一种废液排放组件与匀胶显影机制造技术

本申请提供了一种废液排放组件与匀胶显影机，涉及废液处理技术领域。该废液排放组件包括废液槽，用于容纳光刻胶废液；多个喷胶单元，每个喷胶单元均通过独立的第一管道与废液槽连通，且每个喷胶单元产生的光刻胶废液均通过第一管道排放至废液槽。本申请提供的废液排放组件与匀胶显影机具有不易发生废液的回灌，晶圆生产的良率高的优点。晶圆生产的良率高的优点。晶圆生产的良率高的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种废液排放组件与匀胶显影机


[0001]本申请涉及废液处理
，具体而言，涉及一种废液排放组件与匀胶显影机。

技术介绍

[0002]光刻胶废液的排放机制，为匀胶显影机不可或缺的机制，主要功能在于让光刻胶废液顺利排放，进而不会因为光刻胶废液影响晶圆的良率。
[0003]其中，匀胶显影机中一般包括多个喷胶单元，目前的废液排放机制为：通过一条主管道分别连通多个喷胶单元，且该主管道与废液槽连通，喷胶单元产生的光刻胶废液通过主管道排放至废液槽中。
[0004]然而，目前的废液排放机制容易造成废液回灌，进而影响晶圆良率。即当其中一个喷胶单元在通过主管道排放废液时，废液可能通过主管道回灌至另一喷胶单元中，进而影响了另一喷胶单元在生产晶圆时的良率。
[0005]综上，目前的废液排放机制容易出现废液的回灌，进而影响晶圆生产的良率。

