磁记录媒体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种磁记录媒体的制造方法，能够确实高效率地制造具有表面充分平坦且记录.再现精度高的凹凸图案的记录层的磁记录媒体。包括在凹凸图案的记录层（３２）上形成封顶膜（４２）的封顶膜形成工序；在封顶膜（４２）上形成下侧非磁性膜（３６Ａ）的下侧非磁性膜形成工序；在下侧非磁性膜（３６Ａ）上形成上侧非磁性膜（３６Ｂ）的上侧非磁性膜形成工序，至少在上侧非磁性膜形成工序中对被加工体施加偏置功率，而且，在下侧非磁性膜形成工序中不施加偏置功率，或者相比于上侧非磁性膜形成工序将偏置功率抑制得小，将非磁性材料（３６）填充到凹凸图案的凹部（３４）内。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种由凹凸图案形成记录层的。
技术介绍
以往，通过使构成记录层的磁性粒子微细化、变更材料、使磁头加工微细化等改良，显著地提高硬盘等磁记录媒体的面记录密度，今后还要期待进一步提高面记录密度。但是，明显存在磁头的加工极限、磁场的扩展引起的侧纹、交调干扰等问题，从而限制了用原来的改良方法对面记录密度的提高。因此，作为能实现进一步提高面记录密度的磁记录媒体的候补方案，已经提出了如下方案由规定的凹凸图案形成记录层并在凹凸图案的凹部填充非磁性材料而构成分离磁迹型的磁记录媒体(例如参照专利文献1)。可以采用反应性离子蚀刻等干蚀刻的方法(例如参照专利文献2)作为以规定的凹凸图案形成记录层的加工技术。另外，还可以采用溅射法、CVD(化学气相淀积)法、IBD(离子束淀积)等成膜方法作为实现非磁性材料的填充的手段。而且，使用这些成膜方法时，非磁性材料不仅在凹凸图案的凹部，而且在凸部上面都会形成膜，非磁性材料的表面也对应于记录层的凹凸形状而形成为凹凸形状。为得到良好的磁特性，最好尽可能地除掉记录层上的非磁性材料。而由于在磁记录媒体的表面上存在阶差会产生磁头悬浮不稳定和异物的堆积等问题，所以，最好除掉记录层上剩余的非磁性材料，并使表面平坦。对于除掉该记录层上剩余的非磁性材料以及使表面平坦化，可以采用CMP(化学机械抛光)法或正交离子束蚀刻等加工技术。而且，如果把成膜的非磁性材料的表面的凹凸作小，因此而容易用平坦化工序使表面平坦化。因此，在使非磁性材料成膜的工序中最好极力把非磁性材料的表面凹凸抑制到很小。对此，对被加工体施加偏置功率来将非磁性材料成膜的方法已经公知(例如参照专利文献3)。在施加偏置功率成膜的情况下，把非磁性材料成膜的成膜作用和由偏置功率赋予势能的气体等蚀刻已经成膜的非磁性材料的蚀刻作用同时进行，成膜作用超过蚀刻作用来进行成膜，但是由于蚀刻作用有可能将被成膜的非磁性材料的突出的部位比其他部位有选择地更快除掉，所以该蚀刻作用能够在非磁性材料的成膜工序中把表面的凹凸抑制到很小。因此，用平坦化工序就能够高效率充分地使表面平坦化。专利文献1为日本公开专利特开平9-97419号公报，专利文献2为日本公开专利特开平12-322710号公报，专利文献3为日本公开专利特开2000-311937号公报。但是，施加偏置功率的成膜方法通过蚀刻作用会将记录层的一部分和非磁性材料一起除掉，这样，就使记录层的磁特性恶化，使记录·再现精度降低。为了在平坦化工序中保护记录层，在记录层上形成平坦化工序中的加工程度低的封顶膜(ストツプ膜)，这种情况下，虽然将非磁性材料成膜在封顶膜上，但是非磁性材料成膜时的蚀刻作用也会将封顶膜的一部分与非磁性材料一起除掉。这样，会损害封顶膜的功能，并在平坦化工序中加工记录层，也会使磁特性恶化。
技术实现思路
鉴于上述的问题，本专利技术的目的是提供一种，能够确实高效率地制造具有表面充分平坦且记录·再现精度高的凹凸图案的记录层的磁记录媒体。本专利技术解决上述问题的方法是不施加偏置功率，或将偏置功率抑制到很小，在凹凸图案的记录层上形成下侧非磁性膜后，施加偏置功率，在下侧非磁性膜上形成上侧非磁性膜。施加偏置功率来形成上侧非磁性膜就能够将上侧非磁性膜的表面凹凸抑制得很小，而且由于在记录层上形成有下侧非磁性膜，所以在上侧非磁性膜形成工序中可以保护记录层不受蚀刻作用。另外，在下侧非磁性膜形成工序中通过上侧非磁性膜形成工序而将偏置功率抑制得很小，从而在下侧非磁性膜形成工序中也可以保护记录层不受蚀刻作用。因此，能够用非磁性材料填充凹部并将表面凹凸抑制得很小，而不使记录层的磁特性恶化。为了提高防止记录层的磁特性恶化的效果，最好不施加偏置功率来形成下侧非磁性膜。在记录层上形成平坦化工序中的加工程度低的封顶膜的情况下，通过在封顶膜上形成下侧非磁性膜，从而在上侧非磁性膜形成工序中也能够保护封顶膜不受蚀刻作用，能够防止封顶膜功能的恶化。即，用如下的本专利技术能够解决上述的课题。