刻板基材的承载治具、刻板基材及光盘母板的制作方法技术

一种刻板基材的承载治具，适于固定一基材，此基材具有一中心贯孔，且基材上已配置有一光阻层，其主要由一治具本体、一配重装置以及一中心锁固构件所构成。其中，治具本体具有一基材定位凹槽，此基材定位凹槽的中心位置上具有一凸起，且凸起的位置偏离治具本体一形心位置；配重装置可活动地配置于治具本体上，用以使得承载有基材的治具本体的重心维持在承载治具的形心位置上；而中心锁固构件可与上述的凸起结合，以将基材锁固于基材定位凹槽中。此外，本发明专利技术通过上述的承载治具进行刻板基材以及后续的光盘母板的制作。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种刻板基材的承载治具、刻板基材的制作方法以及光盘母板(stamper)的制作方法，且特别是有关于一种能够提升产能的刻板基材的承载治具、刻板基材的制作方法以及光盘母板的制作方法。
技术介绍
光盘片由于具有储存容量大、保存容易、保存期限长、成本低廉、与资料不易损害等优点，已逐渐取代一般传统的磁性储存媒体，而成为现代人不可或缺的媒体之一，例如播放音乐的雷射音碟(CD-Audio)、可同时播放影像及音乐的雷射影碟(Video CD)、可记录式光盘片(CD-R)，以及存放计算机档案资料的只读存储型光盘片(CD-ROM)等。由于雷射光电产品的生产制造技术以及多媒体影音压缩技术日益成熟，未来光储存媒体的发展方向皆朝向高容量、小尺寸发展，因此光盘尺寸上的研发更是如火如荼的进行着。图1绘示为公知微光盘制作工艺中刻板基材的结构示意图。请参照图1，一般微光盘在进行其刻板基材的制作时，通常是采用直径24公分或20公分的圆形玻璃基材100，并通过旋涂(spin coating)、软烤、硬烤等程序形成一厚度均匀的光阻层102于基材100的表面上。接着令基材100以其形心为轴旋转，并通过雷射曝光的方式将资料记录于光阻层102上。经雷射曝光之后的光阻层102仍须经过显影的步骤方可形成一资料记录区域104，此资料记录区域104中主要是由一些凹陷或凹槽(pits/groove)所构成，且这些凹陷或凹槽通常会构成一螺旋状的记录轨迹(track)。公知的刻板制作工艺中，由于微光盘的资料记录区域仅需3公分至4.5公分左右，因此公知的刻板制作工艺仅利用到基材中心的小部份区域，其它区域均未有效力地利用到，因此刻板基材在冲压后，废料的产出便会相当地多。此外，公知的刻板制作工艺仅能在基材上制作一个微光盘的资料记录区域，并无法在同一基材上制作出多个资料记录区域，故在制作上较为耗时。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在提供一种刻板基材的承载治具，其可使得雷射曝光制作工艺在同一基材上的不同位置形成多个资料记录区域，以更有效地利用基材。本专利技术的另一目的在提供一种刻板基材的制作方法，其可在同一基材上的不同位置形成多个资料记录区域，以降低基材冲压后废料的产出，进而降低成本。本专利技术的再一目的在提供一种光盘母板的制作方法，可同时制作出多个微光盘母板，以使得微光盘母板的制作与开发更为快速。为达上述和其它目的，本专利技术提出一种刻板基材的承载治具，适于固定一基材，此基材具有一中心贯孔，且基材上配置有一光阻层，上述的刻板基材的承载治具主要由一治具本体、一配重装置以及一中心锁固构件所构成。其中，治具本体具有一基材定位凹槽，此基材定位凹槽的分布范围涵盖治具本体的形心位置，基材定位凹槽的中心位置上具有一凸起，且凸起的位置偏离治具本体的形心位置；配重装置可活动地配置于治具本体上，用以使得承载有基材的治具本体的重心维持在承载治具的形心位置上；而中心锁固构件可与上述的凸起结合，以将基材锁固于基材定位凹槽中。本实施例中，基材上的中心贯孔例如为圆形贯孔或是多边形贯孔等，而基材定位凹槽中的凸起例如为圆形凸起或是多边形凸起等对应的型态。此外，基材上例如具有一凹槽，此凹槽位于基材的中心位置上，其作用在于能够让中心锁固构件不会凸出于光阻层表面。为达上述和其它目的，本专利技术提出一种刻板基材的承载治具，适于固定一表面上配置有光阻层的基材，上述的刻板基材的承载治具主要由一治具本体以及一配重装置所构成。其中，治具本体具有一基材定位凹槽，此基材定位凹槽的分布范围涵盖治具本体的形心位置，基材定位凹槽底部例如具有至少一真空贯孔，且基材定位凹槽的中心位置偏离治具本体的形心位置；而配重装置可活动地配置于治具本体上，以使承载有基材的治具本体的重心维持在形心位置上。