技术实现思路

[0006]本申请的目的在于提供一种废液排放组件与匀胶显影机，以解决现有技术中匀胶显影机在进行废液排放时，容易出现废液回灌的问题。
[0007]为了实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案如下：
[0008]一方面，本申请实施例提供了一种废液排放组件，所述废液排放组件包括：废液槽，用于容纳光刻胶废液；多个喷胶单元，每个所述喷胶单元均通过独立的第一管道与所述废液槽连通，且每个所述喷胶单元产生的光刻胶废液均通过所述第一管道排放至所述废液槽。
[0009]可选地，所述喷胶单元包括泵与阀门，所述泵与所述阀门连通，且所述阀门通过所述第一管道与所述废液槽连通；所述泵用于在所述阀门开启时，将光刻胶废液通过所述第一管道排放至所述废液槽。
[0010]可选地，所述废液排放组件还包括涂胶单元，所述涂胶单元与每个所述喷胶单元的泵连通，且所述涂胶单元还通过第二管道与所述废液槽连通；所述泵用于向所述涂胶单元输送光刻胶，所述涂胶单元用于放置待加工晶圆并对所述待加工晶圆涂覆光刻胶，所述光刻胶与所述待加工晶圆作用后产生的光刻胶废液通过所述第二管道排放至所述废液槽。
[0011]可选地，所述废液槽为密封废液槽，所述废液排放组件还包括负压产生装置，所述负压产生装置通过第三管道与所述废液槽连通，用于将所述废液槽内的废液蒸汽排出。
[0012]可选地，所述废液排放组件还包括冷凝管，所述负压产生装置包括抽风机，所述抽风机的入风口通过所述第三管道与所述废液槽连通，所述抽风机的出风口通过所述冷凝管与所述废液槽连通，废液蒸汽冷凝时形成的废液经所述冷凝管回流至所述废液槽。
[0013]可选地，所述废液排放组件还包括冷却液循环装置，所述冷却液循环装置与所述冷凝管连接，以对所述冷凝管降温。
[0014]可选地，所述废液排放组件还包括涂胶单元，所述涂胶单元也通过所述第三管道与所述废液槽连通。
[0015]可选地，所述第一管道位于所述废液槽的一侧，所述第三管道位于所述废液槽的另一侧。
[0016]可选地，所述废液排放组件还包括废液处理设备，所述废液处理设备与所述废液槽的底部通过第四管道连通。
[0017]另一方面，本申请实施例还提供了一种匀胶显影机，所述匀胶显影机包括上述废液排放组件。
[0018]相对于现有技术，本申请具有以下有益效果：
[0019]本申请提供了一种废液排放组件与匀胶显影机，该废液排放组件包括废液槽，用于容纳光刻胶废液；多个喷胶单元，每个喷胶单元均通过独立的第一管道与废液槽连通，且每个喷胶单元产生的光刻胶废液均通过第一管道排放至废液槽。由于喷胶单元通过独立的第一管道与废液槽连通，因此当任意一个喷胶单元在进行光刻胶废液的排放时，均不会对其它喷胶单元造成回灌，进而不会影响晶圆生产的良率。
[0020]为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它相关的附图。
[0022]图1为现有技术中废液排放组件的一种模块示意图。
[0023]图2为本申请实施例中废液排放组件的第一种模块示意图。
[0024]图3为本申请实施例中废液排放组件的第二种模块示意图。
[0025]图4为本申请实施例中废液排放组件的第三种模块示意图。
[0026]图5为本申请实施例中废液排放组件的第四种模块示意图。
[0027]图6为本申请实施例中废液排放组件的第五种模块示意图。
[0028]图7为本申请实施例中废液排放组件的第六种模块示意图。
[0029]图中：100
‑
废液排放组件；110
‑
废液槽；120
‑
喷胶单元；121
‑
阀门；122
‑
泵；130
‑
第一管道；140
‑
涂胶单元；150
‑
第二管道；160
‑
负压产生装置；170
‑
第三管道；180
‑
冷凝管；190
‑
废液处理设备；200
‑
第四管道。
具体实施方式
[0030]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0031]因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护
的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0032]下面结合附图，对本申请的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0033]正如
技术介绍
中所述，匀胶显影机中一般包括多个喷胶单元，目前的废液排放机制为：通过一条主管道分别连通多个喷胶单元，且该主管道与废液槽连通，喷胶单元产生的光刻胶废液通过主管道排放至废液槽中。
[0034]其中，光刻胶废液是指包含杂质的光刻胶，或其它可能影响晶圆质量的光刻胶，例如，存在气泡的光刻胶，若将该部分光刻胶涂覆于待加工晶圆的表面，则可能造成加工的晶圆不合格，良率不高。因此，对于这部分光刻胶，需要将其直接排放至废液槽中，
[0035]然而，在排除这部分光刻胶废液时，有可能出现光刻胶废液回灌的情况。例如，如图1所示，该废液排放组件中包括A、B、C、D、E五个喷胶单元，且该五个喷胶单元均与主本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种废液排放组件，其特征在于，所述废液排放组件包括：废液槽，用于容纳光刻胶废液；多个喷胶单元，每个所述喷胶单元均通过独立的第一管道与所述废液槽连通，且每个所述喷胶单元产生的光刻胶废液均通过所述第一管道排放至所述废液槽。2.如权利要求1所述的废液排放组件，其特征在于，所述喷胶单元包括泵与阀门，所述泵与所述阀门连通，且所述阀门通过所述第一管道与所述废液槽连通；所述泵用于在所述阀门开启时，将光刻胶废液通过所述第一管道排放至所述废液槽。3.如权利要求2所述的废液排放组件，其特征在于，所述废液排放组件还包括涂胶单元，所述涂胶单元与每个所述喷胶单元的泵连通，且所述涂胶单元还通过第二管道与所述废液槽连通；所述泵用于向所述涂胶单元输送光刻胶，所述涂胶单元用于放置待加工晶圆并对所述待加工晶圆涂覆光刻胶，所述光刻胶与所述待加工晶圆作用后产生的光刻胶废液通过所述第二管道排放至所述废液槽。4.如权利要求1所述的废液排放组件，其特征在于，所述废液槽为密封废液槽，所述废液排放组件还包括负压产生装置，所述负压产生装置通过第三管道与所述废液槽连通...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶光尧，黄宽信，江奇纮，
申请(专利权)人：泉芯集成电路制造济南有限公司，
类型：新型
国别省市：