法及图纸

提供一种光记录介质及使用该光记录介质的偏心量检测装置，该光记录介质可正确检出照射于光记录介质的光点与光记录介质在径向的相对位移量即偏心量。光记录介质上，多（Ｎ）个由第一偏摆痕２１１与第二偏摆痕２１２构成的伺服区１１３和多（Ｎ）个进行信息的记录与再现的数据区在环向上交互配置；伺服区由第一偏摆痕与第二偏摆痕之间的环向间隔不同的多个伺服图案区２１０ａ～２１０ｃ在径向上配置而成，多个伺服图案区各自所包含的纹道数相等且小于Ｎ／（２×π）。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及利用光进行数据的记录与再现的光记录介质，以及使用该光记录介质的偏心量检测装置。以下，参照附图说明一例传统的光记录介质。图23中示意表示一例传统的传统的光记录介质。如图23所示，传统的光记录介质1401上沿螺旋状纹道中心线1402(图23只表示了一部分)形成伺服区1403和数据区1404。图24所示为图23中的伺服区1403和数据区1404的结构。图24中，伺服区1403上分别以预定的间隔形成时标痕(clock mark)1501、第一偏摆痕(wobble mark)1502与第二偏摆痕1503。并且，在数据区1404中，信息基本上记录于纹道的中心线1402上。时标痕1501用于生成同步时钟信号，该同步时钟信号用于再现记录在第一偏摆痕1502、第二偏摆痕1503与数据区1404的信息。其中，纹道中心线1402表示连续地连接时标痕1501中心的假想线。第一偏摆痕1502与第二偏摆痕1503相对纹道中心线1402在径向上的以预定的距离相互反向偏离的位置形成，用以检测对应于照射在光记录介质1401上的光点离纹道中心线1402的偏离位置的跟踪误差信号。如光点偏离纹道中心线1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光记录介质，其特征在于：其环向上设有多（Ｎ）个伺服区，其径向上设有各自有不同图案的多个伺服图案区，所述多个伺服图案区各自包含的纹道数相等且小于Ｎ／（２×π）（此处，π表示圆周率）。

【技术特征摘要】
JP 2000-8-31 263052/001.一种光记录介质，其特征在于其环向上设有多(N)个伺服区，其径向上设有各自有不同图案的多个伺服图案区，所述多个伺服图案区各自包含的纹道数相等且小于N/(2×π)(此处，π表示圆周率)。2.一种其环向上多(N)个由时标痕、第一偏摆痕与第二偏摆痕构成的伺服区和多(N)个进行信息的记录与再现的数据区交互设置的光记录介质，其特征在于所述伺服区是由所述时标痕与所述第一偏摆痕之间的环向间，和所述时标痕与所述第二偏摆痕之间的环向间隔不同的多个伺服图案区在径向上配置而成，所述多个伺服图案区各自包含的纹道数相等且小于N/(2×π)(此处，π表示圆周率)。3.一种其环向上多(N)个由第一偏摆痕与第二偏摆痕构成的伺服区和多(N)个进行信息的记录与再现的数据区交互设置的光记录介质，其特征在于所述伺服区由所述第一偏摆痕与第二偏摆痕之间的环向间隔不同的多个伺服图案区在其径向上配置而成，而所述多个伺服图案区各自包含的纹道数相等且小于N/(2×π)(此处，π表示圆周率)。4.如权利要求2或3所述的光记录介质，其特征在于所述伺服区的环向上的长度大致固定，不取决于光盘上的径向位置。5.如权利要求2所述的光记录介质，其特征在于在所述多个伺服图案区中的相邻伺服图案区之间，所述时标痕与所述第一偏摆痕之间的环向间隔和所述时标痕与所述第二偏摆痕之间的环向间隔中有一方大致相等。6.如权利要求2所述的光记录介质，其特征在于所述多个伺服图案区由第一伺服图案区、第二伺服图案区、第三伺服图案区与第四伺服图案区组成；所述第一伺服图案区和所述第二伺服图案区之间，所述时标痕与所述第一偏摆痕之间的环向距离大致相等；所述第二伺服图案区和所述第三伺服图案区之间，所述时标痕与所述第二偏摆痕之间的环向距离大致相等；所述第三伺服图案区和所述第四伺服图案区之间，所述时标痕与所述第一偏摆痕之间的环向距离大致相等；所述第四伺服图案区和所述第一伺服图案区之间，所述时标痕与所述第二偏摆痕之间的环向距离大致相等。7.一种使用各自有不同图案的多个伺服图案区在径向上配置而成的、所述多个伺服图案区各自包含的纹道数相等且小于N/(2×π)(此处，π表示圆周率)的光记录介质的偏心量检测装置，其特征在于包括检出来自所述光记录介质的反射光的传感部分；基于所述传感部分的检测信号，检出所述光记录介质面上与由物镜聚焦的光点之间在半径方向上的相对移动方向，并作为方向检测信号输出的方向检测部分；基于所述传感部分的检测信号和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：上田英司，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]