具有焦距偏移区域的光盘制造技术

一种通过在记录层上的轨迹中写入标记来记录信息的记录载体。用于记录信息的最短标记的长度等于预定最小数ｄ个的通道位长度。记录载体（１１）具有预刻沟槽，此预刻沟槽由包含长标记（１８，１９）的载体图案进行调制，该长标记（１８，１９）在记录层的预定位置处提供调焦区域（１２）。长标记的长度至少是最短标记长度的２倍，并基本上长于扫描点的有效直径。扫描设备定位调焦区域并在扫描载体图案时通过检测出最大的读出信号幅值来确定出最佳的焦距偏移。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种通过在轨迹中写入标记来记录信息的可写型记录载体。本专利技术进一步涉及一种用于扫描这种记录载体的装置。
技术介绍
US专利申请US 2002/0150005描述了一种记录载体，它包括通常称为预刻沟槽的引导槽，用于指示通过光学上记录可读标记能够以预定方式在其中显示信息的轨迹的位置。预刻沟槽通过周期性地偏离轨迹沿横向弯曲轨迹(进一步称作摆动)。根据附加信息例如地址，摆动呈周期性变化。相应的扫描装置具有辅助检测器，用于根据摆动生成跟踪伺服信号以检测头相对于轨迹的空间偏差。跟踪伺服信号用于控制执行器使头在轨迹中定位。检测出摆动周期的变化以便获得辅助信息，例如地址信息。为了使束聚焦，该装置通过读取配备有预生成的数据模式的调焦区域来实现焦距调节功能。根据扫描数据模式期间读出信号的误差率或抖动值来对伺服偏移进行调节。预生成的数据模式必须在记录载体制做期间加到记录载体上。由于这种预生成的数据模式不同于预刻沟槽，所以需要有另外的制做步骤。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供一种记录载体和一种扫描装置，用于调节扫描束的焦距，该扫描束不需要预先生成的数据模式来调节焦距偏移(focus offset)。根据本专利技术的第一个方面，本专利技术的目的由一种可写型的记录载体来实现，该记录载体利用射入记录载体入口面的辐射束在记录层的轨迹上写入标记并在轨迹上形成具有有效直径的扫描点来记录信息，标记的长度相应于整数个的通道位长度T，最短标记的长度为利用具有所述有效直径的扫描点可检测的预定最小数d个的通道位长度，记录层包括用于表示轨迹的预刻沟槽，此预刻沟槽呈摆动，此摆动是通过预刻沟槽沿着轨迹纵向的横截方向偏移而形成的，并且该预刻沟槽包括预刻沟槽区域的深度和/或宽度的预刻沟槽调制，以形成包含长标记的载体图案，长标记的长度至少是预定最小数d个的通道位长度T的2倍，基本上长于扫描点的有效直径，以及在记录层的预定位置上形成调焦区域的载体图案。根据本专利技术的第二方面，本专利技术的目的是利用辐射束对上述记录载体上的轨迹进行扫描的设备来实现，该设备包括用于提供辐射束的头，使辐射束在轨迹上聚焦从而形成所述扫描点的聚焦伺服装置，用于生成检测轨迹中标记的扫描信号的前端单元，和用于确定聚焦区域的位置并用于根据在扫描调焦区域期间根据归因于载体图案的扫描信号的幅值来调节聚焦伺服装置的焦距调节单元。这样的优点是在制做记录载体期间使用产生预刻沟槽已使用的同样的步骤来产生载体图案。在载体图案中包括长标记的效果是基于扫描信号的最大幅值检测出的焦距偏移，该扫描信号的最大幅值基本上对应于最佳的焦距偏移。长标记基本上长于扫描点的有效直径，该有效直径对于从至少预定的最小尺寸中读出标记是有效的，通常被定义为辐射强度在其峰值以下50％处的直径。同样，本专利技术还基于以下的认识。在高密度光学记录中，通常利用焦距偏移来改进读出信号，例如由于记录层非理想深度位置引起的．