当前位置: 首页 > 专利查询>索尼公司专利>正文

光记录介质制造技术

技术编号:3063637 阅读:161 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种具有螺旋形或者同心圆轨道的光记录介质,可以用于光学记录。这种光记录介质包括一个数据记录和再现区域,该区域在径向被分成多个区。一个区又分成许多扇区,各自有一个包括含有地址信息的凹坑的地址部分,和一个只由沟槽组成的数据部分。组成每个区的扇区数目是不同的。光盘制作得使得地址部分的平均反射系数Iadd和数据部分的平均反射系数Idata满足关系式0.7≤(Iadd/Idata)≤1.3或者0.8≤(Iadd/Idata)≤1.2。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于使用激光束记录和再现数据的光记录介质,更具体地讲,涉及这样一种光记录介质,在其中,地址区域在径向间隔分布,通过一种被称之为分区法的技术,光盘的存储容量得到改进。
技术介绍
为了通过有效使用光盘上的记录区增加存储容量,迄今一直使用一种被称为分区法的方法。在这种方法中,用于记录和再现数据的基准记录频率对例如以恒定的角速度旋转的光盘上的每个半径进行转换以使整个光盘表面具有基本相同的记录密度。例如,在ISO/IEC14517(130mm4x),ISO/IEC15286(130Mm8x),ISO/IEC15041(90mm5x)或者类似磁光ISO标准的磁光盘中,通过使用这种方法光盘存储容量得到了提高。也就是,如图1所示,数据记录和再现区域在径向被分成许多区。因为在这些区中记录和再现数据的频率都各不相同,所以每一圈的扇区数目是变化的。因此,一个地址区部分地显示出附图标记1a所示的每一条半径的放射状。此外,磁光在磁光记录光盘中,在提供给用户之前,将记录膜的磁化方向设置为规定的方向。也就是说,执行了被称为极化的操作,对于盘片施加大于记录层矫顽力的静磁场,强迫记录层的磁化方向对准消磁方向。,通常,当被极化的记录层具有低于0.8×106A.m(A.m是磁场强度的国际单位)的矫顽力时,记录层可以用低强度的磁场,比如磁石,极化。然而,当具有不低于1.19×106到1.59×106A.m矫顽力的记录层被极化时,记录层的温度上升,导致矫顽力降低。为了极化记录层,应使用不高于0.8×106A.m的低强度的静磁场。此外,对相变型光盘,在提供给用户之前,要对光盘施加晶化记录膜整个表面的操作。也就是,记录膜的温度上升到规定的温度,或者更高,然后逐渐冷却记录膜。这样,光盘被初始化,从一个被称为Ad-depo的状态,即记录膜形成后的晶体和无定形的混合态,到完全晶体化状态。在这样一个初始化过程中,为了极化并晶化记录膜,具有很宽范围,比如好几百个轨道的记录膜的温度同时升高。这种方法被称为整体擦除。在整体擦除方法中,一个1到2瓦的半导体激光器被限制为在光盘的径向具有主轴的尺寸为10μm或者更长的椭圆光束。旋转的盘片被激光照射,激光束仅聚焦于记录膜,用来提升记录膜的温度。以上描述的激光束如图2所示设计,将从激光器5发出的一输出光束从旋转光盘的阅读表面6穿过树脂基片7聚焦到记录膜8上。上述整体擦除方法不仅有初始化记录层的目的,而且具有通过预先取得在介质重复使用中产生的再现灵敏度或者记录灵敏度,在用户使用介质的过程中抑制灵敏性变化(灵敏性偏移)的效果。之所以认为这个操作应该进行,是因为对记录膜施加热能,以便预先松弛非晶形的记录层中的原子并稳定记录膜。作为整体擦除的参数,可以列举出旋转速度或者盘片的线速度,激光斑点的径向进给量,激光功率,激光束的宽度等等。这些参数可以很容易被控制,以便通过设置合适的整体擦除条件,可以以稳定的方式产生极化或者初始化,以及灵敏性移动。因此,整体擦除方法是很有效的。为了进行灵敏性移动和极化,当本专利技术的专利技术者对一个磁光记录介质运行一项整体擦除的测试时,他们发现了下面的问题。具体地讲,对光盘进行了充分产生规定灵敏性移动的整体擦除处理。对在径向被分区的和具有由分别在图1所示的区中在径向设置的压刻凹坑所表达的地址的光盘施加整体擦除处理以便充分产生规定灵敏性移动。而后,他们在区的边界处观测到跟踪误差。因而,分辨出存在一个跟踪误差增加的区域,如图3的信号波形所示。图3示出,其整个表面经过整体擦除处理的光盘上从区边界算起的10个轨道的一个位置中的一个地址信号和一个跟踪误差信号之间的的关系。(a)表示地址信号,(b)表示跟踪误差信号,(c)表示地址信号(a)中区域的F放大的部分,(d)表示跟踪误差信号(b)中区域F的放大的部分。此外,在图中,E表示轨道跳跃信号,G表示区域F中放大的地址,H表示跟踪误差增加的部分。在图3的测量条件中包括线速度(CLV)为7.5m/s,激光功率为1.5mW,盘片直径为86mm,测量位置R为40mm,以及一个其上施加了跟踪的沟槽间平面部分。如在图3所分辨出的那样,图3中的跟踪误差的增加部分H不受地址G的影响,并且与该跟踪误差的增加部分前的一个区域10个轨道中存在的地址具有相同的位置关系。被10条轨道分割的地址从此对该跟踪误差产生任何可能的影响。轨道错误增加部分H的轨道错误增加量,高达轨道跳跃信号E幅度的17%。另外还观察到这个现象从区边界扩散至几百个轨道。但是,驱动器(光盘驱动系统)将跟踪误差的增加区域认为是有缺陷区域,并执行替换程序。因此形成在其中存在极多的被替换的扇区的光盘。在不进行整体擦除处理时,上述跟踪误差增加现象就不会发生。然而,在不进行整体擦除处理时,当用户使用光盘时,记录灵敏度会改变。因而,执行最优的记录和再现操作不会产生误差。此外,可以建议这样一种方法,即使用一个驱动器或者类似装置通过一种用于记录和使每一个轨道消磁的方法产生灵敏移动。然而,根据这种方法,同一个轨道需要被记录和消磁许多次。因此需要非常多的时间,使得该方法不是一种现实的方法。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种光记录介质,在这种介质里,施行了极化或者晶体化,以及由整体擦除程序规定的灵敏度偏移。在区边界附近跟踪误差的增加可以被抑制,结果使得生产成本得到抑制,并且实现高质量。根据本专利技术的光记录介质具有螺旋形或者同心圆形的轨道,并且可以用光学方法记录。这种光记录介质包括一个在径向被划分为多个区的记录数据和再现数据的区域。一个区被划分成多个扇区,这些扇区分别具有一个地址区域和一个数据区域。地址区域包括含有地址信息的凹坑,数据区域只由沟槽组成并能够记录和再现数据,而且组成每个区的扇区数目是不同的。光记录介质中地址区的反射光的平均量Iemboss和数据区的反射光的平均量Idata满足关系式0.7≤(Iemboss/Idata)≤1.3。此外,依照本专利技术的光记录介质具有螺旋形或者同心圆形的轨道,能用于光学记录。这种光记录介质包括一个在径向被划分成多个区的数据记录和再现区域。一个区被划分成多个扇区,每个扇区分别具有一个地址区域和一个数据区域。地址区域包括含有地址信息的凹坑,数据区域只由沟槽组成并能够记录和再现数据。而且组成每个区的扇区数目是不同的。光记录介质中地址区的反射光的平均量Iemboss和数据区的反射光的平均量Idata满足关系式0.8≤(Iemboss/Idata)≤1.2。此外,依照本专利技术的光记录介质能够同时在沟槽间平面和沟槽上记录数据,在光记录介质上,沟槽形成在邻近于沟槽轨道地址区域的平面轨道上。此外,依照本专利技术的光记录介质,其中光记录介质利用包括使用激光束照射记录膜的方法制造,该激光束直径比轨距长,以便提高记录膜的温度。此外,依据本专利技术的光记录介质,其中地址区域的光反射平均量Iemboss和数据区域的光反射平均量Idata满足关系式0.7≤(Iemboss/Idata)≤1.3。此外,依据本专利技术的光记录介质,其中地址区域的光反射平均量Iemboss和数据区域的光反射平均量Idata满足关系式0.8≤(Iemboss/Idata)≤1.2。此外,依据本专利技术的光记录介质,其中使用磁光记录膜制造光记录介质。此本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一种光记录介质,具有螺旋形或者同心圆轨道并且可用于光学记录,该光记录介质包括一个数据记录和再现区域,该区域在径向被分成多个区,一个区又分成多个扇区,每个扇区分别具有一个包括含有地址信息的凹坑的地址部分,和一个只由沟槽组成的并且能够记录和再现数据的数据部分,组成每个区的扇区数目是不同的,其中地址部分的平均反射光量Iemboss和数据部分的平均反射光量Idata满足关系式0.7≤(Iemboss/Idata)≤1.3。

