读取信息的光学装置和确定质量不平衡的方法制造方法及图纸

一种光学播放器或记录装置配备了检测在记录载体（２）上的不平衡的质量不平衡检测装置（２０）。在记录载体（２）以相对较高的速度旋转时它在光学装置中产生了振动和声音。在检测质量不平衡时，通过减小速度以便减小在光学装置中的振动和声音。使用滑架（５）的状态（Ｔ）检测质量不平衡。滑架（５）在径向方向（Ｄ）上的位置是一种状态（Ｔ）。滑架（５）的当前位置通过绝对测量装置测量。在滑架（５）的调整点（Ｗ）和当前位置之间的差（Ｐｅ）的幅值用于确定质量不平衡。在差值（Ｐｅ）的幅值和由质量不平衡引起的振动量之间存在一定的关系。如果检测到质量不平衡，则记录载体（２）的旋转速度可以被降低。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及读取在要插入其中的光学可读记录载体的表面上的轨道上的信息的光学装置，该装置包括-容纳并以旋转频率fr旋转记录载体的旋转装置；-产生辐射束的辐射源；-沿着该表面并在相对轨道横向的第一方向上可移动的滑架；-在该轨道上导向辐射的物镜，该物镜连接到滑架；-使物镜相对于滑架在所说的第一方向上相对运动的传动装置；-确定滑架的状态的状态确定装置，和-确定要容纳的记录载体的质量不平衡的检测装置；本专利技术进一步涉及确定能够在记录载体的轨道上读取信息的光学装置中存在的光学可读记录载体的质量不平衡的方法，其中光学装置包括-沿着该表面并在相对轨道横向的第一方向上可移动的滑架；-产生辐射束的辐射源；-在该轨道上导向该辐射的物镜，该物镜连接到滑架；-使物镜相对于滑架在所说的第一方向上相对运动的传动装置；以及其中该方法包括如下的步骤-以旋转频率fr旋转记录载体；-使辐射束跟踪轨道，使用所说的滑架和所说的传动装置，以及-确定滑架的状态。这种光学装置的实施例公开在EP-A-0 821 356中。在这种公知的光学装置中，记录载体的质量不平衡通过使用跟踪误差信号或旋转控制信号检测。跟踪误差信号的幅值指示辐射束的实际位置与在第一方向中所需的位置不同的程度。旋转控制信号确定旋转装置旋转记录载体的速度。如果记录载体的质量相对于旋转中心分布不均匀，则会发生质量不平衡。如果具有质量不平衡的记录载体以例如6000rpm的高速旋转，则可能产生振动。所说的振动可能导致在由辐射束覆盖的轨道部分和旋转中心之间的距离的变化。结果，跟踪误差信号的幅值可以高于没有质量不平衡的记录载体的幅值。如果跟踪误差信号的幅值的绝对值高于预定的第二阈值，则这可以通过公知的光学装置的检测装置检测。超过第二阈值的跟踪误差信号的绝对值指示记录载体可能具有质量不平衡。如果轨道绕记录载体的旋转中心离心地延伸，则跟踪误差信号的绝对值也可能超过第二阈值。在下文中使用子轨道的术语，子轨道是完全包围记录载体的中心的轨道部分。公知的光学装置具有保持状态。这是这样的状态其中由于辐射束重复地跳回到在当前的子轨道之前的子轨道的结果重复地读取部分轨道。如果记录载体具有质量不平衡，则旋转控制信号的幅值将高于没有质量不平衡的记录载体的情况。这其中的原因在于在质量不平衡的情况下记录载体在辐射束跳跃的位置之间不均匀地旋转。旋转控制器试图平整在由质量不平衡引起的旋转速度ω中的干扰。结果，旋转控制信号的幅值可能更高。公知的光学装置的检测装置检测旋转控制信号的幅值的绝对值超过预定的第二阈值的点。超过第二阈值的旋转控制信号的绝对值指示记录载体的质量不平衡。公知的光学装置的检测装置将旋转控制信号的幅值与预定的阈值进行比较。