光学象差效果可削弱上述功能。抖动(jitter)通常已知是在利用不同的标记长度根据通道编码读出表示用户数据的标记期间出现误差的指示器。因此，当得到数据模式时可以测出抖动。而专利技术人考虑到可以忽略预写的数据模式并采用预刻沟槽调制来提供调焦图案。预刻沟槽调制的读出信号的幅值和质量被证实为较低。因此抖动测量是不实际的。还有一个令人吃惊的发现就是推挽信号的最大值(通常从预刻沟槽中检测出来用于使头在轨迹上以正确的焦距定位)与最佳的焦距偏移不一致。专利技术人看到，当在预刻沟槽调制图案中采用幅值测量来确定焦距偏移时，最大幅值不必与最佳偏移值一致。特别地，当使用短标记时，发现最大幅值和最佳焦距有偏差。因此，载体图案包括足够的长标记以检测由长标记引起的幅值。在一个实施例中，记录载体包括至少第一记录层和第二记录层，第一记录层位于离入射面较第二记录层离入射面近的位置，每一记录层都有调焦图案。其优点是每层的焦距偏移都可以利用各自的调焦图案进行调节。特别地，通过使由包含长标记的载体图案引起的信号的幅值最大化可以校正来自聚焦外的的杂散光的影响。在记录载体实施例中，载体图案基本上仅包括所述长标记。这种载体图案主要由长标记构成，即图案有至少50％的标记长于扫描点的有效直径。其优点是，这种载体图案能够提供与最佳焦距偏移相应的最大的信号幅值。应注意，欧洲专利申请EP1136988描述了一种光学记录媒介，包括调焦区域中标记的调焦测试图案。特别地，测试图案由短标记构成，例如2T或3T。用户数据利用一个运行长度限制码例如RLL(1，7)码来进行记录，其中相同信号值的至少1和至多7个通道位在信号变换之间，从而导致标记为2到8通道位长(2T-8T)。为使扫描束聚焦，设备执行焦距调节功能，并且通过读出焦距测试图案从而确定出焦距偏移。焦距伺服增益的调节是根据在不同的读出焦距偏移上读出信号的幅值差来确定的。在本专利技术中调焦区域的载体图案由包含所述长标记的预刻沟槽调制来构成。根据本专利技术的设备的进一步优选实施例在之后的权利要求书中给出。在下面描述中参考借助实例所描述的实施例并且参照附图，本专利技术的这些以及其他方面将显而易见并且进一步说明了本专利技术的这些以及其他方面。其中附图说明图1a示出了盘形记录载体；图1b示出了记录载体的剖面图；图1c示出了轨迹摆动的实例；图1d示出了通过宽度的变化来进行预刻沟槽调制的摆动；图1e示出了通过深度的变化来进行预刻沟槽调制的摆动；图2示出了具有焦距调节的扫描设备；图3示出了多层光盘；图4示出了焦距误差信号S曲线；图5示出了多层光盘和杂散光；图6示出了检测器上的反射光；图7示出了焦距误差信号S曲线以及焦距偏移；图8示出了双层盘的抖动值； 图9示出了作为双层盘的L1层焦距偏移函数的读出信号；图10示出了作为双层盘的L1层焦距偏移函数的抖动。在图中，已经描述过的同样的元件用相同的参考标记。具体实施例方式图1a示出了具有轨迹9和中心孔10的盘形记录载体11。轨迹9是按照多圈螺旋方式排列的，在信息层上基本上构成平行的轨迹。记录载体可以是具有可记录型信息层的光盘。可记录盘的实例有CD-R、CD-RW和DVD+RW。在可记录型记录载体上的轨迹9由空白记录载体制做期间设置的预压轨迹结构表示，例如预刻沟槽(pregroove)。记录的信息通过沿轨迹记录的光学上可测的标记表示在信息层上。标记由第一物理参数的变化构成，并且与其周围环境相比，这些标记具有不同的光学特性，例如反射性能变化。图1b是沿着可记录型记录载体11的b-b线剖开的剖面图，其中透明衬底15上设置有记录层16和保护层17。轨迹结构例如由预刻沟槽14构成，预刻沟槽14能够使读/写头在扫描期间沿轨迹9运行。