全息记录介质制造技术

全息记录介质包括全息记录层和层叠在全息记录层上的透明衬底层。记录层记录记录光束和参考光束的干涉图案。透明衬底层有面对全息记录层的内表面，并且该表面形成有用于沿规定引导方向引导记录光束和参考光束的追踪区域。追踪区域的反射率比透明衬底层的内表面中的剩余区域的反射率高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及通过记录光束和参考光束的叠加照射记录全息图的全息记录介质。
技术介绍
在JP-A-H09-305978中公开了传统的全息记录介质的示例。该参考文件中所描述的全息记录介质有这样一种配置其中透明电介质层层叠在盘状衬底的整个一面上，而全息记录层层叠在透明电介质层上。全息记录介质整体上具有盘状外形。在用作与衬底的分界的透明电介质层的分界面上，以每1磁轨3个凸点的比率形成有用于磁道伺服的凸点。一个凸点精确地位于磁道上，而剩余的两个凸点位于相对于磁道沿相反方向(径向方向)偏移的位置上，从而将磁道夹在中间。例如，在记录期间，以用于记录的第一照射光束(参考光束)从衬底一侧照射形成有凸点的透明电介质层的分界面，从而使光束会聚在分界面上，并且从全息记录层一侧照射用于记录的第二照射光束(记录光束)，从而与用于记录的第一照射光束重叠，并同时会聚在全息记录层这一侧上的位置上。结果，由于用于记录的第一照射光束和用于记录的第二照射光束的重叠而生成的干涉图案被在全息记录层上记录为全息图。此时，在透明电介质层的分界面处反射用于记录的第一照射光束引起的反射光被光电探测器转换为再现信号，基于该再现信号移本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全息记录介质，包括：用于记录记录光束和参考光束的干涉图案的全息记录层；和层叠在所述全息记录层上的另一层；其中，所述另一层有形成有多个追踪区域的层表面，所述多个追踪区域用于沿引导方向引导所述记录光束和所述参考光束，其中，每个追踪区域的反射率比所述另一层的层表面中的剩余区域的反射率高。

【技术特征摘要】
JP 2004-11-30 2004-3470281.一种全息记录介质，包括用于记录记录光束和参考光束的干涉图案的全息记录层；和层叠在所述全息记录层上的另一层；其中，所述另一层有形成有多个追踪区域的层表面，所述多个追踪区域用于沿引导方向引导所述记录光束和所述参考光束，其中，每个追踪区域的反射率比所述另一层的层表面中的剩余区域的反射率高。2.如权利要求1所述的全息记录介质，其中，所述追踪区域沿垂直于所述引导方向的方向以预定间隔排列。3.如权利要求2所述的全息记录介质，还包括形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：宇野和史，手塚耕一，吉川浩宁，
申请(专利权)人：富士通株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]