【技术特征摘要】
JP 2001-6-22 189087/20011.一种光记录介质,具有螺旋形或者同心圆轨道并且可用于光学记录,该光记录介质包括一个数据记录和再现区域,该区域在径向被分成多个区,一个区又分成多个扇区,每个扇区分别具有一个包括含有地址信息的凹坑的地址部分,和一个只由沟槽组成的并且能够记录和再现数据的数据部分,组成每个区的扇区数目是不同的,其中地址部分的平均反射光量Iemboss和数据部分的平均反射光量Idata满足关系式0.7≤(Iemboss/Idata)≤1.3。2.一种光记录介质,具有螺旋形或者同心圆轨道并且可用于光学记录,该光记录介质包括一个数据记录和再现区域,该区域在径向被分成多个区。一个区又分成多个扇区,每个扇区分别具有一个包括含有地址信息凹坑的地址部分,和一个只由沟槽组成的并且能够记录和再现数据的数据部分,组成每个区的扇区数目是不同的。其中地址部分的平均反射光量Iemboss和数据部分的平均反射光量Idata满足关系式0.8≤(Iemboss/Idata)≤1.2。3.一种光记录介质,能在沟槽间平面和沟槽上记录数据,其中沟槽形成在与沟槽轨道的地址部分相邻的沟槽间平面轨道中。4.根据权利要求1所述的光记录介质,其中光记录介质利用这样一种工艺制造,该工艺包括用光束直径大于轨道间距的激光束照射记录膜以提高记录膜的温度的制作工艺。5.根据权利要求2所述的光记录介质,其中光记录介质利用这样一种工艺制造,该工艺包括用光束直径大于轨道间距的激光束照射记录膜以提高记录膜的温度的制作工艺。6.根据权利要求3...

【专利技术属性】
技术研发人员:中山比吕史竹内厚有马光雄
申请(专利权)人:索尼公司
类型:发明
国别省市:JP[日本]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1