(1)一种，该磁记录媒体在基板上以规定的凹凸图案形成记录层，以非磁性材料填充到该凹凸图案的凹部中，其特征在于，包括在所述凹凸图案上形成下侧非磁性膜的下侧非磁性膜形成工序；在所述下侧非磁性膜上形成上侧非磁性膜的上侧非磁性膜形成工序，至少在该上侧非磁性膜形成工序中对所述基板施加偏置功率，并且，在所述下侧非磁性膜形成工序中相比于所述上侧非磁性膜形成工序，将偏置功率抑制得小，将所述非磁性材料填充到所述凹凸图案的凹部内。(2)如前述(1)所述的，其特征在于所述下侧非磁性膜形成工序在实质上不施加所述偏置功率的状态下形成所述下侧非磁性膜。(3)如前述(1)或(2)所述的，其特征在于所述下侧非磁性膜形成工序形成膜厚为1nm或1nm以上的所述下侧非磁性膜。(4)如前述(1)至(3)中任一项所述的，其特征在于在所述上侧非磁性膜形成工序之后设置使所述上侧非磁性膜的表面平坦化的平坦化工序。(5)如前述(4)所述的，其特征在于在所述下侧非磁性膜形成工序之前设置在所述记录层上形成封顶膜的封顶膜形成工序，该封顶膜相比于所述下侧非磁性膜和上侧非磁性膜，在所述平坦化工序中的加工率低。本申请中，所谓“在基板上以规定的凹凸图案形成记录层”，除了在基板上以规定的图案分割为多个记录要素(recording elements)来形成记录层、将这些记录要素作为凸部、在这些记录要素之间形成凹部的情况之外，还包含下面的各种情况在基板上以规定的图案局部分割形成记录层，将一部分连续的记录要素作为凸部，在该记录要素之间形成凹部的情况；例如像螺旋状的涡卷形记录层那样，在基板的一部分上形成连续的记录要素并把该记录要素作为凸部，在该记录要素之间形成凹部的情况；在基板上形成构成凸部和凹部双方的连续记录层的情况。本申请中，叫做“磁记录媒体”的术语的含义并不限定于仅用磁方式进行信息的记录、读取的硬盘、软盘、磁带等，还包含磁、光并用的MO(磁光盘)等光磁记录媒体、磁和热并用的热助型记录媒体。本专利技术能够通过对被加工体施加偏置功率来形成上侧非磁性膜，而将上侧非磁性膜的表面的凹凸抑制得很小。这样，就能够确实有效地使上侧非磁性膜的表面平坦化。而且，由于在记录层上形成有下侧非磁性膜，所以在上侧非磁性膜形成工序中能够保护记录层不受蚀刻作用，同时在下侧非磁性膜形成工序中把偏置功率抑制得比上侧非磁性膜形成工序中的小，因此在下侧非磁性膜形成工序中也可以保护记录层不受蚀刻作用，能够防止记录层的磁特性的恶化，并能够防止记录·再现精度的降低。在记录层上形成平坦化工序中加工率低的封顶膜的情况下，在封顶膜上形成下侧非磁性膜，所以在上侧非磁性膜形成工序中也可保护封顶膜不受蚀刻作用，并能够防止封顶膜功能的恶化。附图说明图1是本专利技术的实施例的被加工体的加工坯体的结构的侧断面示意图；图2是加工该被加工体得到的磁记录媒体的结构的侧断面示意图；图3是用于制造该磁记录媒体的偏置溅射装置的概略结构的侧面示意图；图4是该磁记录媒体的制造工序的概要流程图；图5是在抗蚀层上转印了凹凸图案的所述被加工体的形状的侧断面示意图；图6是分割了连续记录层的所述被加工体的形状的侧断面示意图；图7是在凹凸图案上形成了封顶膜的所述被加工体的形状的侧断面示意图；图8是在所述封顶膜上形成了下侧非磁性本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录媒体的制造方法，该磁记录媒体在基板上以规定的凹凸图案形成记录层，以非磁性材料填充到该凹凸图案的凹部中，其特征在于，包括：在所述凹凸图案上形成下侧非磁性膜的下侧非磁性膜形成工序；在所述下侧非磁性膜上形成上侧非磁性膜的上侧非磁 性膜形成工序，至少在该上侧非磁性膜形成工序中对所述基板施加偏置功率，并且，在所述下侧非磁性膜形成工序中相比于所述上侧非磁性膜形成工序，将偏置功率抑制得小，将所述非磁性材料填充到所述凹凸图案的凹部内。

【技术特征摘要】
JP 2003-10-28 2003-3675421.一种磁记录媒体的制造方法，该磁记录媒体在基板上以规定的凹凸图案形成记录层，以非磁性材料填充到该凹凸图案的凹部中，其特征在于，包括在所述凹凸图案上形成下侧非磁性膜的下侧非磁性膜形成工序；在所述下侧非磁性膜上形成上侧非磁性膜的上侧非磁性膜形成工序，至少在该上侧非磁性膜形成工序中对所述基板施加偏置功率，并且，在所述下侧非磁性膜形成工序中相比于所述上侧非磁性膜形成工序，将偏置功率抑制得小，将所述非磁性材料填充到所述凹凸图案的凹部内。2.如权利要求1所述的磁记录媒体的制造方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：诹访孝裕，高井充，服部一博，大川秀一，
申请(专利权)人：TDK股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]