超过所说的阈值的值意味着记录载体的质量不平衡太大。专利技术概述本专利技术的第一目的是提供一种参考开始段落中所述类型的光学装置，其中检测装置能够以变型的方式实施质量不平衡的确定。本专利技术的第二目的是提供一种参考开始段落中所述类型的以变型的方式实施质量不平衡的检测的方法。第一目的通过根据本专利技术的光学装置实现，其中检测装置能够使用滑架的状态来确定质量不平衡。滑架的状态可以是滑架在径向方向上的位置、滑架的速度、滑架的加速度或者其组合。如果记录载体具有质量不平衡，则在该光学装置中可能产生振动，特别是如果使用相对较高的旋转速度。这可能影响滑架的状态。振动影响滑架的位置、速度或加速度的变化。因此，由质量不平衡引起的影响也可以通过确定滑架的状态确定，并且滑架的状态因此可用于质量不平衡的检测。在已经建立了存在质量不平衡后，随后的步骤可以是拒绝记录载体。但是，从光学装置的具体实施例中可以清楚看到，可替换的随后步骤也可以。在光学装置的一个实施例中，状态确定装置包括确定滑架在第一方向上的当前位置的绝对测量系统，其中该状态包括滑架的当前位置，以及其中该光学装置进一步包括通过确定在滑架的当前位置和滑架的所需位置之间的差值界定位置误差信号的差值确定装置，该检测装置能够使用滑架的位置误差信号确定质量不平衡。这个实施例很容易以已有的光学装置实施。已有的光学装置通常包括确定滑架在径向方向上的当前位置的绝对测量系统。所说的光学装置使用控制滑架的位置的位置跟踪信号。由质量不平衡引起的振动可能使得难以控制滑架的位置并使位置误差信号的幅值变得更高。在光学装置的这个实施例的进一步实施方式中，检测装置包括从位置误差信号中导出的幅值E低于第一阈值的最大旋转频率fm的步骤。由于振动量在相对较高的旋转速度下比在相对较低的旋转速度下更大，因此所说的振动在更高的旋转速度下跟踪轨道方面对光学装置的性能的影响更大。此外，在光学装置中由于所说的振动的结果产生了声音，这是不希望的。旋转频率因此不可能没有限制地增加。因此，存在一个光学装置仍然能够正确地发挥作用的最大旋转频率。幅值E例如可以是位置误差信号的幅值的绝对值。由于位置误差信号的幅值取决于由质量不平衡引起的振动，因此它可以通过比较幅值E和第一阈值确定最大的旋转频率fm。如果具有相对较小或者根本没有质量不平衡的记录载体存在于该装置中，则前述的影响可能不发生，即使记录载体以最大可实现的旋转频率fmax旋转。在这种情况下最大旋转频率fm等于最大可实现的旋转频率fmax。最大的旋转频率fm的确定可以通过从相对较低的旋转频率开始并随后将所说的频率增加到幅值E仍然低于第一阈值的最大旋转频率fm。可替换的是，可以以相对较高的旋转频率开始并在随后将其降低到幅值低于第一阈值的最大旋转频率。在光学装置的这种实施例的修改中，检测装置包括传送包括位置误差信号的经滤波的信号的第一滤波装置，其中具有低于第一频率的频率的分量被抑制，这种第一频率低于旋转频率fr，以及从经滤波的信号中确定幅值E的幅值确定装置。位置误差信号可以包含直流分量。如果幅值R直接是位置误差信号的幅值，如前述的实施例中那样，并且所说的幅值与第一阈值比较，则质量不平衡的检测将由于直流的存在而不能最佳地作用。由质量不平衡引起的振动对直流分量具有相对较小的影响。作为抑制直流分量的结果，在首先滤去了位置误差信号时实现了改善的检测。幅值确定装置随后确定第一经滤波的信号的幅值。这个幅值因此是前述的从位置误差信号中导出的幅值E，该位置误差信号通过检测装置与第一阈值比较。