预刻沟槽14可以做成凹入的或者可以做成凸出的，或者由具有不同光学特性的材料组成，该材料不同于预刻沟槽材料。预刻沟槽能够使读/写头在扫描期间沿着轨迹9运行。轨迹结构也可以由规则展开地、周期性地产生伺服信号的子-轨迹来形成。记录载体可用于携带实时信息例如视频或音频信息或其他信息例如计算机数据。图1c示出了轨迹摆动的实例。该图示出了轨迹横向位置的周期性变化，也称作摆动。该变化导致在辅助检测器例如在由在扫描装置的头的中心位置处的部分检测器产生的推挽通道中出现附加信号。摆动例如是频率调制的，在调制中对位置信息进行编码本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可写型的记录载体，用于通过射入记录载体入射面的辐射束在记录层的轨迹上写入标记并在轨迹上形成具有有效直径的扫描点来记录信息，－标记的长度相应于整数个的通道位长度Ｔ，最短标记的长度为通过具有所述有效直径的扫描点可检测的预定最小数ｄ个 的通道位长度，－记录层包括用于表示轨迹的预刻沟槽（１４），此预刻沟槽呈现摆动，此摆动是通过预刻沟槽沿着轨迹纵向的横截方向偏移而形成的，该预刻沟槽包括预刻沟槽区域的深度和／或宽度的预刻沟槽调制，以形成包含长标记（１８，１９）的载体图案 ，长标记的长度至少是预定最小数ｄ个的通道位长度Ｔ的２倍，基本上长于扫描点的有效直径，以及在记录层的预定位置上形成调焦区域（１２）的载体图案。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2003-3-24 03100751.11.一种可写型的记录载体，用于通过射入记录载体入射面的辐射束在记录层的轨迹上写入标记并在轨迹上形成具有有效直径的扫描点来记录信息，-标记的长度相应于整数个的通道位长度T，最短标记的长度为通过具有所述有效直径的扫描点可检测的预定最小数d个的通道位长度，-记录层包括用于表示轨迹的预刻沟槽(14)，此预刻沟槽呈现摆动，此摆动是通过预刻沟槽沿着轨迹纵向的横截方向偏移而形成的，该预刻沟槽包括预刻沟槽区域的深度和/或宽度的预刻沟槽调制，以形成包含长标记(18，19)的载体图案，长标记的长度至少是预定最小数d个的通道位长度T的2倍，基本上长于扫描点的有效直径，以及在记录层的预定位置上形成调焦区域(12)的载体图案。2.根据权利要求1所述的记录载体，其中预刻沟槽调制包括0深度的预刻沟槽平坦区域(19)与预定深度和宽度的预刻沟槽凹陷区域(18)交替形成所述的载体图案。3.根据权利要求1或2所述的记录载体，其中记录载体包括至少第一记录层(40)和第二记录层(41)，第一记录层位于离入射面比第二记录层离入射面更近的位置，每个记录层都有调焦图案(12)。4.如权利要求3所述的记录载体，其中每一记录层在基本上相应的半径位置上都包括调焦图案(12)。5.如权利要求1所述的记录载体，其中预定最小数d是3个通道位长度T(d＝3T)，且长标记的长度至少是6T，尤其是长度范围为8T到14T。6.如权利要求1所述的记录载体，其中载体图案基本上只包括所述长标记。7.如权利要求1所述的记录载体，其中预刻沟槽调制代表根据预定的通道编码算法通过长标记进行编码的附加信息，预定的通道编码算法不同于代表所述记录信息的通道编码算法。8.一种经由辐射束(24)扫描记录载体(11)上的轨迹的设备...

【专利技术属性】
技术研发人员：WR科珀斯，PH沃尔里，HCF马坦斯，RJA范登奥特拉亚尔，JL巴克西，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]