本实施例中，基材定位凹槽底部例如具有一环形或是圆形凹槽，而此环形凹槽或圆形凹槽底部具有上述的真空贯孔，这些真空贯孔将可以更有效地将基材吸附住。本实施例中，基材上例如具有至少一辅助孔，其例如邻近于基材的边缘，辅助孔用以转动基材使其在基材定位凹槽中的方位改变。此外，基材上例如具有多个位于基材边缘的对位标记，这些对位标记对于基材转动后的定位作业有所帮助。本实施例中，配重装置例如由一配重砝码以及一止付螺栓所构成，配重砝码例如具有一定位孔，而此定位孔适于与上述的止付螺栓结合。此外，治具本体上例如具有一滑道，而上述的配重砝码配置于滑道上，并通过止付螺栓定位于滑道上。本实施例中，治具本体上例如具有至少一配重孔，此配重孔例如邻近于配重装置，其对于承载治具同样具有配重的功能。本实施例中，治具本体例如具有至少一卸载凹槽，此卸载凹槽例如位于基材定位凹槽的边缘上，以利将基材从基材定位凹槽中取出。本实施例承载治具，可于治具本体上增加配置至少一辅助定位构件或定位栓，此辅助定位构件或定位栓例如凸出于基材定位凹槽的侧壁，用以固定基材定位凹槽中的基材。为达上述和其它目的，本专利技术提出一种刻板基材的制作方法，主要包括下列步骤(a)提供一基材，此基材表面上已形成有一光阻层；(b)提供一承载治具，此承载治具具有一基材定位凹槽，其中基材定位凹槽的分布范围涵盖治具本体的形心位置，且基材定位凹槽的中心位置偏离承载治具的形心位置；(c)将基材固定于基材定位凹槽中，并使得承载有基材的承载治具的重心位于承载治具的形心位置上；(d)令承载治具以形心位置为轴旋转；以及(e)于形心位置上方的基材形成一第一资料记录区域。本实施例上述刻板基材的制作方法中，在第一记录区域形成之后更包括下列步骤(f)调整基材在基材定位凹槽中的方位；以及(g)于形心位置上方的基材形成一第二资料记录区域。此外，可重复步骤(f)至(g)至少一次，以于基材上形成多个资料记录区域。为达上述和其它目的，本专利技术提出一种光盘母板的制作方法，包括下列步骤(a)提供一基材，此基材表面上已形成有一光阻层；(b)提供一承载治具，此承载治具具有一基材定位凹槽，其中基材定位凹槽的分布范围涵盖治具本体的形心位置，且基材定位凹槽的中心位置偏离承载治具的形心位置；(c)将基材固定于基材定位凹槽中，并使得承载有基材的承载治具的重心位于承载治具的形心位置上；(d)令承载治具以形心位置为轴旋转；(e)于形心位置上方的基材形成一第一资料记录区域；(f)调整基材在基材定位凹槽中的方位；(g)于形心位置上方的基材形成一第二资料记录区域；(h)重复步骤(e)至(f)至少一次，以将基材制作成一刻板基材；(i)形成一金属层于刻板基材上；以及(j)将金属层与刻板基材剥离，其中金属层即为一光盘母板。本实施例中，金属层的形成方式例如先形成一第一金属层于刻板基材表面，此第一金属层与刻板基材表面共形，接着再以例如电铸的方式形成一上表面平坦的第二金属层于第一金属层上。本实施例中，金属层与刻板基材剥离的方式例如先将基材由金属层上剥离，接着再通过化学药剂将光阻层与金属层上剥除。上述刻板基材以及光盘母板的制作方法中，第一资料记录区域与第二资料记录区域例如通过一雷射曝光搭配一显影的方式形成。为让本专利技术的上述和其它目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举一较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下附图说明图1绘示为公知微光盘制作工艺中刻板基材的结构示意图； 图2与图3绘示为依照本专利技术一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种刻板基材的承载治具，适于固定一基材，该基材具有一中心贯孔，且该基材上配置有一光阻层，该刻板基材的承载治具包括：一治具本体，该治具本体具有一基材定位凹槽，该基材定位凹槽的分布范围涵盖该治具本体的一形心位置，其中该基材定位凹槽的一中 心位置上具有一凸起，且该凸起的位置偏离该治具本体的该形心位置；一配重装置，可活动地配置于该治具本体上，以使承载有该基材的该治具本体的重心维持在该承载治具的该形心位置上；以及一中心锁固构件，该中心锁固构件适于与该凸起结合，以将 该基材锁固于该基材定位凹槽中。

【技术特征摘要】