幅值确定装置通过经滤波的幅值的最小值和最大值确定幅值E并随后从最大值中减去最小值。可替换的是，可以确定第一经滤波的信号的幅值的绝对值并随后确定所说的绝对值的平均以获得幅值E。第二目的以根据本专利技术的方法实现，其中该方法使用确定质量不平衡的状态。在本方法的一种实施例中，光学装置进一步包括确定滑架的当前位置的绝对测量系统，其中该状态包括滑架在第一方向上的位置，这个方法包括通过确定在滑架的当前位置和滑架的所需位置之间的差值的滑架的位置误差信号，该方法使用位置误差信号确定质量不平衡。在本实施例的一种改进中，该方法包括确定从位置误差信号中导出的幅值E低于第一阈值的最大旋转频率fm的进一步的步骤。如果幅值E具有比第一阈值更低的值，则将限制干扰的影响。在幅值E第一阈值的旋转频率的情况下，光学装置将在记录载体上读取信息方面几乎没有困难，此外产生声音的程度将受到限制。有利的是确定幅值E低于第一阈值并且干扰的影响因此受到限制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种读取在要置于其中的光学可读记录载体（２）的表面上的轨道上的信息的光学装置，该装置包括：－容纳并以旋转频率ｆ↓［ｒ］旋转记录载体（２）的旋转装置（３）；－产生辐射束的辐射源（４）；－沿着该表面并在相对轨道横向的第一 方向（Ｄ）上可移动的滑架（５）；－在该轨道（１）上导向该辐射的物镜（６），该物镜（６）连接到滑架（５）；－使物镜（６）相对于滑架（５）在所说的第一方向（Ｄ）上相对运动的传动装置（７）；－确定滑架（５）的状态（Ｔ）的状 态确定装置（２１），和－确定要容纳的记录载体的质量不平衡的检测装置（２１）；其特征在于所说的检测装置（２０）能够使用滑架的状态（Ｔ）来确定质量不平衡。

【技术特征摘要】
EP 2001-12-19 01205008.41.一种读取在要置于其中的光学可读记录载体(2)的表面上的轨道上的信息的光学装置，该装置包括-容纳并以旋转频率fr旋转记录载体(2)的旋转装置(3)；-产生辐射束的辐射源(4)；-沿着该表面并在相对轨道横向的第一方向(D)上可移动的滑架(5)；-在该轨道(1)上导向该辐射的物镜(6)，该物镜(6)连接到滑架(5)；-使物镜(6)相对于滑架(5)在所说的第一方向(D)上相对运动的传动装置(7)；-确定滑架(5)的状态(T)的状态确定装置(21)，和-确定要容纳的记录载体的质量不平衡的检测装置(21)；其特征在于所说的检测装置(20)能够使用滑架的状态(T)来确定质量不平衡。2.权利要求1所述的光学装置，其特征在于状态确定装置(21)包括确定滑架(5)在第一方向(D)上的当前位置的绝对测量系统，其中该状态(T)包括滑架(5)的当前位置，以及其中该光学装置进一步包括通过确定在滑架(5)的当前位置和滑架(5)的所需位置(W)之间的差值界定位置误差信号(Pe)的差值确定装置(9)，所说的检测装置(20)能够使用滑架(5)的位置误差信号(Pe)来确定质量不平衡。3.权利要求2所述的光学装置，其特征在于检测装置(20)包括从位置误差信号中导出的幅值E低于第一阈值的最大旋转频率fm的步骤。4.权利要求3所述的光学装置，其特征在于检测装置(20)包括-传送包括位置误差信号的经滤波的信号(FS)的第一滤波装置(10)，其中具有低于第一频率的频率的分量被抑制...

【专利技术属性】
技术研发人员：JALJ拉亚马克斯，HP范德卡尔，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]