1.一种刻板基材的承载治具，适于固定一基材，该基材具有一中心贯孔，且该基材上配置有一光阻层，该刻板基材的承载治具包括一治具本体，该治具本体具有一基材定位凹槽，该基材定位凹槽的分布范围涵盖该治具本体的一形心位置，其中该基材定位凹槽的一中心位置上具有一凸起，且该凸起的位置偏离该治具本体的该形心位置；一配重装置，可活动地配置于该治具本体上，以使承载有该基材的该治具本体的重心维持在该承载治具的该形心位置上；以及一中心锁固构件，该中心锁固构件适于与该凸起结合，以将该基材锁固于该基材定位凹槽中。2.如权利要求1所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该中心贯孔包括圆形贯孔、多边形贯孔。3.如权利要求2所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该凸起包括圆形凸起、多边形凸起。4.如权利要求1所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该基材还包括至少一辅助孔，该辅助孔邻近于该基材边缘。5.如权利要求1所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该基材还包括一凹槽，该凹槽位于该基材的该中心位置上。6.如权利要求1所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该基材还包括复数个对位标记，该些对位标记位于该基材边缘。7.如权利要求1所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该治具本体还包括至少一配重孔，该配重孔邻近于该配重装置。8.如权利要求1所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该治具本体还包括至少一卸载凹槽，该卸载凹槽位于该基材定位凹槽的边缘上。9.如权利要求1所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该配重装置包括一配重砝码，该配重砝码具有一定位孔以及一止付螺栓，适于与该定位孔结合。10.如权利要求9所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该治具本体还包括一滑道，其中该配重砝码配置于该滑道上，并通过该止付螺栓将该配重砝码定位于该滑道上。11.如权利要求1所述的刻板基材的承载治具，其特征在于还包括至少一辅助定位构件，该辅助定位构件配置于该治具本体上，且该辅助定位构件凸出于该基材定位凹槽的侧壁，以固定故该基材。12.如权利要求1所述的刻板基材的承载治具，其特征在于还包括至少一定位栓，该定位栓配置于该治具本体上，且该定位栓凸出于该基材定位凹槽的侧壁，以固定故该基材。13.一种刻板基材的承载治具，适于固定一基材，该基材上配置有一光阻层，其特征在于该刻板基材的承载治具包括一治具本体，该治具本体具有一基材定位凹槽，该基材定位凹槽的分布范围涵盖该治具本体的一形心位置，该基材定位凹槽底部具有至少一真空贯孔，其中该基材定位凹槽的一中心位置偏离该治具本体的一形心位置；一配重装置，可活动地配置于该治具本体上，以使承载有该基材的该治具本体的重心维持在该形心位置上。14.如权利要求13所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该基材上还包括至少一辅助孔，该辅助孔邻近于该基材边缘。15.如权利要求13所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该治具本体还包括至少一配重孔，该配重孔邻近于该配重装置。16.如权利要求13所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该基材还包括复数个对位标记，该些对位标记位于该基材边缘。17.如权利要求13所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该治具本体还包括至少一卸载凹槽，该卸载凹槽位于该基材定位凹槽的边缘上。18.如权利要求13所述的刻板基材的承载治具，其特征在于该基材定位凹槽底部具有一环形凹槽，且该环形凹槽底部具有该真空贯孔。19...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈界文，陈俊宏，
申请(专利权)人：铼德科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]